The utility model relates to an ultra pure water degassing device used for immersion lithography. The utility model comprises a first vacuum pump, a first vacuum pressure transmitter, a first gas-liquid separating tank, and a front degassing system with a first degassing membrane; a hydrogen access source, a fourth solenoid valve, a gas pressure controller, a third solenoid valve, a first solenoid valve and a catalytic deoxidizing system of a catalytic deoxidizer; and a second degassing system. Membrane, second vacuum pressure transmitter, second gas-liquid separating tank of second vacuum pump, nitrogen access source, third solenoid valve, post-degassing system of gas flow controller. The utility model can effectively remove the dissolved gas in the ultra-pure water, and control the dissolved oxygen value in the ultra-pure water at a very low level, while ensuring that the water quality of the ultra-pure water is not affected. It has the advantages of simple operation, low cost and small occupying space.
【技术实现步骤摘要】
用于浸没式光刻的超纯水脱气装置
本技术属于超纯水脱气装置
,涉及一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置。
技术介绍
在193nmArF浸没式光刻系统中,一般采用在投影系统最后一个物镜到硅片的间隙中填充一层超纯水作为浸没液体,以此提高光刻分辨率。由于这层超纯水作为光路的一部分,并且直接和硅片接触,因此对该超纯水的水质提出了很高的要求。为了防止超纯水中有气泡产生,应该对该超纯水做脱气处理。此外,为了防止硅片表面被超纯水中的溶氧所氧化,应尽可能降低超纯水中的溶氧含量。大型半导体厂中,一般采用数量庞大的脱气膜通过串联和并联的方法,来脱除水中的氧气以及其他的一些溶解气体。该方法中,一般采用真空辅助吹扫氮气的方式去除水中的溶解气体,能够获得较低的溶氧含量,通常可达到10ppb以下。但其不足在于设备占地面积较大,对管路密封要求严格,建造成本高昂等。用作浸没液的超纯水往往使用精制的纯化设备通过对半导体厂务超纯水进行进一步纯化得到,为了保证水质的稳定性,纯化设备一般比较靠近光刻机。受厂务空间限制,整个纯化设备占地面积也非常有限,显然采用数量庞大的脱气模组对超纯水进行脱气处理是不现实的。
技术实现思路
本技术的目的就是提供一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置。本技术包括有第一真空泵、第一真空压力变送器、第一气液分离罐、以及第一脱气膜的前级脱气系统;有氢气接入源、第四电磁阀、气体压力控制器、第三电磁阀、第一电磁阀以及催化除氧器的催化除氧系统;有第二脱气膜、第二真空压力变送器、第二真空泵第二气液分离罐、氮气接入源、第三电磁阀、气体流量控制器的后级脱气系统。其特征在于:所述的前级脱气系 ...
【技术保护点】
1.用于浸没式光刻的超纯水脱气装置,包括有第一真空泵、第一真空压力变送器、第一气液分离罐、以及第一脱气膜的前级脱气系统;有氢气接入源、第四电磁阀、气体压力控制器、第三电磁阀、第一电磁阀以及催化除氧器的催化除氧系统;有第二脱气膜、第二真空压力变送器、第二真空泵第二气液分离罐、氮气接入源、第三电磁阀、气体流量控制器的后级脱气系统;其特征在于:所述的前级脱气系统中第一脱气膜下端入水口作为第一超纯水入口,第一脱气膜上端出水口为第一超纯水出口与催化除氧系统中催化除氧器的第二超纯水入口连接;催化除氧器的出水口接后级脱气系统中第二脱气膜的入水口,第二脱气膜的出水口作为第二超纯水出口输出经脱气后的超纯水;所述的第一脱气膜气相侧的上下两个出气口连成一路后通过第一气液分离罐与第二真空泵连接,第一真空泵与第一气液分离罐出气口之间设置有第一真空压力变送器;第二脱气膜气相侧的上出气口通过第二气液分离罐与第一真空泵连接,第二脱气膜气相侧的上出气口与第二气液分离罐的入气口之间设置有第二真空压力变送器;第二脱气膜气相侧的下气体通道接气体流量控制器的出气口,氮气接入源通过第二电磁阀接气体流量控制器的入气口;所述的氢气接 ...
【技术特征摘要】
1.用于浸没式光刻的超纯水脱气装置,包括有第一真空泵、第一真空压力变送器、第一气液分离罐、以及第一脱气膜的前级脱气系统;有氢气接入源、第四电磁阀、气体压力控制器、第三电磁阀、第一电磁阀以及催化除氧器的催化除氧系统;有第二脱气膜、第二真空压力变送器、第二真空泵第二气液分离罐、氮气接入源、第三电磁阀、气体流量控制器的后级脱气系统;其特征在于:所述的前级脱气系统中第一脱气膜下端入水口作为第一超纯水入口,第一脱气膜上端出水口为第一超纯水出口与催化除氧系统中催化除氧器的第二超纯水入口连接;催化除氧器的出水口接后级脱气系统中第二脱气膜的入水口,第二脱气膜的出水口作为第二超纯水出口输出经脱气后的超纯水;所述的第一脱气膜气相侧的上下两个出气口连成一路后通过第一气液分离罐与第二真空泵连接,第一真空泵与第一气液分离罐出气口之间设置有第一真空压力变送器;第二脱气膜气相侧的上出气口通过第二气液分离罐与第一真空泵连接,第二脱气膜气相侧的上出气口与第二气液分离罐...
【专利技术属性】
技术研发人员:付新,凌杰,金达,徐宁,
申请(专利权)人:浙江启尔机电技术有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。