一种低辐射镀膜玻璃制造技术

本发明专利技术提供一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层介质层；所述内层介质层和外层介质层分别为Si3N4薄膜和MgF2薄膜，功能层为ATO膜或者ATO/Ag复合膜。本发明专利技术的低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.09，可见光光透过率为76.5%～88.7%，平均透过率为82.7%，红外区（4000‑400cm‑1）的反射率为82.86%～99.41%，平均反射率为90.87%。

A low radiation coated glass

The invention provides a low radiation coating glass and a preparation method thereof. The low radiation coating glass comprises a glass substrate and an inner dielectric layer, a functional layer and an outer dielectric layer sputtered successively on the glass substrate. The inner dielectric layer and the outer dielectric layer are Si3N4 film and MgF2 film respectively, and the functional layer is an ATO film or an ATO/A film. G composite membrane. The radiation rate of the low radiation coated glass of the invention is 0.09, the visible light transmittance is 76.5%-88.7%, the average transmittance is 82.7%, the reflectivity in the infrared region (4000 400 cm_1) is 82.86%-99.41%, and the average reflectivity is 90.87%.

【技术实现步骤摘要】
一种低辐射镀膜玻璃
本专利技术涉及镀膜玻璃
，具体涉及一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是在玻璃表面上沉积多层膜物质，使其具有高可见光透过率和高远红外反射率，从而达到保温隔热的目的，其广泛应用于建筑及其它行业，常用来做玻璃幕墙结构、门窗、车窗等等，以减少空调能耗，达到节能环保的目的。通常我们用的低辐射镀膜玻璃是在玻璃表面沉积由金属(如Ag)薄膜或介质膜组成的组合薄膜，在保证其可见区域透射率尽可能高的条件下，尽可能减少室内外辐射能量的交换，从而达到节能效果的镀膜玻璃。就目前来看，国内市售的普通低辐射镀膜玻璃的光学性能较差，可见光透过率低于80％，红外反射率只有70％左右。并且，它们大多采用纯银功能层，由于银极易被氧化，使用寿命低，耐候性较差等原因使得银型低辐射玻璃难以的到广泛应用。另外，低辐射镀膜玻璃银层掺杂性能的工艺研究备受关注，但大多效果不尽如人意。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对上述现有技术存在的不足而提供一种新型低辐射镀膜玻璃以代替传统低辐射镀膜玻璃或对当前低辐射镀膜玻璃的缺陷进行改善并优化其性能，辐射率为0.09，可见光光透过率为7本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于它包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层保护层，所述内层介质层和外层保护层分别为Si3N4薄膜和MgF2薄膜，功能层为ATO薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于它包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层保护层，所述内层介质层和外层保护层分别为Si3N4薄膜和MgF2薄膜，功能层为ATO薄膜。2.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于它包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层保护层，所述内层介质层和外层保护层分别为Si3N4薄膜和MgF2薄膜，功能层由ATO薄膜与Ag薄膜组成的复合薄膜构成。3.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述内层介质层的膜层厚度为200～220nm，外层保护层的膜层厚度为80～100nm。4.根据权利要求2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述内层介质层的膜层厚度为30～40nm，外层保护层的膜层厚度为80～100nm。5.根据权利要求1或2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述ATO薄膜的Sb掺杂量为1～10at%，其膜层厚度为550～650nm；Ag薄膜的膜层厚度为8～12nm。6.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.09～0.10，可见光光透过率为76.5%～90%，平均透过率为80～85%，红外区的反射率为82.86%～99.41%，平均反射率为88～92%。7.权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于主要步骤如下：1）于惰性气体氛围中在玻璃基片上溅射内层介质层，溅射条件为：真空气压为0.5～0.8Pa，Si3N4靶的功率为100～150W左右，溅射时间为20～30min；2）于惰性气体氛围中在内层介质层上溅射功能层，溅射条件为：真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵修建，李群杰，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42