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曝光装置系沿Y轴方向扫描基板，并且根据自包含多个射束光学系统之多条射束之照射位置之变化的相关信息之与射束相同数量之畸变表格(200i)所获得之修正信息，调整多条射束之照射位置。尤其是，藉由个别地控制自多个射束光学系统照射至基板之多条射束的照...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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