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一种消除水击影响的装置制造方法及图纸
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文档序号:19171134
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本发明创造提供了一种消除水击影响的装置,包括支撑架、堰流管组和浊物收集器;所述支撑架设置在储液容器内部,支撑架包括顶板、金属网和底板,所述顶板和底板平行且通过金属网相连,所述底板嵌入储液容器的器壁中,在底板上均布有排放口;所述堰流管组设置在...
该专利属于天津宏捷安装工程有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天津宏捷安装工程有限公司授权不得商用。
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