连接孔层的光学临近修正方法技术

本发明专利技术公开了一种连接孔层的光学临近修正方法，其先提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；然后对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分。本发明专利技术的连接孔层的光学临近修正方法，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。

【技术实现步骤摘要】
连接孔层的光学临近修正方法
本专利技术涉及半导体制造技术，特别涉及一种连接孔层的光学临近修正方法。
技术介绍
伴随着集成电路工艺的不断进步，技术节点不断降低，对器件的关键尺寸的要求也越来越严格，原因是栅极的细微的尺寸波动都会对器件有着不可预估的影响。而连接孔一般用于连接有源区或栅极及金属层，连接孔的工艺窗口小于有源区或栅极与金属层的工艺窗口，当下连接孔的工艺窗口已经成为影响整个工艺的重要因素。OPC(OpticalProximityCorrection，光学临近修正)常规的CT(连接孔)修正一般是先将所有的连接孔进行整体放大，再用OPC模型对整体放大后的连接孔进行修正。原始版图的栅极和连接孔的布局如图1所示，进行整理放大修正后的栅极和连接孔的布局如图2所示。该修正方法只考虑距离栅极和相邻的连接孔的距离，这样经过修正后，连接孔会在四个方向上进行逐渐增加，直到最小设计规则的尺寸停止增加；但这样受限于最小设计规则，图形的增加尺寸要比不受限制的图形小，即其面积要小于不受限制的连接孔图形。连接孔本来的工艺窗口就很小，这样的图形在更容易曝光失败，导致图形曝不出来，形成盲孔。另外，由于连接孔层用于连通上层金属层及下层有源区或栅极，所以连接孔层的修正不止要考虑到本层图形，也要考虑到上下层的图形的限制。当对图形的边进行移动时，有一些被周边图形或上下层图形限制的连接孔图形就不能进行整体的移动，会造成这些图形在基于光学和刻蚀模型下，模拟出连接孔图形不能与标准连接孔图形(连接孔的内切椭圆)很好的契合，两者之间的距离较大，即边缘放置误差较大，有造成产品缺陷及工艺窗口较小等问题。专利
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种连接孔层的光学临近修正方法，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。为解决上述技术问题，本专利技术提供的连接孔层的光学临近修正方法，其包括以下步骤：一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；二.对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；连接孔下边的中间一段的移动距离为XD1，其他两段的移动距离分别为XD2、XD3。较佳的，XL1大于XL2及XL3；XR1大于XR2及XR3；XU1大于XU2及XU3；XD1大于XD2及XD3。较佳的，所述设定值小于连接孔边长的1/7。较佳的，所述设定值小于连接孔边长的1/10或1/20。较佳的，通过使用标准验证规则格式语言，利用电子设计自动化软件找出自由度受限连接孔图形。较佳的，步骤二中，对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理，自由度受限连接孔的四条边，分为横向和竖向两个方向，其中受限总长度较大的方向上的边的中间段相对标准连接孔向内移动，受限总长度较小的方向上的边的中间段相对标准连接孔向外移动。较佳的，步骤二中，对各自由度受限连接孔进行单独的光学临近修正处理，切分后的三段都是基于电子设计自动化软件进行运算，运算N次，每次移动量是按照上次边缘放置误差乘以设定比例来确定。较佳的，N为10，十次移动的设定比例依次为：40％，40％，50％，50％，60％，50％，50％，40％，40％，40％。较佳的，选中的连接孔修正后的面积大于原始面积1.1倍。较佳的，选中的连接孔修正后的边缘放置误差比原始的值小。较佳的，所述自由度受限连接孔的受限的边经修正后的边缘放置误差与初始值保持不变。较佳的，自由度受限连接孔的边长为75nm到69nm，设计规则要求的连接孔之间最小间距为37nm；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段时，自由度受限连接孔的边中间一段之外的另外两段均为20nm。本专利技术的连接孔层的光学临近修正方法，考虑了连接孔之间、连接孔同栅极之间、连接孔同上层金属层之间的位置关系受限时，保持连接孔到相邻连接孔、栅极、上层金属层的距离分别满足各自的最小设计规则的情况下，先将自由度受限连接孔各边分为三段，再进行OPC的处理，在连接孔层及上下层光刻图形满足设计要求、不影响器件性能的基础上，能增大自由度受限连接孔图形的面积，减小边缘放置误差，模拟的连接孔图形与标准连接孔图形很好的契合，增大了工艺窗口，有效避免了自由度受限连接孔图形因面积过小而导致曝光失败的缺陷风险，提高了产品良率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面对本专利技术所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是原始版图的栅极和连接孔的布局示意图；图2是传统方法进行整理放大修正后的栅极和连接孔的布局示意图；图3为本专利技术的连接孔层的光学临近修正方法处理后的栅极和连接孔的布局示意图。具体实施方式下面将结合附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一连接孔层的光学临近修正方法，包括以下步骤：一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；二.对各自由度受限连接孔的进行单独的OPC(OpticalProximityCorrection，光学临近修正)处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行OPC(OpticalProximityCorrection，光学临近修正)；该三段的中间一段占标准连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；连接孔下边的中间一段的移动距离为XD1，其他两段的移动距离分别为XD2、XD3。较佳的，所述设定值小于连接孔边长的1/7，例如小于连接孔边长的1/10或1/20。较佳的，通过使用SVRF(标准验证规则格式)语言，利用EDA本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，包括以下步骤：一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；二.对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；连接孔下边的中间一段的移动距离为XD1，其他两段的移动距离分别为XD2、XD3。

【技术特征摘要】
1.一种连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，包括以下步骤：一.提供相关层的版图，找出自由度受限连接孔图形；自由度受限连接孔图形，是指连接孔到相邻连接孔的最小间距、连接孔到栅极的最小间距或连接孔到上层金属层的最小间距减去设计规则规定的相应最小间距的差值小于设定值；二.对各自由度受限连接孔的进行单独的光学临近修正处理；将自由度受限连接孔的四条边都切分为三段，再将中间一段和其他两段分别进行光学临近修正；该三段的中间一段占连接孔该条边的长度的40％到60％，其他两段均分；连接孔左边的中间一段的移动距离为XL1，其他两段的移动距离分别为XL2、XL3；连接孔右边的中间一段的移动距离为XR1，其他两段的移动距离分别为XR2、XR3；连接孔上边的中间一段的移动距离为XU1，其他两段的移动距离分别为XU2、XU3；连接孔下边的中间一段的移动距离为XD1，其他两段的移动距离分别为XD2、XD3。2.根据权利要求1所述的连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，XL1大于XL2及XL3；XR1大于XR2及XR3；XU1大于XU2及XU3；XD1大于XD2及XD3。3.根据权利要求1所述的连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，所述设定值小于连接孔边长的1/7。4.根据权利要求1所述的连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，所述设定值小于连接孔边长的1/10或1/20。5.根据权利要求1所述的连接孔层的光学临近修正方法，其特征在于，通过使用标准验证规则格式语言，利用电子设计自动化软件找出自由度受限连接孔图形。6...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘泽，李林，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31