【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】足浴装置
本专利技术各种实施方式涉及用于浸浴身体部位(例如,足部或手部)的装置。
技术介绍
许多人在他们的生活中有时遇到足部问题。鉴于人们从事需要他们一天中大部分时间站立的工作,这并不令人惊讶。事实上,即使平均每天的行走也会在足部施加相当于数百吨压力的力量。为了缓解各种足医问题,足浴已变成了公认的治疗方法。例如,浸泡缓和足部并帮助从疲劳中恢复。足浴还刺激足部的血液循环,这增加了新陈代谢和排泄。另外,足浴有利于消除疼痛的发展,例如胼胝、踇囊肿和鸡眼。
技术实现思路
在一个实施方式中,足浴装置设置有限定平台的基座构件。柔性的、连续的侧壁从围绕基座构件的周边连接的近端区域延伸至远端区域。侧壁具有折叠位置和展开位置。基座构件的平台和侧壁配合限定用于保持水的浴腔,其中浴腔的尺寸被设计为接收身体部位。保持构件由基座构件支撑,以从基座构件延伸至侧壁的远端区域,从而将侧壁保持在展开位置。在另一个实施方式中,足浴装置设置有具有平台的壳体。壳体在其第一侧部上设置第一狭槽并且在其第二侧部上设置第二狭槽。连续的侧壁具有围绕平台的周边延伸的近端和形成唇缘的远端。侧壁可在折叠位置和展开位置之间移动,在折叠位置侧壁的近端和远端间隔开第一距离,在展开位置侧壁的近端和远端间隔开第二距离,第二距离比第一距离大。侧壁与平台配合限定浴腔,该浴腔的尺寸被设计为在展开位置时保持水并且接收身体部位。第一杆具有第一端部区域,该第一端部区域被支撑在第一狭槽内从而用于在储存位置和支撑位置之间位移,在储存位置第一杆的至少一部分被第一狭槽接收。在支撑位置第一杆从第一狭槽延伸至唇缘。第一杆具有与侧壁的唇缘选择性接合的 ...
【技术保护点】
1.一种足浴装置,其包括:基座构件,其限定平台;柔性的、连续的侧壁,其从围绕基座构件的周边连接的近端区域延伸至远端区域,侧壁具有折叠位置和展开位置,基座构件的平台和侧壁配合限定用于保持水的浴腔,该浴腔的尺寸被设计为接收身体部位;以及保持构件,其由基座构件支撑,以从基座构件延伸至侧壁的远端区域,从而将侧壁保持在展开位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.20 US 15/001,7981.一种足浴装置,其包括:基座构件,其限定平台;柔性的、连续的侧壁,其从围绕基座构件的周边连接的近端区域延伸至远端区域,侧壁具有折叠位置和展开位置,基座构件的平台和侧壁配合限定用于保持水的浴腔,该浴腔的尺寸被设计为接收身体部位;以及保持构件,其由基座构件支撑,以从基座构件延伸至侧壁的远端区域,从而将侧壁保持在展开位置。2.根据权利要求1所述的足浴装置,其中,所述保持构件进一步被限定为第一保持构件,足浴装置还包括:第二保持构件,其由基座构件支撑,以从基座构件延伸至侧壁的远端区域,从而将侧壁保持在展开位置,第二保持构件与第一保持构件间隔开。3.根据权利要求2所述的足浴装置,其中,第一保持构件由基座构件的第一侧支撑,并且第二保持构件由基座构件的相反的第二侧支撑。4.根据权利要求1所述的足浴装置,其中,保持构件包括支撑杆,该支撑杆具有通过桥接部连接的第一支腿和第二支腿,第一支腿和第二支腿各自由基座构件支撑,桥接部与处于展开位置的侧壁的远端区域配合,以将侧壁保持在展开位置。5.根据权利要求4所述的足浴装置,其中,第一支腿和第二支腿大致彼此平行。6.根据权利要求4所述的足浴装置,其中,基座构件限定第一狭槽和第二狭槽,第一狭槽和第二狭槽各自接收用于在其中位移的、支撑杆的第一端部区段和第二端部区段中的相应的一个;其中保持构件相对于基座构件具有第一储存位置,在该位置第一支腿和第二支腿各自定位在第一狭槽和第二狭槽内;并且其中保持构件相对于基座构件具有第二保持位置,在该位置第一支腿和第二支腿从基座构件向上延伸至侧壁的远端区域并且桥接部与侧壁的远端区域配合,以将侧壁保持在展开位置。7.根据权利要求6所述的足浴装置,其中,基座构件限定在第一狭槽和第二狭槽之间延伸的凹槽,该凹槽的尺寸被设计为接收第一储存位置的支撑杆的桥接部。8.根据权利要求6所述的足浴装置,其中,当保持构件处于第二保持位置时,第一支腿和第二支腿各自形成与基座构件配合的钩。9.根据权利要求6所述的足浴装置,其中,当保持构件处于第一储存位置时,支撑杆大致平行于浴腔的底板,并且当保持构件处于第二保持位置时,支撑杆大致平行于展开的侧壁的表面。10.根据权利要求1所述的足浴装置,其中,保持构件包括支撑杆,该支撑杆具有第一端部区域和第二端部区域,第一端部区域由基座构件支撑,其中支撑杆被接收在基座构件中的狭槽内从而用于位移,支撑杆具有第一储存位置和第二保持位置,在第一储存位置支撑杆的至少一部分定位在狭槽内,在第二保持位置第二端部区域接触侧壁的远端区域。11.根据权利要求10所述的足浴装置,其中,基座构件具有限定浴腔的区域的第一侧部以及相反的第二侧部,足浴装置还包括:盖,其定位在基座构件的第二侧部上的凹部上,以共同限定所述狭槽,该凹部和盖各自限定狭槽的至少一个壁。12.根据权利要求11所述的足浴装置,其中,基座构件限定内部隔室,该内部隔室尺寸被设计为接收组件;并且其中第二侧部的凹部的壁在内部隔室与狭槽之间提供屏障,以防止流体从狭槽流向内部隔室。13.根据权利要求12所述的足浴装置,其中,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:欣瓦·桑,
申请(专利权)人:FKA分销有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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