包含具有低折射率的有机-无机层的制品制造技术

本发明专利技术涉及一种包括基材的制品，所述基材具有至少一个主表面，所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属的氟化物的金属化合物A和至少一种有机硅化合物B获得的材料M的层L，材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率。根据本发明专利技术：‑有机化合物B包含有机硅酸盐化合物或有机硅酸盐化合物的混合物；并且‑化合物B以气态形式在离子轰击的存在下沉积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含具有低折射率的有机-无机层的制品本专利技术总体上涉及一种具有有机/无机性质并且具有低折射率的层的制品、优选光学制品、特别地眼科镜片，并且还涉及一种用于制备此种制品的方法。已知用干涉涂层处理眼科镜片。具体地，无论眼科眼镜是无机或有机的，已知的是处理眼科镜片以防止形成对镜片的佩戴者以及与它们相互作用的人是损害的寄生反射。然后所述镜片配备有总体上由矿物材料制造的单层或多层式减反射涂层，在第二种情况下，所述减反射涂层具有高折射率层和低折射率层的交替。反射涂层产生了相反的作用，即，它增加了光线的反射。例如，使用此种类型的涂层以获得太阳镜镜片中的镜像效应。还已知使用干涉涂层来过滤对眼睛有害的某些波长，例如蓝光范围内的波长。也可以使用在一个或多个选定的波长范围内也具有过滤功能的减反射涂层。在配镜师的实践下对镜片进行修边和装配过程中，镜片经受机械变形，这可能在矿物反射或减反射干涉涂层中产生裂纹，特别是当操作不是小心进行时。同样，热应力(框架的加热)可能在干涉涂层中产生裂纹。取决于裂纹的数目和尺寸，后者可能干涉佩戴者的视野并妨碍镜片被售出。此外，当处理过的有机镜片被佩戴时，可能出现刮痕。在矿物干涉涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种包括基材的制品，所述基材具有至少一个主表面，所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属氟化物的金属化合物A和至少一种有机化合物B获得的至少一种材料M的至少一个层L，所述材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率，其特征在于：‑所述有机化合物B包含有机硅化合物或有机硅化合物的混合物；并且‑所述化合物B的呈气态形式的沉积在离子轰击的存在下进行。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.18 FR 15628571.一种包括基材的制品，所述基材具有至少一个主表面，所述主表面涂覆有通过共蒸发而真空沉积至少一种选自碱土金属氟化物的金属化合物A和至少一种有机化合物B获得的至少一种材料M的至少一个层L，所述材料M在632.8nm的波长下具有在从1.38至1.47范围内的折射率，其特征在于：-所述有机化合物B包含有机硅化合物或有机硅化合物的混合物；并且-所述化合物B的呈气态形式的沉积在离子轰击的存在下进行。2.如权利要求1所述的制品，其特征在于，所述有机化合物B不包含任何氟碳化合物。3.如权利要求1或2所述的制品，其特征在于，所述离子轰击使用离子枪进行。4.如权利要求1至3之一所述的制品，其特征在于，所述有机硅化合物B在离子轰击下的沉积是在选自氧气、稀有气体、氮气和这些气体中的两种或更多种的混合物的存在下进行的。5.如权利要求1至4之一所述的制品，其特征在于，所述金属化合物A的蒸发使用电子枪进行。6.如权利要求1至5中任一项所述的制品，其特征在于，所述金属化合物A是MgF2。7.如权利要求1至6中任一项所述的制品，其特征在于，所述有机硅化合物B包含至少一个Si-C键。8.如前述权利要求之一所述的制品，其特征在于，所述有机硅化合物B包含至少一个具有下式的二价基团：其中R'1至R'4独立地表示烷基、乙烯基、芳基或羟基或可水解基团，或者其特征在于，所述化合物B对应于以下式：其中R'5、R'6、R'7和R'8独立地表示羟基或可水解基团，例如OR基团，其中R是烷基。9.如前述权利要求中...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·基亚罗托，J·克莱伯格赛皮哈，M·卡朗，
申请(专利权)人：依视路国际公司，蒙特利尔综合理工学院公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR