彩膜基板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制造方法，属于显示技术领域。所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵；采用混合有酯类化合物的量子点材料，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层；采用溶胶凝胶法，使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应，以形成掺杂有纳米颗粒的溶胶凝胶层；对所述溶胶凝胶层进行固化处理，以得到量子点彩膜层。本发明专利技术解决了相关技术中量子点彩膜层的制备方式的限制性较高的问题。本发明专利技术用于彩膜基板的制造。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制造方法
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(英文：ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay；简称：TFT-LCD)包括液晶面板、背光源和驱动电路板，其中，液晶面板由阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层组成。TFT-LCD为非主动发光的元件，需要由背光源提供光源，通过控制液晶旋转角度形成黑、白两色的灰阶显示，再通过彩膜基板上的色阻层形成彩色显示画面。传统的彩膜基板是基于滤光原理实现彩色显示的，该彩膜基板上的色阻层由掺杂有染料粒子的光刻胶制备得到，TFT-LCD通过色阻层调节特定波长范围内的光的透过性实现彩色显示，但是采用这种显示方式时，背光的利用率较低。由于量子点具备光致发光和色纯度高等特性，采用量子点替代染料粒子，可以达到提高背光的能量转换效率和增大显示色域的效果。相关技术中，通常采用湿法制备工艺制备量子点彩膜层(也可称为色阻层)，当量子点浓度过低时，背光的转换率较低，导致色纯度较低；当量子点浓度过高时，彩膜基板的制备成本较高，且量子点的光产率较低。目前，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵；采用混合有酯类化合物的量子点材料，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层；采用溶胶凝胶法，使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应，以形成掺杂有纳米颗粒的溶胶凝胶层；对所述溶胶凝胶层进行固化处理，以得到量子点彩膜层。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成黑矩阵；采用混合有酯类化合物的量子点材料，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层；采用溶胶凝胶法，使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应，以形成掺杂有纳米颗粒的溶胶凝胶层；对所述溶胶凝胶层进行固化处理，以得到量子点彩膜层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用混合有酯类化合物的量子点材料，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层，包括：通过喷墨打印的方式，将所述混合有酯类化合物的量子点材料形成在形成有所述黑矩阵的衬底基板上，以得到所述量子点材料层。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成量子点材料层之前，所述方法还包括：在酸性环境或碱性环境中，对形成有所述黑矩阵的衬底基板进行水蒸气预处理。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用溶胶凝胶法，使所述量子点材料层中的酯类化合物发生反应，包括：在酸性环境或碱性环境中，对形成有所述量子点材料层的衬底基板进行水蒸气处理，使所述量子点材料层中的酯类化合物发生水解反应。5.根据权利要求1所述的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：于晶，陈右儒，禹钢，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11