彩膜基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，该彩膜基板包括衬底基板；复合层，形成于衬底基板上，复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，第一平坦化层至少填充于黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于复合层上；第二平坦化层，形成于彩色滤光层上；隔垫物，形成于第二平坦化层上。通过上述方式，本申请能够提高彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制备方法、显示装置
本申请涉及显示
，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
彩膜基板、阵列基板即夹持于二者间的液晶为液晶显示装置的重要组成部分，其中，阵列基板为液晶偏转提供稳定电场，彩膜基板为经液晶偏转而透过的光提供彩色化处理。通常情况下，彩膜基板(ColorFilm，CF)包括基板、黑色矩阵(BlackMatrix，BM)、彩色滤光层(ColorFilter)、平坦层(OverCoat,OC)以及隔垫物(PostSpacer,PS)。其制备过程大致可以为：首先在衬底基板上形成黑色矩阵的图案，然后形成红绿蓝三色滤光层的图形，接着在黑色矩阵和彩色滤光层上方形成一层平坦层，最后在平坦层上方形成柱状隔垫物。为防止漏光，彩色滤光层图案和黑色矩阵有一定的重叠，因此彩色滤光层填充黑色矩阵的网格框内后，彩色滤光层表面实际为弧形结构，重叠部分产生的断差以及彩色滤光层面的弧形结构，使彩色滤光层面下凹，严重时会导致该处的液晶偏转出现偏差，影响显示产品的画质。
技术实现思路
本申请提供一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，能够提高彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：衬底基板；复合层，形成于所述衬底基板上，所述复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，所述第一平坦化层至少填充于所述黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于所述复合层上；第二平坦化层，形成于所述彩色滤光层上；隔垫物，形成于所述第二平坦化层上。为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种彩膜基板的制备方法，所述方法包括在衬底基板上制备复合层，所述复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，所述第一平坦化层至少填充于所述黑色矩阵之间；在所述复合层上依次制备图形化的彩色滤光层、第二平坦化层以及隔垫物。为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种显示装置，所述显示装置包括上述任一所述的彩膜基板。本申请的有益效果是：提供一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，通过对图形化的黑色光阻进行平坦化处理，可以提高彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。附图说明图1是本申请彩膜基板制备方法第一实施方式的流程示意图；图2是本申请彩膜基板一实施方式的制备示意图；图3是本申请中步骤S10一实施方式的流程示意图；图4是本申请彩膜基板制备方法第二实施方式的流程示意图；图5是本申请彩膜基板第二实施方式的制备示意图；图6是本申请彩膜基板第一实施方式的结构示意图；图7是本申请彩膜基板第二实施方式的结构示意图；图8是本申请显示装置一实施方式的结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。请参阅图1，图1为本申请彩膜基板制备方法第一实施方式的流程示意图。如图1所示，本申请中彩膜基板的具体制备包括如下步骤：S10，在衬底基板上制备复合层，复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，第一平坦化层至少填充于黑色矩阵之间。请一并结合图2，图2为本申请彩膜基板一实施方式的制备示意图。在步骤S10中，首先提供一衬底基板100，其中，衬底基板100可以为透明材质，具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此处本专利技术不做具体限定。进一步在该衬底基板100上制备复合层N，该复合层N包括多个黑色矩阵110和第一平坦化层120，且该第一平坦化层120至少填充于黑色矩阵110之间。本实施例中的第一平坦化层120为填充在黑色矩阵之间形成的网格中，且其厚度和黑色矩阵相同，具体描述如下。请一并参阅图3，图3为本申请中步骤S10一实施方式的流程示意图，步骤S10进一步包括如下子步骤：S101，在所衬底基板上制备具有图形化的黑色矩阵。进一步在该衬底基板100上制备图形化的黑色矩阵110，黑色矩阵110围成的网格形成像素区。其主要作用是用于分割相邻色阻，遮挡色彩的空隙，防止漏光或者混色以及增加色彩的对比性。本申请中的黑色矩阵(BM)110一般采用负性光阻，且其图形化处理一般采用光刻工艺进行，即利用掩膜板对其进行处理，得到所需要的图形，且具体地光刻工艺可以参照现有技术中的制备方法，此处不再赘述。S102，在图形化的黑色矩阵上沉积第一平坦化层。本实施例中，在制备完具有图形化的黑色矩阵110后，进一步在该具有图形化黑色矩阵110的衬底基板100上沉积第一平坦化层120。其中，该第一平坦化层120采用透明的光阻材料，具体可以是正性的PFA材料，当然也可以是其他正性的光阻材料，此处不做进一步限定。S103，对第一平坦化层图形化处理，以使得第一平坦化的厚度和黑色矩阵的厚度相同。进一步对该第一平坦化层120进行图案化处理，以使得第一平坦化的图形化和所述黑色矩阵的图形化互补。具体来说，本实施例中，第一平坦化层120的图形化处理可以和黑色矩阵的图形化共用一道掩膜，从而可以节省一道掩膜的费用，从而降低工艺的成本。可选地，本实施例中，通过对黑色矩阵110进行平坦化处理，可以得到非常平整的第一平坦化层120，且该第一平坦化层120的厚度和黑色矩阵110的厚度相同。通过上述制程，可以保证后续的彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵110重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。S11，在复合层上依次制备图形化的彩色滤光层、第二平坦化层以及隔垫物。在平坦化处理后的黑色矩阵110上(即复合膜层N)依次制备彩色滤光层130、第二平坦化层140以及隔垫物150。其中，彩色滤光层130形成于第一平坦化层120及图形化的黑色矩阵110上，且彩色滤光层130与黑色矩阵110至少部分重叠。相比现有技术中彩色滤光层填充在黑色矩阵形成的网格中，其膜面为弧形结构，本申请因在制备完黑色矩阵110后对其进行了平坦化处理，形成第一平坦化层120，该第一平坦化层120的制备可以有效改善彩色滤光层130的断差以及保证彩色滤光层130膜面的平整性，进而可以提升液晶显示的品质。其中，第二平坦化层140也可以采用和第一平坦化层120相同的材料，即透明的光阻材料。采用该彩膜基板形成显示装置时，彩膜基板和阵列基板之间需要保持稳定距离的间隙，因此通常还会再彩膜基板与阵列基板相对的一侧形成隔垫物150，以在彩膜基板和阵列基板之间获得稳定的支撑，且该隔垫物150位于彩色滤光层130所在列的像素区的后方。上述实施方式，通过对图形化的黑色光阻进行平坦化处理，可以提高彩色滤光层表面的平整性，减小彩色滤光层和黑色矩阵重叠部分之间的断差，提升液晶显示的品质。请参阅图4-5，图4为本申请彩膜基板制备方法第二实施方式的流程示意图。图5为本申请彩膜基板第二实施方式的制备示意图。本实施例是在彩膜基板第一实施方式的基础上的进一步扩展，且和第一实施方式大致相同，且其相同之处不再赘述，具体包括如下步骤：S20，在衬底基板上制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底基板；复合层，形成于所述衬底基板上，所述复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，所述第一平坦化层至少填充于所述黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于所述复合层上；第二平坦化层，形成于所述彩色滤光层上；隔垫物，形成于所述第二平坦化层上。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底基板；复合层，形成于所述衬底基板上，所述复合层包括间隔设置的多个黑色矩阵和第一平坦化层，所述第一平坦化层至少填充于所述黑色矩阵之间；彩色滤光层，形成于所述复合层上；第二平坦化层，形成于所述彩色滤光层上；隔垫物，形成于所述第二平坦化层上。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一平坦化层填充于所述黑色矩阵之间，且所述第一平坦化层的厚度和所述黑色矩阵的厚度相同。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤光层形成于所述第一平坦化层及所述图形化的黑色矩阵上，且所述彩色滤光层与所述黑色矩阵至少部分重叠。4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤光层形成于所述第一平坦化层上，所述第一平坦化层覆盖所述黑色矩阵。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一平坦化层及所述第二平坦化层采用透明光阻材料。6.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上...

【专利技术属性】
技术研发人员：江志雄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44