涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种涂抹构件的清洗方法，该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中，向载玻片10上滴下清洗剂11，让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触，清洗涂抹构件42。

Cleaning method for coating member and device for making smear specimen

The invention provides a cleaning method for a smearing component, which keeps the smearing state as desired even when the number of smearing increases, and at the same time prevents the user from increasing the operation burden. In the cleaning method of the smearing component, a cleaning agent 11 is dripped on the slide 10, and the smearing component 42 is contacted with the cleaning agent 11 on the slide 10, and the smearing component 42 is cleaned.

【技术实现步骤摘要】
涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置
本专利技术涉及一种涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置。
技术介绍
已知有一种涂抹标本制作方法，在该方法中，在向载玻片上滴下血液等生物体试样后，用涂抹构件将试样展开地又广又薄，制作涂抹标本。试样会附着于涂抹构件，因此需要针对每一次试样涂抹清洗涂抹构件。例如在专利文献1中公开了一种涂抹构件的清洗方法，在该方法中，针对每一次试样涂抹擦拭涂抹构件以去除附着于涂抹构件的试样。在先技术文献专利文献专利文献1特表（日本专利公表）平11－506826号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在上述专利文献1的涂抹构件的清洗方法中，针对每一次试样涂抹，虽然可以通过擦拭涂抹构件去除附着于涂抹构件的试样，但是当涂抹次数增加时，蛋白质等污渍会蓄积在涂抹构件的端面，因此会使涂抹构件的端面形状发生变化。因此很难使涂抹状态保持恒定，故而在涂抹次数增加时，为了使涂抹状态保持为所希望的状态，用户需要定期进行清洁涂抹构件、更换涂抹构件等维护作业。因此，当涂抹次数增加时，存在为了使涂抹状态保持在所希望的状态下，增大用户的操作负担的问题。本专利技术的目的在于，即使在涂抹次数增加的情本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：向载玻片上滴下清洗剂；使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。

【技术特征摘要】
2017.04.06 JP 2017-0758021.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：向载玻片上滴下清洗剂；使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。2.根据权利要求1所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触一定时间，清洗所述涂抹构件。3.根据权利要求2所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：使所述涂抹构件接触所述清洗剂的时间长于制作涂抹标本时使所述涂抹构件接触试样的时间。4.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：在使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触的同时，使所述涂抹构件在载玻片上移动来清洗所述涂抹构件。5.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：针对每一次涂抹标本的制作，用不同于所述清洗剂的清洗液清洗所述涂抹构件；不同于用所述清洗液对所述涂抹构件进行的清洗，基于一定条件使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。6.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，针对每一次涂抹标本的制作，用清洗所述涂抹构件的所述清洗液清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。7.根据权利要求6所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，在所述清洗液中施加超声波清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。8.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：用所述清洗剂清洗所述涂抹构件的时间长于制作涂抹标本时用所述清洗液清洗所述涂抹构件的时间。9.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：清洗所述涂抹构件时向载玻片上滴下所述清洗剂的量多于制作涂抹标本时向载玻片滴下试样的量。10.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：在关闭通过使所述涂抹构件与试样接触的同时在载玻片上移动来制作涂抹标本的涂抹标本制作装置时，用所述清洗剂清洗所述涂抹构件。11.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：所述清洗剂是含有分解蛋白质的成分的溶液。12.根据权利要求11所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：所述清洗剂是包括分解蛋白质的氧化剂的溶液。13.根据权利要求12所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：所述清洗剂是包括次氯酸根离子的溶液。14.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：所述清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。15.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：用第一清洗液清洗所述涂抹构件；用清洗能力比所述第一清洗液强的第二清洗液清洗所述涂抹构件；用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的次数少于用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件的次数。16.根据权利要求15所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：针对每一次涂抹标本的制作，用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件。17.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：在关闭制作涂抹标本的涂抹标本制作装置时，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。18.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：在选择用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的模式时，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。19.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：所述第一清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液；所述第二清洗液是包括次氯酸根离子的溶液。20.一种涂抹标本制作装置，包括：涂抹构件，通过使所述涂抹构件与试样接触的同时使所述涂抹构件在载玻片上移动将试样涂抹于载玻片上；载玻片运送部，向涂抹位置运送载玻片；控制部，控制所述涂抹构件和所述载玻片运送部的作业；其中，所述控制部进行以下控制：通过所述载玻片运送部向涂抹位置运送载玻片，向载玻片上滴下清洗剂，使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触来清洗所述涂抹构件。21.根据权利要求20所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎充生，中西利志，福岛政比古，古贺裕之，
申请(专利权)人：希森美康株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP