带电粒子束装置以及试样加工方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供带电粒子束装置以及试样加工方法，其能够对减小了试样的厚度的整个微小试样片均匀地照射带电粒子束并且能够明确地掌握加工时的加工终点。该带电粒子束装置朝向试样照射带电粒子束，制成微小试样片，其特征在于，该带电粒子束装置具有：带电粒子束镜筒，其能够朝向所述试样照射带电粒子束；试样室，其收纳所述带电粒子束镜筒；以及试样片支架，其能够保持所述试样，在通过所述带电粒子束形成减小了所述试样的一部分区域的厚度的微小试样片时，与该微小试样片的减薄部分相邻的部分形成相对于所述减薄部分倾斜的倾斜部。

Charged particle beam device and sample processing method

The invention provides a charged particle beam device and a sample processing method, which can uniformly irradiate a charged particle beam on an entire small sample sheet which reduces the thickness of the sample and can clearly grasp the processing end point. The charged particle beam device irradiates the charged particle beam toward the sample and makes a small sample sheet. The charged particle beam device is characterized in that the charged particle beam mirror tube can irradiate the charged particle beam toward the sample; the sample chamber receives the charged particle beam mirror tube; and the sample sheet support can protect the charged particle beam. Holding the specimen, when forming a small specimen sheet through the charged particle beam that reduces the thickness of a part of the specimen, the adjacent portion of the thin portion of the specimen sheet forms an inclined portion relative to the thin portion.

【技术实现步骤摘要】
带电粒子束装置以及试样加工方法
本专利技术涉及用于使用带电粒子束进行试样的加工的带电粒子束装置以及使用了带电粒子束的试样加工方法。
技术介绍
例如，作为对半导体设备等试样的内部构造进行分析、或者进行立体观察的方法的一种，公知有如下的截面加工观察方法：使用搭载有带电粒子束(FocusedIonBeam：FIB)镜筒和电子束(ElectronBeam；EB)镜筒的带电粒子束复合装置来进行基于FIB的截面形成加工和通过扫描型电子显微镜(ScanningElectronMicroscope：SEM)观察其截面(例如参照专利文献1)。该截面加工观察方法公知有通过重复进行基于FIB的截面形成加工和基于SEM的截面观察来构建三维图像的方法。在该方法中，能够根据重新构建的三维立体像从各种方向详细地分析对象试样的立体形体。并且，具有能够再现对象试样的任意的截面像这样的其他方法所没有的优点。另一方面，SEM原理上在高倍率(高分辨率)的观察中存在极限，另外，所获得的信息也限定于试样表面附近。因此，也公知有如下的观察方法：为了在更高倍率下进行高分辨率的观察，对加工成薄膜状的试样使用使电子透射过的透射型电子显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带电粒子束装置，其朝向试样照射带电粒子束，制成微小试样片，其特征在于，其具有：带电粒子束镜筒，其能够朝向所述试样照射带电粒子束；试样室，其收纳所述带电粒子束镜筒；以及试样片支架，其能够保持所述试样，在通过所述带电粒子束形成减小了所述试样的一部分区域的厚度的微小试样片时，与该微小试样片的减薄部分相邻的部分形成相对于所述减薄部分倾斜的倾斜部。

【技术特征摘要】
2017.03.27 JP 2017-0609071.一种带电粒子束装置，其朝向试样照射带电粒子束，制成微小试样片，其特征在于，其具有：带电粒子束镜筒，其能够朝向所述试样照射带电粒子束；试样室，其收纳所述带电粒子束镜筒；以及试样片支架，其能够保持所述试样，在通过所述带电粒子束形成减小了所述试样的一部分区域的厚度的微小试样片时，与该微小试样片的减薄部分相邻的部分形成相对于所述减薄部分倾斜的倾斜部。2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，该带电粒子束装置以相对于所述倾斜部平行的方式照射氩离子束。3.一种试样加工方法，其是朝向试样照射带电粒子束，制成减小了所述试样的一部分区域的厚度的微小试样片的试样加工方法，其特征在于，其具有倾斜部形成工序，在该倾斜部形成工序中，通过所述带电粒子束的照射，沿所述试样的厚度方向重叠形成多个去除区域，所述去除区域具有沿所述厚度方向的规定的加工厚度和沿与所述厚度方向垂直的宽度方向的加工宽...

【专利技术属性】
技术研发人员：酉川翔太，大西毅，
申请(专利权)人：日本株式会社日立高新技术科学，
类型：发明
国别省市：日本,JP