电容器制造技术

技术编号:19247595 阅读:30 留言:0更新日期:2018-10-24 09:19
本发明专利技术提供一种电容器,其特征在于,具有:导电性多孔基材;电介质层,位于所述导电性多孔基材上;及上部电极,位于所述电介质层上,在导电性多孔基材的细孔内存在绝缘材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电容器
本专利技术涉及一种电容器。
技术介绍
近年来,随着电子设备的高密度安装化,要求具有更高静电电容的电容器。作为此类电容器,例如,在专利文献1中公开有如下电容器:在具有多孔构造的金属基材上形成有电介质层,进而在电介质层上形成有上部电极。此类电容器由于基材的每单位容积的表面积较大,故而可扩大静电电容形成部的面积,可获得高静电电容。在先技术文献专利文献专利文献1:国际公开第2015/118901号公报
技术实现思路
-专利技术要解决的课题-关于如专利文献1那样利用具有多孔构造的金属基材的电容器,由于需要在细孔内形成电介质层及上部电极层,故而这些电介质层及上部电极层的厚度要非常小。其结果,尽管静电电容较大,但电介质层及上部电极层的机械强度较低,而存在产生龟裂或者产生剥落的情况。如图5所示,若在电介质层101及上部电极层102产生龟裂或剥落,则金属基材103在细孔内部104露出。由于细孔非常小,露出部分105与上部电极层102的距离较近,故而如箭头所示,电子106会自阴极(在图5中为上部电极层102)飞向阳极(在图5中为金属基材103),而产生漏电流。本专利技术的目的在于,提供一种电容器,其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电容器,其特征在于,具有:导电性多孔基材;电介质层,位于所述导电性多孔基材上;及上部电极,位于所述电介质层上,在导电性多孔基材的细孔内,在上部电极上存在绝缘材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.23 JP 2016-0323351.一种电容器,其特征在于,具有:导电性多孔基材;电介质层,位于所述导电性多孔基材上;及上部电极,位于所述电介质层上,在导电性多孔基材的细孔内,在上部电极上存在绝缘材料。2.根据权利要求1所述的电容器,其特征在于,所述绝缘材料为树脂材料或绝缘性无机材料。3.根据权利要求1或者2所述的电容器,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐伯洋昌
申请(专利权)人:株式会社村田制作所
类型:发明
国别省市:日本,JP

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