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涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置制造方法及图纸
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文档序号:19233232
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本发明提供一种涂抹构件的清洗方法,该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态,同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中,向载玻片10上滴下清洗剂11,让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接...
该专利属于希森美康株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过希森美康株式会社授权不得商用。
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