一种激光放大装置制造方法及图纸

一种激光放大装置，包括沿光路顺序设置的偏振分束镜（1），四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），相位共轭镜（5）；由相位共轭镜反射的激光束再次经过放大装置（4）和随机相位板（3）之后，之前由随机相位板（3）所产生的相位随机化被完美的补偿回来，重新使得再次经过随机相位板（3）的激光束变为了相干光。

【技术实现步骤摘要】
一种激光放大装置
本专利技术涉及一种激光放大装置，主要涉及的是粒子强场实验研究，属于高能物理领域。
技术介绍
基于超短脉冲啁啾放大(chirpedpulseamplification)技术使得激光强度提高了5到6个数量级。这种新型激光的聚焦光强高达1020W/cm2,所产生的电场强度远大于原子的内电场,但是由于其中所采用的展宽器和压缩器所采用的都是光栅或者光栅对，光栅或者光栅对制作相对复杂，成本高，在一些要求不太高的场合可能并不适合所有研究人员的选择，为解决上述技术问题，CN201410457001.9提出了一种新型的啁啾脉冲放大装置，包括光路上依次设置的振荡器和放大器，其特征在于：还包括第一相位板和第二相位板，第一相位板和第二相位板分居放大器两侧，这两个相位板具有完全相同的形状和大小，并且由完全相同的材料制造而成，如果以相位板的中心定义为相位板的原点坐标，如果第一相位板上某个点的坐标为（x,y），对于穿过该相位板的光束来说该处的相位为Φ1xy，对于第二相位板上相同的点（x,y），对于相同的光束来说该处的相位为Φ2xy，则对于整个相位板所有的位置点来说，两个相位板相同位置处的相位和为常量，也即Φ1xy+Φ2xy=恒量，并且每个相位板均是非均匀相位板，也即整个相位板上的相位数值不能完全相同，光束在两个相位板上是以垂直的方式在完全相同的位置和范围内穿过的，其中的第一相位板和第二相位板由透光性材料制造而成，其中每个相位板均是一个板状结构，包括两个侧面，其中一个侧面为平面，另外一个侧面为具有不同高度凸柱结构的面，其中两个相位板相同位置的两个凸柱的高度和是恒定的，也即如果将两个相位板的具有凸柱的面相对放置并合并，那么正好会形成一个内部没有任何空间长方体，因为两个相位板相同位置处的两个凸柱的高度和在整个相位板上是一致的，它们组成了一个互补式的结构。这种结构相对于原有技术来说虽然降低了成本，但是该装置存在着新的问题，就是两个相位板在进行位置设定时需要精确对准，并且，随机相位上的凹凸结构也要精确对准，否则就不能实现相位还原的效果，这在很大程度上增加了装置的复杂性，本专利技术正是针对上述问题提出来的。
技术实现思路
根据本专利技术的一实施例，提供了一种激光放大装置，其特征在于：包括沿光路顺序设置的偏振分束镜（1），四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），相位共轭镜（5）；待放大激光束的偏振方向与偏振分束镜的偏振方向平行，其经过偏振分束镜（1），之后顺序经过四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），并到达相位共轭镜（5），然后被相位共轭镜（5）反射，被反射之后反射光依次经过放大装置（4），随机相位板（3），四分之一波片（2），最后达到偏振分束镜（1），当激光束被相位共轭镜（5）反射之后再次通过放大装置（4）之时，减小或去除放大装置（4）的放大能力，由相位共轭镜反射的激光束再次经过放大装置（4）和随机相位板（3）之后，之前由随机相位板（3）所产生的相位随机化被完美的补偿回来，重新使得再次经过随机相位板（3）的激光束变为了相干光。附图说明附图1是本专利技术激光放大装置的示意图；附图2是本专利技术所采用的随机相位板的一实施例。具体实施方式下面将在结合附图的基础上详细描述本专利技术的激光放大装置。如图1所示，本专利技术的激光放大装置包括沿光路顺序设置的偏振分束镜1，四分之一波片2，随机相位板3，放大装置4，相位共轭镜5。待放大激光束的偏振方向与偏振分束镜的偏振方向平行，所以可无损失的经过偏振分束镜1，之后顺序经过四分之一波片2，随机相位板3，放大装置4，并到达相位共轭镜5，然后被相位共轭镜5反射，被反射之后反射光依次经过放大装置4，随机相位板3，四分之一波片2，最后达到偏振分束镜1，由于激光束先后两次通过四分之一波片，第二次经过之后其偏振方向发生90度旋转，所以此时激光束不能透射偏振分束镜1，而是被偏振分束镜反射出去。随机相位板3可为任意形式的随机相位板，例如可为CN201410457001.9中所使用的相位板对中的任意一个，如图2所示，或者现有技术中已知的其他类型的随机相位板，只要能够实现将透射其的激光束实现相位随机化即可。当激光束第一次通过随机相位板3之后，激光束被随机相位板3实现了相位的随机化，这种被随机化后的激光束被放大装置4放大之后到达相位共轭镜5，被相位共轭镜5实现相位共轭反射，反射的激光束再次通过放大装置4和随机相位板3，由于相位共轭镜5的反射为相位共轭反射，所以当反射的激光束再次经过放大装置4和随机相位板3之后，之前由随机相位板3所产生的相位随机化被完美的补偿回来，重新使得再次经过随机相位板3的激光束变为了相干光，通过使用相位共轭镜反射的方式，可省去第二块随机相位板，如果使用第二块随机相位板，则要求两个相位板相同位置处的相位和为常量，这就要求两个随机相位板必须实现精确的对准，不仅增加了加工难度，同时在位置设置上要求也极高。而本专利技术通过使用相位共轭镜来代替第二块随机相位板，同时增加了偏振分束镜和四分之一波片，可完美的解决了第二块随机相位板加工难度高、位置设置要求高的要求，并通过四分之一波片和偏振分束器实现了待放大光束与放大后光束之间的分离。同时，由于采用了相位共轭镜，所以随机相位板3的选择也就没有了任何限制，可以任意选取。同时，为了避免激光束被放大倍数过大导致激光束的现为给分布发生热畸变，进而影响到激光束第二次通过随机相位板所产生的相位补偿作用，当激光束被相位共轭镜5反射之后再次通过光放大装置4之时，相应的降低光放大装置4的泵浦能量或者去除光放大装置的泵浦能量，也即减小或去除光放大装置4的放大能力。以上只是针对该专利技术的具体说明，但是并不能理解为对本专利技术的限制。本领域技术人员预知的变形均处于本专利技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光放大装置，其特征在于：包括沿光路顺序设置的偏振分束镜（1），四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），相位共轭镜（5）；待放大激光束的偏振方向与偏振分束镜的偏振方向平行，其经过偏振分束镜（1），之后顺序经过四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），并到达相位共轭镜（5），然后被相位共轭镜（5）反射，被反射之后反射光依次经过放大装置（4），随机相位板（3），四分之一波片（2），最后达到偏振分束镜（1），当激光束被相位共轭镜（5）反射之后再次通过放大装置（4）之时，减小或去除放大装置（4）的放大能力，由相位共轭镜反射的激光束再次经过放大装置（4）和随机相位板（3）之后，之前由随机相位板（3）所产生的相位随机化被完美的补偿回来，重新使得再次经过随机相位板（3）的激光束变为了相干光。

【技术特征摘要】
1.一种激光放大装置，其特征在于：包括沿光路顺序设置的偏振分束镜（1），四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），相位共轭镜（5）；待放大激光束的偏振方向与偏振分束镜的偏振方向平行，其经过偏振分束镜（1），之后顺序经过四分之一波片（2），随机相位板（3），放大装置（4），并到达相位共轭镜（5），然后被相位共轭镜（5）反射，被反射之后反射光依次经过...

【专利技术属性】
技术研发人员：李燕，
申请(专利权)人：河北科技大学，
类型：发明
国别省市：河北,13