一种基质培与水培一体的栽培装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基质培与水培一体的栽培装置，适用于盆栽(木本)花卉的基质培和水培一体化栽培，包括环状的围壁和设置在围壁内的底座，底座包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台和大径支撑台，小径支撑台内边缘距离底座中心的距离小于大径支撑台边缘距离底座中心的距离，支撑组件高于底座底面从而形成存水腔。本实用新型专利技术中，小直径基质培花盆可以放置在小径支撑台表面，而大直径基质培花盆放置在大径支撑台表面；放置之后，存水腔通过装入培养液，根系从基质培花盆底部的孔中伸出后到达培养液进行吸收；达到了同一装置可以进行基质/水培一体化的栽培效果。

A culture device for substrate culture and water culture

The utility model discloses a cultivation device which integrates substrate culture and hydroponics, and is suitable for integrated substrate culture and hydroponics cultivation of potted (woody) flowers, including a circular enclosure wall and a base arranged in the enclosure wall. The base comprises four supporting components arranged in a circular array, each supporting component extending from the edge of the base to the middle. Each support component includes at least a small-diameter support platform and a large-diameter support platform arranged from bottom to top. The distance between the inner edge of the small-diameter support platform and the center of the base is less than the distance between the edge of the large-diameter support platform and the center of the base, and the support component is higher than the bottom surface of the base to form a water storage chamber. In the utility model, the small-diameter matrix flowerpot can be placed on the surface of the small-diameter support platform, and the large-diameter matrix flowerpot can be placed on the surface of the large-diameter support platform; after being placed, the water storage chamber is loaded with the culture medium, and the root system is protruded from the hole at the bottom of the matrix flowerpot and reaches the culture medium for absorption; and the same device can be achieved. The cultivation effect of substrate / hydroponics was studied.

【技术实现步骤摘要】
一种基质培与水培一体的栽培装置
本技术涉及盆栽种植领域，特别是涉及一种基质培与水培一体的栽培装置。
技术介绍
花卉基质培是用固体基质(介质)固定植物基部(根系)，并通过基质吸收营养和水的一种无土栽培方式。花卉水培是利用营养液进行培养，使植物的根系直接从营养液中吸收营养和水的一种无土栽培方式。水培花卉不能将植株头部浸泡在液体中，而要将植株头部固定并悬挂于营养液上空，同时需要使根系浸泡于营养液中进行水份、营养的吸收。目前，市售的水培栽培装置是通过小碎石、泡沫塑料等惰性基质将植物基部固定，然后在底部架空以存放营养液；这些栽培装置无法使基质培的植物同时进行水培，且这些栽培装置只能放入一个花盆，当植物长大或者移植于大盆的时候无法再适用于本装置，给栽培人员的工作带来不便。传统的木本花卉植物的盆栽一般只用基质培，由于木本花卉植物较高大、且基部较粗，目前市售的水培栽培装置很难实现木本花卉植物的水培盆栽。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供一种基质培与水培一体的栽培装置，其能适应不同规格型号的花盆；而且能将基质培的花盆直接置于本装置中同时进行水培，使同一装置可以实现基质培和水培一体化栽培，为栽培人员的工作带来方便。该装置特别适用于盆栽木本花卉植物的基质培和水培一体化栽培。本技术所采用的技术方案是：一种基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁和设置在围壁内的底座，所述底座包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台和大径支撑台，小径支撑台内边缘距离底座中心的距离小于大径支撑台边缘距离底座中心的距离，所述支撑组件高于底座底面从而形成存水腔。作为本技术的进一步改进，所述存水腔延伸至围壁，在围壁上对齐小径支撑台上表面的位置设置有连通存水腔的第一排水孔，所述第一排水孔上可拆卸的装有第一封堵头。作为本技术的进一步改进，在围壁上对齐大径支撑台上表面的位置设置有连通存水腔的第二排水孔，所述第二排水孔上可拆卸的装有第二封堵头。作为本技术的进一步改进，所述围壁顶部比支撑组件的顶部高出1～3cm。作为本技术的进一步改进，所述围壁顶端还环形阵列设置有4～8个支护。作为本技术的进一步改进，所述围壁上沿竖向接有水位观察管，所述水位观察管连通存水腔。本技术的有益效果是：本技术底座设置了由小径支撑台和大径支撑台构成的支撑组件，直径较小的花盆可以放置在小径支撑台表面，而直径较大的花盆放置在大径支撑台表面，放置之后，存水腔通过装入培养液，植物根系从基质培用的花盆底部的孔中伸出后到达培养液进行吸收，从而达到了同时进行基质培、水培的栽培效果，而且一株基质培的植物从小到大、移植、换盆后都可以继续在同一个栽培装置中进行水培，极大方便了栽培人员的管理，给栽培人员带来了方便。附图说明下面结合附图和实施方式对本技术进一步说明。图1是本技术的内部示意图；图2是本技术的俯视图；图3是本技术放置小直径盆栽的示意图；图4是本技术放置小直径盆栽的俯视图；图5是本技术放置大直径盆栽的示意图；图6是本技术放置大直径盆栽的俯视图。具体实施方式如图1至图6所示的基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁1和设置在围壁1内的底座2。该围壁1与底座2构成了花盆的形态，为了减少重量，围壁1与底座2都可以由pvc或者其他塑胶材质制成。底座2包括四个环形阵列布置的支撑组件，这些支撑组件用于支撑花盆且以底座2的中心对称分布。每个支撑组件均为块状体，支撑组件从底座2的外周边缘向中间延伸。每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台3和大径支撑台4。图示中支撑组件仅具有两层支撑台的结构，实际上还可以有更多层，在三层以上支撑台的情况下，下层的支撑台相对于上一层来说可以被认为是小径支撑台3，而上层的支撑台相对于下一层来说可以被认为是大径支撑台4。实施例仅以两层支撑台进行说明。图2中以网格线阴影表示小径支撑台3，以斜纹阴影表示大径支撑台4，小径支撑台3内边缘距离底座2中心的距离小于大径支撑台4边缘距离底座2中心的距离，即小径支撑台3的长度更长，小径支撑台3与大径支撑台4构成一个阶梯状结构。该阶梯状的结构使得：小径支撑台3表面能够支撑直径较小的花盆100，如图3和图4所示；而大径支撑台4表面能够支撑直径较大的花盆200，如图5和图6所示。重新参考图1至图6，小径支撑台3的顶面以及大径支撑台4的顶面均高于底座2底面从而高出的部分形成存水腔5。存水腔5中倒入的水、营养液的高度根据放置花盆大小来确定，若放置小直径花盆，则水位到达略低于小径支撑台3表面，使水不会淹泡花盆，并且植物根系可以从花盆底部伸出到达液体中。同理，若放置大直径花盆，则水位到达略低于大径支撑台4表面。如此一来，实施例中的栽培装置使得一株基质培的植物从小到大、移植、换盆后都可以继续在同一个栽培装置中进行水培，极大方便了栽培人员的管理，给栽培人员带来了方便。优选的实施例中，如图4所示，各支撑组件设置成，相邻大径支撑台4侧壁之间间隔一定的距离，该距离可以放入一个小花盆，因此，小径支承台3可以如图4所示中放入5个小花盆(花盆直径小于相邻大径支撑台4侧壁之间间隔的距离)。进一步优选的，上述的存水腔5延伸至围壁1，在围壁1上对齐小径支撑台3上表面的位置设置有连通存水腔5的第一排水孔6。该第一排水孔6的设置保证了放置小直径花盆100时，多余的水能够排出而不淹没花盆底部。存水腔5延伸至围壁1的设计能够减小第一排水孔6的开设难度及深度，使得加工方便。在第一排水孔6上可拆卸的装有第一封堵头，用于放置大直径花盆时堵住第一排水孔。进一步优选的，在围壁1上对齐大径支撑台4上表面的位置设置有连通存水腔5的第二排水孔7。该第二排水孔7的设置保证了放置大直径花盆200时，多余的水能够排出而不淹没对应花盆的底部。在第二排水孔7上可拆卸的装有第二封堵头，用于放置盆底直径大于围壁1顶端直径的特大直径花盆时堵住第二排水孔。进一步优选的，围壁1顶部比支撑组件的顶部高出1～3cm。围壁1顶端还环形阵列设置有4～8个支护8。这些支护8用于阻挡基质培花盆底部直径小于围壁1顶端直径的大直径花盆，避免大直径花盆200的侧移甚至掉落。进一步优选的，围壁1的外壁上沿竖向接有水位观察管9，水位观察管9为透明管并连通存水腔5，用户观察水位观察管9即可获知栽培装置内的水位。以上所述只是本技术优选的实施方式，其并不构成对本技术保护范围的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁(1)和设置在围壁(1)内的底座(2)，其特征在于：所述底座(2)包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座(2)的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台(3)和大径支撑台(4)，小径支撑台(3)内边缘距离底座(2)中心的距离小于大径支撑台(4)边缘距离底座(2)中心的距离，所述支撑组件高于底座(2)底面从而形成存水腔(5)。

【技术特征摘要】
1.一种基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁(1)和设置在围壁(1)内的底座(2)，其特征在于：所述底座(2)包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座(2)的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台(3)和大径支撑台(4)，小径支撑台(3)内边缘距离底座(2)中心的距离小于大径支撑台(4)边缘距离底座(2)中心的距离，所述支撑组件高于底座(2)底面从而形成存水腔(5)。2.根据权利要求1所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：所述存水腔(5)延伸至围壁(1)，在围壁(1)上对齐小径支撑台(3)上表面的位置设置有连通存水腔(5)的第一排水孔(6)，所述第一排水孔(6)上...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙映波，于波，赵超艺，黄丽丽，张佩霞，刘海林，陈金峰，邹春萍，廖庆贤，李宝华，
申请(专利权)人：广东省农业科学院环境园艺研究所，
类型：新型
国别省市：广东,44