一种消除水击影响的装置制造方法及图纸

本发明专利技术创造提供了一种消除水击影响的装置，包括支撑架、堰流管组和浊物收集器；所述支撑架设置在储液容器内部，支撑架包括顶板、金属网和底板，所述顶板和底板平行且通过金属网相连，所述底板嵌入储液容器的器壁中，在底板上均布有排放口；所述堰流管组设置在支撑架内部，堰流管组的底端与底板固接，堰流管组包括至少两根堰流管，各堰流管同轴放置，且堰流管管壁之间有间隙；所述浊物收集器的开口端嵌入储液容器的器壁中，且与底板对正，浊物收集器用于收集堰流管组内部沉积的固体浊物。本发明专利技术创造所述的一种消除水击影响的装置，通过堰流管组产生的堰流效果，消除水锤现象对储液容器内液位的影响。

A device to eliminate the impact of water hammer

The invention provides a device for eliminating the influence of water hammer, including a support frame, a weir flow pipe group and a turbidity collector; the support frame is arranged inside a liquid storage container, and the support frame comprises a top plate, a metal mesh and a bottom plate, the top plate and the bottom plate are parallel and connected through a metal mesh, and the bottom plate is embedded in the wall of the liquid storage container. The bottom of the weir flow pipe group includes at least two weir flow pipes, each of which is placed in coaxial direction, and there is a gap between the wall of the weir flow pipe; the open end of the turbidity collector is embedded in the wall of the liquid storage container, and the bottom of the weir flow pipe group is fixed with the bottom plate. The bottom plate is positive and the turbidite collector is used to collect the solid turbidite deposited inside the weir pipe group. The invention creates a device for eliminating the influence of water hammer, and eliminates the influence of water hammer on the liquid level in the liquid storage container through the weir flow effect produced by the weir flow pipe group.

【技术实现步骤摘要】
一种消除水击影响的装置
本专利技术创造属于液体输送设备领域，尤其是涉及一种消除水击影响的装置。
技术介绍
在进行液体输送过程中，经常会发生水锤现象。所谓水击现象又名水锤现象，是由于流体流量急剧变化而引起较大的压力波动并造成振动的现象，其瞬间压力可大大超过正常压力，并会对输液管道和储液容器产生破坏性影响。当管路发生水锤现象时，会诱发储液容器内部的液位波动，该液位波动会储液容器内部发出异响，制造厂房内的噪音污染，同时会使得液位计量表发生倒转，缩短计量表的使用寿命。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术创造旨在提出一种消除水击影响的装置，在发生水锤现象时降低储液容器的液位波动。为达到上述目的，本专利技术创造的技术方案是这样实现的：一种消除水击影响的装置，包括：堰流管组和支撑架；所述堰流管组设置在支撑架内部，包括至少两根堰流管，任意两根堰流管同轴放置，且相邻的堰流管管壁之间有间隙；所述支撑架设置在储液容器内部，包括顶板、金属网和底板，所述顶板与底板平行，且通过金属网相连，所述金属网用于对堰流管进行径向限位，防止堰流管因冲击发生振动，所述底板上均布有排放口，所述排放口用于排出堰流管组内部的沉淀物；所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消除水击影响的装置，其特征在于：包括堰流管组(2)和支撑架(1)；所述堰流管组(2)设置在支撑架(1)内部，包括至少两根堰流管(21)，任意两根堰流管(21)同轴放置，且相邻的堰流管(21)管壁之间有间隙；所述支撑架(1)设置在储液容器(3)内部，包括顶板(11)、金属网(12)和底板(13)，所述顶板(11)与底板(13)平行，且通过金属网(12)相连，所述金属网(12)用于对堰流管(21)进行径向限位，防止堰流管(21)因冲击发生振动，所述底板(13)上均布有排放口(131)，所述排放口(131)用于排出堰流管组(2)内部的沉淀物；所述底板(13)与堰流管(21)的底端相固接，所述...

【技术特征摘要】
1.一种消除水击影响的装置，其特征在于：包括堰流管组(2)和支撑架(1)；所述堰流管组(2)设置在支撑架(1)内部，包括至少两根堰流管(21)，任意两根堰流管(21)同轴放置，且相邻的堰流管(21)管壁之间有间隙；所述支撑架(1)设置在储液容器(3)内部，包括顶板(11)、金属网(12)和底板(13)，所述顶板(11)与底板(13)平行，且通过金属网(12)相连，所述金属网(12)用于对堰流管(21)进行径向限位，防止堰流管(21)因冲击发生振动，所述底板(13)上均布有排放口(131)，所述排放口(131)用于排出堰流管组(2)内部的沉淀物；所述底板(13)与堰流管(21)的底端相固接，所述顶板(11)上设有进水孔(111)，进水管(112)穿过进水孔(111)后插入最内层堰流管(21)的内部。2.根据权利要求1所述的一种消除水击影响的装置，其特征在于：所述堰流管组(2)内各堰流管(21)的顶部管口高度由内至外依次降低,最内层堰流管(21)的顶部与顶板(11)之间设有空隙。3.根据权利要求1所述的一种消除水击影响的装置，其特征在于：所述堰流管(21)的顶端与顶板(11)相固接，且在各堰流管(21)的侧壁上均设有堰流孔(22)。4.根据权利要求2所述的一种消除水击影响的装置，其特征在于：所述底板(13)嵌入储液容器(3)的底面内，所述支撑架(1)与储液容器(3)的底面垂直，所述堰流管组(2)与底板(13)相垂直。5.根据权利要求4所述的一种消除水击影响的装置，其特征在于：所述堰流管(21)的顶部端面为凸起的弧形...

【专利技术属性】
技术研发人员：许圣传，王慧君，马莎莎，
申请(专利权)人：天津宏捷安装工程有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12