The invention discloses a MEMS buffer structure for reducing gas flow rate. The invention is a thin shell bonded to the substrate of a MEMS sensor; the thin shell is formed by anisotropic etching of silicon wafer, and the thin shell has been oxidized; the mesh holes are uniformly arranged on the thin shell, and the outside of the thin shell is a cuboid structure. When the outer gas passes through the reticulated thin shell before passing through the sensor film, the deceleration effect will be produced. After the gas enters the thin shell, the velocity of the gas in the thin shell is kept at a low level because of the obstruction of the inner wall of the thin shell. Thus, the excessive heat of the film surface is removed by the gas flow, and the temperature of the film surface is reduced. The stability of heater is improved and energy consumption is reduced.
【技术实现步骤摘要】
一种降气体流速的MEMS缓冲器结构
本专利技术涉及一种MEMS缓冲器结构,是气体传感器检测气体浓度时对来流气体进行缓冲降速作用的结构。
技术介绍
微机电系统(MEMS)是在微电子技术的基础上结合机械、化学、物理、生物等技术发展而来的一种具有微型结构的机械电子系统。微传感器,即MEMS传感器,是在MEMS技术的基础上产生的新型传感器,相对于传统的传感器,它的优势之处在于尺寸结构小、生产成本低,并且在消费电子、智能化汽车、医疗服务等方面都有这广泛的开发应用。MEMS气体传感器是一种用来测量气体浓度的微传感器。它具有响应时间短、灵敏度高、稳定性好等优点。从而被广泛应用于空气质量检测、天然气等可燃性气体的浓度检测等等。MEMS制造工艺很多,包括氧化、光刻剥离、沉积、刻蚀、键合等。其中刻蚀工艺主要分为干法刻蚀和湿法刻蚀。湿法刻蚀主要通过腐蚀液进行化学腐蚀,其特点是实验操作简单、所需器件要求低、对腐蚀目标有较好的选择性,但各向异性较差,对微米级别的结构有一定的影响;而干法刻蚀主要通过气相腐蚀、等离子体腐蚀等,其特点是:选择比高,可控性、灵活性、重复性好,细线条操作安全,易实现自动化,且各向异性好。为了保证结构的精度,本专利技术采用干法刻蚀工艺来制备该缓冲器结构。另外,在本专利技术中,键合工艺起着很大的作用。在MEMS键合工艺中,键合工艺主要包括直接键合、共晶键合、阳极键合和粘结剂键合。不同的键合工艺对键合材料的要求不同,对设备要求也不同,粘结剂键合工艺以其键合所需温度低,键合的强度大,成本低,工艺简单等优点很好的满足本专利技术所需的键合工艺。目前,大部分MEMS气体传 ...
【技术保护点】
1.一种降气体流速的MEMS缓冲器结构,其特征在于:为键合到MEMS传感器基底上的薄壳;所述的薄壳带有网孔,由硅片进行各向异性刻蚀形成,且薄壳已氧化;所述的网孔在薄壳上均匀排列,且薄壳外部为长方体结构。
【技术特征摘要】
1.一种降气体流速的MEMS缓冲器结构,其特征在于:为键合到MEMS传感器基底上的薄壳;所述的薄壳带...
【专利技术属性】
技术研发人员:董林玺,徐忠仁,
申请(专利权)人:杭州电子科技大学,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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