抛光设备、抛光夹具及其抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种抛光设备、抛光夹具及其抛光方法，抛光夹具包括：基本体(1)，所述基本体(1)具有与待抛光的抛光件相匹配的支撑面；套设于所述基本体(1)周边的外部防护件(2)，所述外部防护件(2)凸出所述支撑面。本发明专利技术提供的抛光夹具，将待抛光的抛光件设置于基本体的支撑面上，对抛光件的结构进行支撑，抛光件待抛光的一面远离基本体，外部防护件凸出支撑面，有效防护抛光件的周边结构。通过上述设置，基本体对抛光件的结构进行支撑，外部防护件对抛光件的周边结构进行保护，有效避免了抛光过程中抛光件的损毁，提高了抛光质量及效率。

Polishing equipment, fixture and polishing method

The invention discloses a polishing device, a polishing fixture and a polishing method thereof. The polishing fixture comprises a basic body (1), which has a supporting surface matching the polishing part to be polished, an external protective part (2) nested around the basic body (1), and an external protective part (2) which protrudes the supporting surface. The polishing fixture provided by the invention sets the polishing parts to be polished on the support surface of the basic body to support the structure of the polishing parts. The polishing parts to be polished are far away from the basic body, and the external protective parts protrude the support surface to effectively protect the peripheral structure of the polishing parts. Through the above settings, the structure of polishing parts is supported by the basic body, and the peripheral structure of polishing parts is protected by the external protective parts, which effectively avoids the damage of polishing parts in the polishing process and improves the polishing quality and efficiency.

【技术实现步骤摘要】
抛光设备、抛光夹具及其抛光方法
本专利技术涉及抛光设备
，特别涉及一种抛光设备、抛光夹具及其抛光方法。
技术介绍
在产品生产制造过程中，处于结构要求及美观等因素的考虑，经常会把部件的整体或局部进行抛光。以手机玻璃前后面板的抛光为例，目前越来越多的手机玻璃前后面板采用玻璃结构，如常用的双平面及2.5D镜面等，随着技术的发展，人们对手机面板产品设计的独特性及保密性要求也越来越高，烧弯成型的两边弯曲、三边弯曲及四边弯手机前后盖板等被广泛应用：利用热弯成型机将手机玻璃面板由平面烧制成独特的两面、三面及四面的3D形态，并对其进行抛光。但是，由于上述玻璃(抛光件)的抛光面并非平面，在抛光过程中，极易受损，影响抛光质量及效率。因此，如何提高抛光质量及效率，是本
人员亟待解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种抛光夹具，以提高抛光质量及效率。本专利技术还公开了一种具有上述抛光夹具的抛光设备及抛光方法。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种抛光夹具，包括：基本体，所述基本体具有与待抛光的抛光件相匹配的支撑面；套设于所述基本体周边的外部防护件，所述外部防护件凸出所述支撑面。优选地，上述抛光夹具中，所述外部防护件为套设于所述基本体的外周的环状结构。优选地，上述抛光夹具中，所述基本体的侧壁设置为阶梯结构，所述外部防护件的端面与所述阶梯结构的阶梯面配合接触。优选地，上述抛光夹具中，所述外部防护件为耐磨定位件。优选地，上述抛光夹具中，所述外部防护件的材料为由60％～80％的聚已二酰已二胺及20％-40％的玻璃纤维混合而成的混合材料。优选地，上述抛光夹具中，还包括设置于所述支撑面上的垫板。优选地，上述抛光夹具中，所述垫板为软毛布垫板。本专利技术还提供了一种抛光设备，包括抛光夹具，所述抛光夹具为如上述任一项所述的抛光夹具。优选地，上述抛光设备中，还包括上载盘、安装于上载盘的毛刷盘、下载盘及设置于所述下载盘上的工作盘；所述工作盘上具有多个所述抛光夹具。优选地，上述抛光设备中，多个所述抛光夹具中的一部分沿所述工作盘的周向设置，另一部分设置于所述工作盘的中心。本专利技术还提供了一种抛光方法，应用如上述抛光设备；包括步骤：1)安装所述抛光夹具及所述毛刷盘；2)设置抛光参数，所述抛光参数包括加工时间及加工压力；所述加工时间包括加工前段及加工后端；所述加工前段的时间为2000S±500S，所述上载盘正转且转速为40～70r/min，所述下载盘反转且转速为1～5r/min；所述加工后段的时间为2000S±500S，所述上载盘反转且转速为40～70r/min，所述下载盘正转且转速为1～5r/min；所述加工压力包括启动压力和运行压力，所述启动压力为0.12～0.2mpa，所述运行压力为0.08～0.14mpa；3)将待抛光的抛光件装配于所述抛光夹具中，所述抛光夹具的外部防护件(2)高出所述抛光件的抛光面；4)启动，对所述抛光件朝向所述毛刷盘的一面进行抛光，抛光粉为粒径0.5～0.8UM的氧化铈，其浓度为1.10-1.20g/ml；5)取出加工产品并进入步骤3)。从上述的技术方案可以看出，本专利技术提供的抛光夹具，将待抛光的抛光件设置于基本体的支撑面上，对抛光件的结构进行支撑，抛光件待抛光的一面远离基本体，外部防护件凸出支撑面，有效防护抛光件的周边结构。通过上述设置，基本体对抛光件的结构进行支撑，外部防护件对抛光件的周边结构进行保护，有效避免了抛光过程中抛光件的损毁，提高了抛光质量及效率。本专利技术实施例还提供了一种抛光设备及抛光方法，也应具有同样的技术效果，在此不再一一累述。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的基本体的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的外部防护件的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的抛光夹具及工作盘的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的下载盘的结构示意图。具体实施方式本专利技术公开了一种抛光夹具，以提高抛光质量及效率。本专利技术还公开了一种具有上述抛光夹具的抛光设备及抛光方法。下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参考图1、图2及图3，本专利技术实施例提供了一种抛光夹具，包括基本体1及外部防护件2。其中，基本体1具有与待抛光的抛光件相匹配的支撑面；外部防护件2套设于基本体1周边，外部防护件2凸出支撑面。本专利技术实施例提供的抛光夹具，将待抛光的抛光件设置于基本体1的支撑面上，对抛光件的结构进行支撑，抛光件待抛光的一面远离基本体1，外部防护件2凸出支撑面，有效防护抛光件的周边结构。通过上述设置，基本体1对抛光件的结构进行支撑，外部防护件2对抛光件的周边结构进行保护，有效避免了抛光过程中抛光件的损毁，提高了抛光质量及效率。可以理解的是，基本体1能够通过烧弯成型，也可以通过注塑成型。优选地，基本体1的厚度为10～15mm。在本实施例中，支撑面上设置有吸气孔11，通过设置吸气孔11，以便于将待抛光的抛光件吸附于支撑面上。由于待抛光的抛光件为通过热弯成型面而成的3D曲面，其由多个弧面组成。如图1所示，支撑面具有多个支撑待抛光的抛光件的弧面12。其中，多个弧面12分别支撑待抛光的抛光件的不同弧面，有效提高了支撑效果的同时，达到了对待抛光的抛光件上的多个弧面进行支撑的效果，进而方便了对多个弧面的同时抛光的效果。进一步地，外部防护件2为套设于基本体1的外周的环状结构。通过将外部防护件2设置为环状结构，提高了外部防护件2的结构稳定性，避免抛光过程中因外部防护件2变形而损坏抛光件的情况。也可以将外部防护件2设置为L型或直板结构，在此不再详细介绍且均在保护范围之内。为了提高定位效果，基本体1的侧壁设置为阶梯结构，外部防护件2的端面与阶梯结构的阶梯面配合接触。在本实施例中，外部防护件2凸出支撑面的高度为抛光件总高与变量的总和，即，基本体1及外部防护件2的总高为基本体1的高度、抛光件总高及变量的总和。变量的取值范围是0.5-1mm。可以理解的是，变量值既保证产品的总高不被去除，也保证了产品的被抛光面可以达到理想的抛光效果。其中，变量值与抛光效果之间呈反比关系，变量值越大，抛光件高度保护越好，但抛光件的曲面去除量不均匀，达不到理想抛光效果；变量值越小，抛光件高度保护性差，但曲面各面形精度去除量均匀，抛光效果较好。以支撑面为凸面为例，即，曲面的待抛光件的凹面与支撑面接触，抛光件的凸面为待抛光的曲面。在此状态下，变量为1mm。即，基本体1及外部防护件2的总高＝基本体1的高度+抛光件总高+1mm。以支撑面为凹面为例，即，曲面的待抛光件的凸面与支撑面接触，抛光件的凹面为待抛光的曲面。在此状态下，变量为0.5mm。即，基本体1及外部防护件2的总高＝基本体1的高度+抛光件总高+0.5mm。当然，也可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光夹具，其特征在于，包括：基本体(1)，所述基本体(1)具有与待抛光的抛光件相匹配的支撑面；套设于所述基本体(1)周边的外部防护件(2)，所述外部防护件(2)凸出所述支撑面。

【技术特征摘要】
1.一种抛光夹具，其特征在于，包括：基本体(1)，所述基本体(1)具有与待抛光的抛光件相匹配的支撑面；套设于所述基本体(1)周边的外部防护件(2)，所述外部防护件(2)凸出所述支撑面。2.如权利要求1所述的抛光夹具，其特征在于，所述外部防护件(2)为套设于所述基本体(1)的外周的环状结构。3.如权利要求1所述的抛光夹具，其特征在于，所述基本体(1)的侧壁设置为阶梯结构，所述外部防护件(2)的端面与所述阶梯结构的阶梯面配合接触。4.如权利要求1所述的抛光夹具，其特征在于，所述外部防护件(2)为耐磨定位件。5.如权利要求4所述的抛光夹具，其特征在于，所述外部防护件(2)的材料为由60％～80％的聚已二酰已二胺及20％-40％的玻璃纤维混合而成的混合材料。6.如权利要求1所述的抛光夹具，其特征在于，还包括设置于所述支撑面上的垫板(3)；所述垫板(3)为软毛布垫板。7.一种抛光设备，包括抛光夹具，其特征在于，所述抛光夹具为如权利要求1-6任一项所述的抛光夹具。8.如权利要求7所述的抛光设备，其特征在于，还包括上载盘、安装于上载盘的毛刷盘、下载盘(5)及设置于所述下载盘(5)上的工作盘(4)；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：饶桥兵，许新武，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43