一种光阻涂布装置制造方法及图纸

技术编号:19215036 阅读:24 留言:0更新日期:2018-10-20 06:29
本发明专利技术提供一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。

【技术实现步骤摘要】
一种光阻涂布装置
本专利技术涉及材料涂布领域,具体涉及一种光阻涂布装置。
技术介绍
光阻涂布装置在涂布光阻到面板上时在该涂布结构的倾斜面上会残留一些光阻,再次涂布时,有可能会使得光阻残留与新的光阻接触,这些光阻残留会影响涂布时的品质,可能产生不良产品。因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是提供一种光阻涂布装置,具有自动去除光阻残留的效果。本专利技术提供了一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构、两个光阻残留去除结构、清洗液罐以及吹风机;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器的底壁连接,该光阻存储器的底壁上开设有条状出口,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该条状出口连通的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度且等于该条状出口的长度;该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;该两个光阻残留去除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧;所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通,该吹风机通过排风管与该风嘴连通。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面宽度的一半。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述擦板可沿着所述第二侧壁面的宽度方向滑动地设置于该滑块上,且该擦板上设置有锁紧机构,使得锁紧时,该擦板相对该滑块固定,解锁时,该擦板可相对该滑块滑动。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述擦板的与所述第二侧壁面接触的一面设置有弹性层。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述擦板的宽度为所述第二侧壁面的宽度相同。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。在本专利技术所述的光阻涂布装置中,还包括控制芯片以及电池组件,该控制芯片以及电池组件均设置于所述滑块内,控制芯片以及电池组件分别与所述电机驱动机构连接。本专利技术通过设置光阻涂布机构以及两个光阻残留去除结构;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器连接,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度;该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;该两个光阻残留去除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧,使得其可以实现涂布光阻的同时,可以自动对残留的光阻进行清理。附图说明图1是本专利技术实施例中的光阻涂布装置的一种结构示意图。图2是本专利技术实施例中的光阻涂布装置的光阻残留去除结构的一种结构示意图。图3是本专利技术实施例中的光阻涂布装置的电路原理框图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施方式,所述实施方式的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的,仅用于解释本专利技术,而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。请参照图1,图1是本专利技术一实施例中的一种光阻涂布装置,包括光阻涂布机构10、两个光阻残留去除结构20、清洗液罐30以及吹风机40;两个光阻残留去除结构20设置于该光阻涂布机构10上。该光阻涂布机构10包括光阻存储器11以及设置于所述光阻存储器11下端面上的涂布组件12,该涂布组件12呈三棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面121与该光阻存储器11的底壁连接,光阻存储器11的底壁的底壁上开设有条状开口,用于供光阻流出,该涂布组件12设置有沿着该第一侧壁面121的中垂面设置的涂布槽123,涂布槽123与该条状开口连通。该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度且等于该条状出口的长度。该涂布槽123从该第一侧壁面121处延伸至与该第一侧壁121面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽123的长度小于该涂布组件12的长度;该涂布槽123的槽宽可以根据需求设定。光阻存储器11大致呈箱体状,其内存储有光阻,在一些实施例中,为了保持光阻的流动性,其内还设置有加热器件,防止光阻冷凝固。该涂布组件10的两个相互倾斜连接的第二侧壁面122上分别设置有滑动槽1221,该滑动槽1221沿着该涂布组件10的长度方向延伸。该两个光阻残留去除结构20分别设置于该两个第二侧壁面122上且可沿着所述滑动槽123滑动。每一光阻残留去除结构包括滑块21、擦板22、风嘴23以及喷液嘴24,所述滑块21可滑动地设置于所述滑动槽1221中,所述滑块21中设置有电机驱动机构以驱动该滑块21沿着该滑动槽1221自动滑动,该擦板22设置于该滑块21上且其内侧面与该第二侧壁面122的局部贴合,该擦板22以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧。风嘴23与外部风机连通以用于风干,该喷液嘴24与外部的清洗液提供装置连通,以提供清洗液来溶解残留的光阻。清洗液罐30通过排液管与该喷液嘴24连通,该吹风机40通过排风管与该风嘴23连通。在一些实施例中,该排液管上还设置有流量控制阀,以控制清洗液的流量,在多次清洗中分别采用不同的流量进行清洗。请参照图2,在本专利技术所述的光阻涂布装置中,所述擦板22的宽度为所述第二侧壁面122的宽度的一半。擦板22可沿着所述第二侧壁面122的宽度方向滑动地设置于该滑块21上,且该擦板22上设置有锁紧机构221,使得锁紧时,该擦板22相对该滑块21固定,解锁时,该擦板22可相对该滑块21滑动。例如,滑块21沿着该第二侧壁面122的宽度方向开设有滑槽211,该本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光阻涂布装置,其特征在于,包括光阻涂布机构、两个光阻残留去除结构、清洗液罐以及吹风机;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器的底壁连接,该光阻存储器的底壁上开设有条状出口,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该条状出口连通的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度且等于该条状出口的长度;该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;该两个光阻残留去除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧;所述清洗液罐通过排液管与该喷液嘴连通,该吹风机通过排风管与该风嘴连通,该排液管上还设置有流量控制阀,以控制清洗液的流量,在多次清洗中分别采用不同的流量进行清洗。...

【技术特征摘要】
1.一种光阻涂布装置,其特征在于,包括光阻涂布机构、两个光阻残留去除结构、清洗液罐以及吹风机;所述光阻涂布机构包括光阻存储器以及设置于所述光阻存储器下端面上的涂布组件,该涂布组件呈棱柱状,且该涂布组件的一个第一侧壁面与该光阻存储器的底壁连接,该光阻存储器的底壁上开设有条状出口,该涂布组件设置有沿着该第一侧壁面的中垂面设置的与该条状出口连通的涂布槽,该涂布槽从该第一侧壁面处延伸至与该第一侧壁面相对的侧棱处,且将该侧棱贯穿,该涂布槽的长度小于该涂布组件的长度且等于该条状出口的长度;该光阻涂布机构本体的两个相互倾斜连接的第二侧壁面上分别设置有滑动槽,该滑动槽沿着该涂布组件的长度方向延伸;该两个光阻残留去除结构分别设置于该两个第二侧壁面上且可沿着所述滑动槽滑动;所述光阻残留去除结构包括滑块、擦板、风嘴以及喷液嘴,所述滑块可滑动地设置于所述滑动槽中,所述滑块中设置有电机驱动机构以驱动该滑块沿着该滑动槽自动滑动,该擦板设置于该滑块上且其内侧面与该第二侧壁面的局部贴合,该擦板以及风嘴分别设置于该滑块上且位于该擦板两侧;所述清洗液罐通过...

【专利技术属性】
技术研发人员:李广宇
申请(专利权)人:安吉科广新材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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