The invention provides a vacuum exhaust device, a vacuum pump and a vacuum valve. The vacuum exhaust device can suppress the large-scale and realize the improvement of the actual exhaust speed. The vacuum valve (2) sets the outlet flange (202) to be larger than the suction flange (201) and has an opening containing the exhaust flange (202) and a flow path area (FR) in which the flow path area changes. The flow path area (FR) at the upstream side is set as the flow path area at the suction port flange (201). The section area of the outlet increases as it approaches the opening of the flange of the exhaust outlet (202).
【技术实现步骤摘要】
真空排气装置、真空泵及真空阀
本专利技术涉及一种真空排气装置、真空泵及真空阀。
技术介绍
于在真空设备的真空腔室装设涡轮分子泵等真空泵的情况下，通常多数情况下在真空泵的正上方连接真空阀而使用(例如，参照专利文献1)。关于真空阀的连接凸缘，通常连接于真空腔室的吸气侧与连接于真空泵的排气侧均使用相同口径的凸缘。且说，在将真空阀连接于真空泵的吸气口凸缘的构成的真空排气装置中，实效排气速度由真空泵的排气速度与真空阀的流导(conductance)决定。关于所述情况下的实效排气速度，在阀开度小的区域中，真空阀的流导的贡献为主导，在阀开度大的区域中，真空泵的排气速度的贡献为主导。因此，为了进一步增大阀开度大的区域中的实效排气速度，即便为相同口径也优选搭载排气速度更大的真空泵。专利文献1中记载的基板处理装置中，连接于自动压力控制(AutomaticPressureControl，APC)阀的排气侧的真空泵使用外筒的直径在吸气口凸缘附近缩小的构成的涡轮分子泵。通常，关于外筒的直径在吸气口凸缘附近缩小的构成的涡轮分子泵，旋转叶片外径被设定为大于外筒的直径并不缩小的涡轮分子泵的情况，...
【技术保护点】
1.一种真空阀，其特征在于包括：阀吸气口凸缘，设置于阀体；阀排气口凸缘，设置于所述阀体且与所述阀吸气口凸缘相比开口径大；阀板，设置于所述阀体内且与所述阀吸气口凸缘的开口径对应；阀驱动部，使所述阀板在配置于所述阀吸气口凸缘的中心轴上的关闭位置与自所述中心轴上退避的打开位置之间滑动驱动；以及气体流路区域，包含所述阀排气口凸缘的开口且流路剖面积发生变化，并且所述气体流路区域将上游侧区域端的流路剖面积设定为所述阀吸气口凸缘的开口剖面积，且越临近所述阀排气口凸缘的开口，流路剖面积越增加。
【技术特征摘要】
2017.05.29 JP 2017-105884;2018.02.16 JP 2018-026331.一种真空阀，其特征在于包括：阀吸气口凸缘，设置于阀体；阀排气口凸缘，设置于所述阀体且与所述阀吸气口凸缘相比开口径大；阀板，设置于所述阀体内且与所述阀吸气口凸缘的开口径对应；阀驱动部，使所述阀板在配置于所述阀吸气口凸缘的中心轴上的关闭位置与自所述中心轴上退避的打开位置之间滑动驱动；以及气体流路区域，包含所述阀排气口凸缘的开口且流路剖面积发生变化，并且所述气体流路区域将上游侧区域端的流路剖面积设定为所述阀吸气口凸缘的开口剖面积，且越临近所述阀排气口凸缘的开口，流路剖面积越增加。2.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于：所述阀吸气口凸缘的开口与所述阀排气口凸缘的开口形成于同一轴。3.根据权利要求2所述的真空阀，其特征在于：所述阀体具有设置有所述阀吸气口凸缘及所述阀排气口凸缘的第1主体部、以及设置有所述打开位置的所述阀板的退避区域的第2主体部，并且所述第1主体部中，位于与所述第2主体部相反的一侧的侧壁将所述阀吸气口凸缘的中心轴至所述侧壁的距离设定为所述阀吸气口凸缘的凸缘外径的1/2以上且所述阀排气口凸缘的凸缘外径的1/2以下的范围内的规定值。4.一种真空排气装置，其特征在于包括：根据权利要求1至3中任一项所述的真空阀、以及将泵吸气口凸缘...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。