一种等离子栅栏制造技术

技术编号:19488502 阅读:34 留言:0更新日期:2018-11-17 11:51
本发明专利技术提供一种等离子栅栏,包括若干个由绝缘材料制造的介质管,所述介质管平行布置呈栅栏状结构,所述介质管的一端与第一端块连接,所述第一端块上设有流体入口,所述流体入口与每个所述介质管连通,所述介质管的另一端与第二端块连接,所述第二端块上设有流体出口,所述流体出口与每个所述介质管连通;在所述介质管的外部套接有外电极,或者在所述介质管的外部设置与所述介质管平行的柱状外电极、片状外电极或管状外电极。本发明专利技术提供的等离子栅栏,结构紧凑,利用介质管的通孔作为散热通道进行散热,从而把介质阻挡放电过程中产生的热量及时带走,降低介质管的温度,从而可以提高臭氧的产率。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子栅栏
本专利技术属于介质阻挡放电
,具体涉及一种等离子栅栏。
技术介绍
介质阻挡放电(DielectricBarrierDischarge,DBD)是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻挡电晕放电或无声放电。虽然介质阻挡放电已被开发和广泛的应用,可对它的理论研究还只是近20年来的事,而且仅限于对微放电或对整个放电过程某个局部进行较为详尽的讨论,并没有一种能够适用于各种情况DBD的理论。其原因在于各种DBD的工作条件大不相同,且放电过程中既有物理过程,又有化学过程,相互影响,从最终结果很难断定中间发生的具体过程。在实际应用中,截至阻挡放电结构主要有管线式电极结构(主要应用于各种化学反应器中)和平板式电极结构(主要应用于工业中的高分子和金属薄膜及板材的改性、接枝、表面张力的提高、清洗和亲水改性中)。不管是管线式电极结构,还是平板式电极结构,都有其结构性的缺陷,结构占用空间大,单位产出的能耗高,并且结构复杂。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,针对上述介质放电的结构现状,提供一种等离子栅栏,解决现有平板式和管线式电极结构带来的问题。本专利技术的技术方案如下:本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子栅栏,其特征在于,包括若干个由绝缘材料制造的介质管,所述介质管平行布置呈栅栏状结构,所述介质管的一端与第一端块连接,所述第一端块上设有流体入口,所述流体入口与每个所述介质管连通,所述介质管的另一端与第二端块连接,所述第二端块上设有流体出口,所述流体出口与每个所述介质管连通;在所述介质管的外部套接有外电极,或者在所述介质管的外部设置与所述介质管平行的柱状外电极、片状外电极或管状外电极。

【技术特征摘要】
2018.05.23 CN 201810504223X1.一种等离子栅栏,其特征在于,包括若干个由绝缘材料制造的介质管,所述介质管平行布置呈栅栏状结构,所述介质管的一端与第一端块连接,所述第一端块上设有流体入口,所述流体入口与每个所述介质管连通,所述介质管的另一端与第二端块连接,所述第二端块上设有流体出口,所述流体出口与每个所述介质管连通;在所述介质管的外部套接有外电极,或者在所述介质管的外部设置与所述介质管平行的柱状外电极、片状外电极或管状外电极。2.如权利要求1所述的等离子栅栏,其特征在于,在所述介质管的内壁上涂覆成型有内电极。3.如权利要求2所述的等离子栅栏,其特征在于,所述内电极为金属化膜层。4.如权利要求1-3之一所述的等离子栅栏,其特征在于,所述外电极为套接在所述介质管上的导电线圈,或者缠绕在所述介质管上的金属网。5.如权利要求4所述的等离子栅栏,其特征在于,所述导电线圈呈螺旋形缠绕在所述介质管上。6.如权利要求1所述的等离子栅栏,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗璐江诗谦徐宝友刘国庆
申请(专利权)人:北京清源中科环保科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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