会持续产生负离子的结晶釉面砖及其制备方法技术

本发明专利技术的会持续产生负离子的结晶釉面砖及其制备方法，在不对现有釉面砖生产工艺做出重大改变的基础上，重点对熔块的配方组成、基础釉的配方组成、晶核剂的配方组成、面釉的配方组成、基础釉和晶核剂细度的优选及烧成工艺的优化等，使制得的釉面砖产品表面呈现出许多米粒大小的银白色结晶体，结晶体在斜光或灯光照射下发出耀眼的银光，而包围的釉基体则呈现亚光状，如颗颗灼灼生辉的繁星挂在夜空中；该产品的面釉里还生成许多肉眼看不见的光催化半导体微晶矿物SrTiO3及CaO·TiO2，会持续不断的与空气中的氧反应生成负氧离子，诱生空气负离子量达到538个/(s·㎝2),是集装饰性、艺术性、生态健康功能性于一体的装饰材料。

Crystalline glazed tiles that will continue to produce negative ions and their preparation methods

The crystalline glazed tile which can continuously produce negative ions and its preparation method are described. On the basis of not making significant changes in the existing glazed tile production process, the formula composition of the frit, the basic glaze, the formula composition of the nucleating agent, the formula composition of the surface glaze, the optimization of the fineness of the basic glaze and the nucleating agent, and the firing process are emphasized. The surface of the glazed tiles shows a lot of silver-white crystals with the size of rice grains. The crystals emit a dazzling silver light under oblique light or lamplight. The glazed substrate is subglossy, such as the starry stars hanging in the night sky. Invisible photocatalytic semiconductor microcrystalline minerals SrTiO3 and CaO TiO2 will continuously react with oxygen in the air to form negative oxygen ions. The amount of negative air ions induced is 538 / (s 2132), which is a decorative material with decorative, artistic and ecological health functions.

【技术实现步骤摘要】
会持续产生负离子的结晶釉面砖及其制备方法
：本专利技术涉及釉面砖的制备
，尤其是指一种会持续产生负离子的结晶釉面砖及其制备方法。
技术介绍
：空气中的正、负离子按照迁移率的大小分为大、中、小三种离子，其中小的空气离子具有高的运动速度，在大气中互相碰撞，又不断聚集，形成大离子或中离子，只有小离子或称之为小离子团才能进入生物体。而其中的小负氧离子或称之为小离子团，有良好的生物活动，易于透过人体血脑屏障，进入人体发挥其生物效应。空气中的负氧离子简称负离子，被称为“长寿素”或“空气维生素”，人类健康同样离不开负离子，大量临床实践证明，给予生命体自然界的能量负离子可获得惊人的疗效，负离子还可以使空气净化，起到消毒杀菌的作用；负离子对呼吸系统、循环系统、神经系统、五官科疾病等都具有非常有利的影响，人长期处在负离子的环境中，可改善身体健康，增强人体免疫力、抗菌力、可调节大脑皮层兴奋和抑制过程，使之趋于正常，提高脑力活动和工作效率，改善睡眠质量，促进人体新陈代谢。因此，在繁忙的工作之余，人们往往走出居住的空间，去公园、森林、湖泊、野外休闲散步、度假，用负离子来对身体各内脏器官进行清洁洗涤。为此各种具有负离子功能的装饰材料也应运而生，尤其是陶瓷砖，因其具有易清洁、防火、防潮、装饰性等一体，一直是家居装修中必不可少的装饰材料，其应用空间大，但由于陶瓷砖需要经过1000℃以上的高温烧成，因此一般的负离子材料在高温中会失去产生负离子的功能，为此一些厂家通过将Ag+、Cu+、Zn2+等负离子及其化合物结合于无机材料喷涂在陶瓷砖表面来使陶瓷砖产生负离子功能；或者通过螯合钛热喷涂法将陶瓷材料加热到500℃～600℃，将双异丙氧基-双辛烯乙醛酰钛溶解在适当的溶剂中，经喷枪喷洒在陶瓷砖表面上，得到TiO2光催化半导体涂层，能透发空气产生负离子等。采用这些方法诱发空气产生的负离子不持久，随着时间的推移，产生负离子的功效会逐渐降低，甚至会完全丧失，更为繁琐的是有些材料经常还要用紫外线来进行光催化，以激活材料中的带电离子来诱发空气产生负离子。因此如能让陶瓷砖的釉在高温煅烧后自然生成一种特殊的光催化半导体矿物，这些矿物在光的照射下，电子或空穴能够被光子(hv)激活而实现流动，从而形成电子导电，在陶瓷砖表面持久生成一种“光电反应”从而诱发空气持续产生负离子，使陶瓷砖集装饰性与生态健康功能性于一体，必然会成为市场新宠。
技术实现思路
：本专利技术在于克服上述缺点，提供一种会持续产生负离子的结晶釉面砖及其制备方法。在不对现有釉面砖生产工艺做出重大改变的基础上，通过对熔块的配方组成、基础釉的配方组成、晶核剂的配方组成、面釉的配方组成、基础釉和晶核剂细度的优选、烧成工艺的调整与优化，从而使制得的釉面砖产品表面呈现出许许多多米粒大小的银白色结晶体，且这些结晶体在光泽上与包围在其周边的釉基体形成强烈的反差，在灯光照射下，这些结晶体发出耀眼的银光，而包围在其周边的釉基体则呈现亚光状，尤如颗颗灼灼生辉的繁星挂在夜空中，同时该产品的面釉中还生成了许多肉眼看不见的具有光催化半导体材料功能的SrTiO3及CaO·TiO2微晶矿物，在光照作用下，这些光催化半导体的微晶矿物的电子或空穴能够被光子(hv)激活而实现流动，从而形成电子导电，进而与空气中的氧发生反应，使空气电离，产生负离子，经GB/T2868-2012材料诱生空气离子量测试方法测量空气负离子诱生量为≥500个/(s·㎝2)，且表面装饰的图案纹理清晰、颜色逼真，手指触摸细腻平滑，釉面质量好、耐腐蚀性和耐污性强、耐磨度高、无针孔、釉泡等缺陷，具有独特的装饰性和生态健康功能性，是一款良好的绿色健康装饰材料；同时该技术具备较强的普适性，易于在行业内推广。为解决上述技术问题，本专利技术通过以下技术方案实现：本专利技术的会持续产生负离子的结晶釉面砖，其包括：面釉：按以下重量份组分配制：基础釉80～92份，晶核剂8～20份；其中基础釉按以下重量百分比组分配制：SiO236.8％～37.8％，Al2O315.3％～16.3％，CaO9％～10％，MgO3％～4％，K2O1.3％～2.3％，Na2O0.4％～1.4％，TiO22％～3％,ZrO27.2％～8.2％，B2O30.5％～1.5％，BaO2％～3％，ZnO8％～9％，SrO0.4％～0.8％,烧失量4.5％～6.5％；所有的组分之和为100％；外加重量百分比为0.4％～0.8％的辅助原料A，再加入适量的水经球磨细碎成细度为325目筛的筛余为质量百分比0.2％～0.6％，且含质量百分比为28％～30％水分的釉浆，经除铁过筛即得基础釉；其中的外加辅助原料A包括羧甲基纤维素钠、水玻璃和三聚磷酸钠；其中用于制备基础釉的熔块按以下重量百分比组分配制：SiO253.5％～54.5％，Al2O33％～4％，CaO14.5％～15.5％，MgO3％～4％，K2O3％～4％，Na2O0.1％～0.5％，TiO25％～6％，ZnO7％～8％，SrO1％～2％,ZrO25％～6％，B2O32％～3％，所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围1500℃～1520℃；面釉的施釉量为900～1000g/m2，所述的施釉量为含水釉浆重；晶核剂：按以下重量百分比组分配制：SiO260％～61％，Al2O38％～9％，CaO9％～10％，K2O4％～5％，Na2O0.5％～1.3％，TiO20.2％～0.8％，Fe2O30.2％～0.6％，ZnO3％～4％，SrO0.5％～1.5％,ZrO23.5％～4.5％，PbO1％～2％，BaO1％～2％，CeO20.5％～1.5％；所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围为1480℃～1500℃；外加重量百分比为0.4％～1％的辅助原料B，再加入适量的水经球磨细碎成细度为200目筛的筛余为质量百分比为2％～6％且含质量百分比为28％～30水分的浆料，经过筛即得晶核剂；其中的辅助原料B包括羧甲基纤维素钠、聚丙烯酸钠和三聚磷酸钠；辊道窑釉烧的最高烧成温度范围为1100℃～1130℃，烧成时间范围为60～100分钟，并控制冷却时从最高烧成温度点冷却降低120℃时进行保温，并保证保温时间占总烧成时间的30％，然后再按正常冷却速度进行冷却至出窑温度。本专利技术的会持续产生负离子的结晶釉面砖的进一步优化为：所述的面釉高温烧成后表面呈现出许多米粒大小的银白色结晶体，这些结晶体在斜光或灯光照射下发出耀眼的银光，而包裹其周围的釉基体则呈现亚光状；所述面釉高温烧成后还生成许多肉眼看不见的具有光催化半导体材料功能的SrTiO3及CaO·TiO2微晶矿物；所述面釉高温烧成后会持续产生负离子，经检测空气负离子诱生量≥500个/(s·㎝2)。本专利技术的会持续产生负离子的结晶釉面砖在常规釉面砖制备工艺的基础上，结合上述提供的工艺参数就可以制备得到本专利技术所述的会持续产生负离子的结晶釉面砖。本专利技术还涉及一种会持续产生负离子的结晶釉面砖的制备方法，其包括：A、熔块的制备：熔块的组分的重量百分比为：SiO253.5％～54.5％，Al2O33％～4％，CaO14.5％～15.5％，MgO3％～4％，K2O3％～4％，Na2O0.1％～0.5％，TiO25％～6％，ZnO7％～8％，Sr本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种会持续产生负离子的结晶釉面砖，其特征在于：面釉：按以下重量份组分配制：基础釉80～92份，晶核剂8～20份；其中基础釉按以下重量百分比组分配制：SiO2 36.8％～37.8％，Al2O3 15.3％～16.3％，CaO 9％～10％，MgO 3％～4％，K2O 1.3％～2.3％，Na2O 0.4％～1.4％，TiO2 2％～3％,ZrO2 7.2％～8.2％，B2O3 0.5％～1.5％，BaO 2％～3％，ZnO 8％～9％，SrO 0.4％～0.8％,烧失量4.5％～6.5％；所有的组分之和为100％；外加重量百分比为0.4％～0.8％的辅助原料A，再加入适量的水经球磨细碎成细度为325目筛的筛余为质量百分比0.2％～0.6％，且含质量百分比为28％～30％水分的釉浆，经除铁过筛即得基础釉；其中的外加辅助原料A包括羧甲基纤维素钠、水玻璃和三聚磷酸钠；其中用于制备基础釉的熔块按以下重量百分比组分配制：SiO2 53.5％～54.5％，Al2O3 3％～4％，CaO 14.5％～15.5％，MgO 3％～4％，K2O 3％～4％，Na2O 0.1％～0.5％，TiO2 5％～6％，ZnO 7％～8％，SrO 1％～2％,ZrO2 5％～6％，B2O3 2％～3％，所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围1500℃～1520℃；面釉的施釉量为900～1000g/m2，所述的施釉量为含水釉浆重；晶核剂：按以下重量百分比组分配制：SiO2 60％～61％，Al2O3 8％～9％，CaO 9％～10％，K2O 4％～5％，Na2O 0.5％～1.3％，TiO2 0.2％～0.8％，Fe2O3 0.2％～0.6％，ZnO 3％～4％，SrO 0.5％～1.5％,ZrO2 3.5％～4.5％，PbO 1％～2％，BaO 1％～2％，CeO2 0.5％～1.5％；所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围为1480℃～1500℃；外加重量百分比为0.4％～1％的辅助原料B，再加入适量的水经球磨细碎成细度为200目筛的筛余为质量百分比为2％～6％且含质量百分比为28％～30水分的浆料，经过筛即得晶核剂；其中的辅助原料B包括羧甲基纤维素钠、聚丙烯酸钠和三聚磷酸钠；辊道窑釉烧的最高烧成温度范围为1100℃～1130℃，烧成时间范围为60～100分钟，并控制冷却时从最高烧成温度点冷却降低120℃时进行保温，并保证保温时间占总烧成时间的30％，然后再按正常冷却速度进行冷却至出窑温度。...

【技术特征摘要】
1.一种会持续产生负离子的结晶釉面砖，其特征在于：面釉：按以下重量份组分配制：基础釉80～92份，晶核剂8～20份；其中基础釉按以下重量百分比组分配制：SiO236.8％～37.8％，Al2O315.3％～16.3％，CaO9％～10％，MgO3％～4％，K2O1.3％～2.3％，Na2O0.4％～1.4％，TiO22％～3％,ZrO27.2％～8.2％，B2O30.5％～1.5％，BaO2％～3％，ZnO8％～9％，SrO0.4％～0.8％,烧失量4.5％～6.5％；所有的组分之和为100％；外加重量百分比为0.4％～0.8％的辅助原料A，再加入适量的水经球磨细碎成细度为325目筛的筛余为质量百分比0.2％～0.6％，且含质量百分比为28％～30％水分的釉浆，经除铁过筛即得基础釉；其中的外加辅助原料A包括羧甲基纤维素钠、水玻璃和三聚磷酸钠；其中用于制备基础釉的熔块按以下重量百分比组分配制：SiO253.5％～54.5％，Al2O33％～4％，CaO14.5％～15.5％，MgO3％～4％，K2O3％～4％，Na2O0.1％～0.5％，TiO25％～6％，ZnO7％～8％，SrO1％～2％,ZrO25％～6％，B2O32％～3％，所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围1500℃～1520℃；面釉的施釉量为900～1000g/m2，所述的施釉量为含水釉浆重；晶核剂：按以下重量百分比组分配制：SiO260％～61％，Al2O38％～9％，CaO9％～10％，K2O4％～5％，Na2O0.5％～1.3％，TiO20.2％～0.8％，Fe2O30.2％～0.6％，ZnO3％～4％，SrO0.5％～1.5％,ZrO23.5％～4.5％，PbO1％～2％，BaO1％～2％，CeO20.5％～1.5％；所有的组分之和为100％；熔块池窑熔制的温度范围为1480℃～1500℃；外加重量百分比为0.4％～1％的辅助原料B，再加入适量的水经球磨细碎成细度为200目筛的筛余为质量百分比为2％～6％且含质量百分比为28％～30水分的浆料，经过筛即得晶核剂；其中的辅助原料B包括羧甲基纤维素钠、聚丙烯酸钠和三聚磷酸钠；辊道窑釉烧的最高烧成温度范围为1100℃～1130℃，烧成时间范围为60～100分钟，并控制冷却时从最高烧成温度点冷却降低120℃时进行保温，并保证保温时间占总烧成时间的30％，然后再按正常冷却速度进行冷却至出窑温度。2.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁桐灿，余国明，欧家瑞，王勇，
申请(专利权)人：广东宏陶陶瓷有限公司，广东宏海陶瓷实业发展有限公司，广东宏宇新型材料有限公司，广东宏威陶瓷实业有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44