曝光装置及曝光方法、微影方法、以及组件制造方法制造方法及图纸

曝光装置系沿Y轴方向扫描基板，并且根据自包含多个射束光学系统之多条射束之照射位置之变化的相关信息之与射束相同数量之畸变表格(200i)所获得之修正信息，调整多条射束之照射位置。尤其是，藉由个别地控制自多个射束光学系统照射至基板之多条射束的照射时序，调整多条射束之Y轴方向之照射位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置及曝光方法、微影方法、以及组件制造方法
本专利技术系关于一种曝光装置及曝光方法、微影方法、以及组件制造方法，尤其是关于照射带电粒子束而曝光目标物之曝光装置及曝光方法、使用曝光装置或曝光方法进行线图之切断的微影方法、以及包含利用微影方法而进行对目标物之曝光之微影步骤的组件制造方法。
技术介绍
近年来，提出有例如互补地利用使用ArF光源之液浸曝光技术与带电粒子束曝光技术(例如电子束曝光技术)之互补式微影。于互补式微影中，例如于使用ArF光源之液浸曝光中，藉由利用双重图案化等，形成简单之线与间隙图案(以下适当地简记为L/S图案)。继而，通过使用电子束之曝光而进行线图之切断或通孔之形成。于互补式微影中，能够较佳地使用具备多个射束光学系统之带电粒子束曝光装置(例如，参照专利文献1、2)。然而，于自多个射束光学系统照射之多条射束之间作用有库伦力(库伦相互作用)。除此之外，于实际进行曝光之情形时，根据目标图案，多条射束各自之导通、断开状态自由变换且时刻变化。可认为其结果为，处于导通状态之射束彼此之相互作用亦自由变换且时刻变化，从而多条射束在照射面上之位置关系自所期待之位置关系发生变化。[先本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其照射带电粒子束而对目标物进行曝光，具备：载台，保持且移动上述目标物；照射装置，具有能够针对多条射束个别地设定上述射束照射至上述目标物的照射状态的多射束光学系统；及控制装置，控制上述载台与上述多射束光学系统的相对移动，并且根据基于上述多条射束中的至少第1射束的照射状态所产生的第2射束的照射位置的变化的相关信息，调整上述多条射束对上述目标物的照射位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.14 JP 2016-0491771.一种曝光装置，其照射带电粒子束而对目标物进行曝光，具备：载台，保持且移动上述目标物；照射装置，具有能够针对多条射束个别地设定上述射束照射至上述目标物的照射状态的多射束光学系统；及控制装置，控制上述载台与上述多射束光学系统的相对移动，并且根据基于上述多条射束中的至少第1射束的照射状态所产生的第2射束的照射位置的变化的相关信息，调整上述多条射束对上述目标物的照射位置。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，上述射束的上述照射状态为上述射束照射至上述目标物的导通状态、或上述射束未照射至上述目标物的断开状态。3.如权利要求1所述的曝光装置，其中，上述射束的上述照射状态包含上述射束的照射电流量。4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中，上述第2射束的照射位置的变化的相关信息是根据上述第1射束的照射状态预先进行模拟或实验而获得的信息。5.如权利要求4所述的曝光装置，其中，上述控制装置根据针对上述多条射束的上述照射状态的组合的各者求出上述第2射束的照射位置的变化的相关信息而获得的多个修正表格，调整上述多条射束的照射位置。6.如权利要求5所述的曝光装置，其中，上述多个修正表格包含与上述多条射束相同数量的修正表格，该等修正表格包含使上述多条射束的上述照射状态按各射束分别发生变化时所产生的上述多条射束的照射位置的变化的相关信息。7.如权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其中，上述控制装置一边驱动上述载台，一边根据上述第2射束的照射位置的变化的相关信息控制上述射束的照射时序，藉此调整上述多条射束对上述目标物的照射位置。8.如权利要求7所述的曝光装置，其中，上述控制装置以将上述多条射束在排列方向上的照射位置偏移平均化的方式，调整上述排列方向上的多条射束的照射位置。9.如权利要求1至8中任一项所述的曝光装置，其中，上述多条射束是藉由通过具有多个开口的射束成形构件的上述多个开口而形成；上述射束成形构件是以上述多条射束的各者照射上述目标物的位置沿上述多个开口的排列方向位于一条直线上的方式，在制造阶段调整上述多个开口的位置。10.如权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其中，上述照射位置是上述射束所照射的在照射面上的位置。11.一种微影方法，其包含：利用曝光装置对目标物进行曝光而在上述目标物上形成线与间隙图案；及使用权利要求1至10中任一项所述的曝光装置，进行构成上述线与间隙图案的线图的切断。12.一种曝光方法，照射带电粒子束而对目标物进行曝光，包含：使上...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎祐一，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本,JP