水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液制造技术

本发明专利技术的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液，该电沉积液含有聚合物粒子、有机溶剂、碱性化合物及水，所述水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液的特征在于，所述聚合物粒子为聚酰胺酰亚胺，所述碱性化合物为与水的HSP距离为35以上的含氮化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液
本专利技术涉及一种通过电沉积法来形成绝缘电线等绝缘物所具备的绝缘覆膜时所使用的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液。本申请主张基于2015年12月22日于日本申请的专利申请2015-249739号及2016年8月29日于日本申请的专利申请2016-166752号的优先权，并将其内容援用于此。
技术介绍
一直以来，在马达、电抗器、变压器等中，使用电线的表面被绝缘覆膜覆盖的绝缘电线等绝缘物。作为在电线的表面形成绝缘覆膜的方法，已知有浸渍法或电沉积法(电沉积涂装)等。浸渍法为反复进行如下工序而形成具有所希望的膜厚的绝缘覆膜的方法：例如作为被涂装体使用扁平状的导线等，并将其浸渍在涂料中并提起之后使其干燥。另一方面，电沉积法为通过对将浸渍于电沉积涂料(电沉积液)的被涂装体及插入于电沉积涂料中的电极导通直流电流来使带电的涂料粒子向被涂装体侧析出，由此形成绝缘覆膜的方法。电沉积法与其它方法相比，容易以均匀的膜厚进行涂装，并且，烘烤之后能够形成具有较高的防锈力和粘附性的绝缘覆膜而受到瞩目，且进行各种改良。例如，作为电沉积法中所使用的涂料，公开有如下悬浮型聚酰亚胺电沉积涂料；分散有具有规定的平均粒径及粒度分布的粒子，该粒子为在分子骨架中具有硅氧烷键且在分子中具有阴离子性基团的嵌段共聚型聚酰亚胺粒子(例如，参考专利文献1。)。该电沉积涂料具有即使长期保存也不易变质的优异的保存稳定性，并且通过使用该电沉积涂料，电沉积速度较高，能够形成膜性状的均匀性较高的电沉积覆膜。并且，作为电沉积法中所使用的电沉积材料，公开有如下电沉积材料：含有聚酰胺酰亚胺系材料作为主要成分，且在该聚酰胺酰亚胺系材料的分子链中导入聚二甲基硅氧烷而成(例如，参考专利文献2。)。根据该电沉积材料，由于使用具有规定的分子结构的聚酰胺酰亚胺系材料，因此尤其能够赋予在滑动部件等的涂装中所要求的耐热性，并且，能够抑制电沉积涂膜的裂纹等。上述现有的专利文献1中，由于使用在分子中具有阴离子性基团的聚酰亚胺粒子，因此粒子的表面电位大，通过粒子彼此的静电排斥力而分散性变高。因此，即使将制备后的电沉积液保管数日，也可抑制粒子的凝聚或沉淀的产生。但是，需要使用具有羧基或磺酸基的二胺，或者使用具有对酰亚胺键无贡献的羧基或磺酸基的四羧酸酐，由此导致能够使用的单体的种类受到限制，制造成本变高。并且，上述现有的专利文献2中，作为树脂使用了水溶性聚酰胺酰亚胺，在电沉积时在导体表面形成不溶于水的连续膜。因此，若覆膜的形成进行一定程度，则之后的电沉积效率变差，存在很难形成具有所希望的厚度的绝缘覆膜等问题。关于这种现有技术所具有的问题，本专利技术人等至今为止一边使用在主链中不具有阴离子性基团的聚合物粒子，一边从事分散稳定性优异的新的电沉积液的研发。关于不具有阴离子性基团的聚合物粒子，由于不具有阴离子性基团，因此表面电位小，粒子彼此的静电排斥力变小，因此电沉积液中的分散性劣化，有可能粒子容易凝聚或沉淀。关于这种问题，新研发出的电沉积液中，以规定的条件控制聚合物粒子的平均粒径、粒度分布，由此确保电沉积液中的聚合物粒子的良好的分散性，从而即使保管数日，也可抑制聚合物粒子的凝聚或沉淀的产生。专利文献1：日本专利第5555063号公报专利文献2：日本特开2002-20893号公报另一方面，研发上述电沉积液时，关于电沉积液的保存稳定性，出现了与上述聚合物粒子的凝聚或沉淀的问题不同的新的问题。例如可知：若为了使用保管了数日的电沉积液来形成比较厚的绝缘覆膜而增加电沉积液的涂布量，则因在保管期间电沉积液的粘度增加等，在干燥或煅烧涂膜时容易产生发泡。因此，产生了使用保管后的电沉积液难以形成所希望的厚度的绝缘覆膜的问题。因此，一直要求尽早研发能够克服这样的与保存稳定性有关的新的问题的电沉积液。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种保存稳定性优异，即使长期保存也可抑制电沉积液的粘度增加等，能够抑制干燥或煅烧涂膜时产生发泡的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液。针对与上述保存稳定性有关的新的问题，本专利技术人等进一步反复进行深入研究，其结果，通过电沉积液中通常所包含的、尤其除聚合物粒子以外的其他成分中选择性使用具有特定性质的化合物，完成了能够解决这些问题的电沉积液的研发。本专利技术的第1观点的特征在于，在含有聚合物粒子、有机溶剂、碱性化合物及水的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液中，聚合物粒子为聚酰胺酰亚胺，碱性化合物为与水的汉森溶解度参数HSP的距离为35以上的含氮化合物。本专利技术的第2观点为基于第1观点的专利技术，其特征在于，进而，碱性化合物为烷基胺化合物。本专利技术的第1观点的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液含有聚合物粒子、有机溶剂、碱性化合物及水，聚合物粒子为聚酰胺酰亚胺，且碱性化合物为与水的HSP距离为35以上的含氮化合物。由此，电沉积液的保存稳定性得到提高，即使长期保存也可抑制电沉积液的粘度增加等，能够抑制干燥或煅烧涂膜时产生发泡。本专利技术的第2观点的水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液中，碱性化合物为烷基胺化合物，由此进一步增加提高上述电沉积液的保存稳定性的效果。附图说明图1是示意地表示本专利技术的实施方式的电沉积涂装装置的图。具体实施方式接着，根据附图，对用于实施本专利技术的方式进行说明。该水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液含有聚合物粒子、有机溶剂、碱性化合物及水。除水以外，还可以含有不良溶剂。＜聚合物粒子＞该电沉积液中所包含的聚合物粒子由作为高分子(聚合物)的聚酰胺酰亚胺构成。针对聚合物粒子使用由聚酰胺酰亚胺构成的粒子的原因在于，与其他聚合物粒子相比，耐热性、可挠性优异。关于聚合物粒子的平均粒径，从抑制干燥或煅烧时的发泡的观点考虑，并无特别限定，能够使用一般的电沉积液用途中所使用的粒径的聚合物粒子。例如，能够使用平均粒径优选在0.05～1.0μm的范围的聚合物粒子等。另外，在此所说的聚合物粒子的平均粒径是指通过动态光散射式粒度分布测定装置(HORIBA,Ltd.制造，型号名称：LB-550)来测定出的体积基准的中值粒径(D50)。关于构成聚合物粒子的聚酰胺酰亚胺，将一般的电沉积液用途中所使用的聚酰胺酰亚胺等用作构成该聚合物粒子的树脂。例如，可以是在主链中具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺，也可以是在主链中不具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺。所谓阴离子性基团，是指如-COOH基(羧基)、-SO3H(磺酸基)等那样，具有在碱性溶液中脱离质子等而带-COO-基等的负电荷的性质的官能团。若使用由在主链中具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺构成的聚合物粒子，则通过聚合物粒子的较高的表面电位，在粒子之间可得到较大的静电排斥力，电沉积液中的分散性得到提高，从而即使保管数日也可抑制聚合物粒子的凝聚或沉淀。因此，关于构成聚合物粒子的聚酰胺酰亚胺，从抑制聚合物粒子的凝聚或沉淀的方面考虑，优选为在主链中具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺，但是从抑制发泡的观点考虑，并不特别限定于具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺。并且，关于在主链中具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺，作为其合成中所使用的单体，需要使用具有阴离子性基团的单体，由于能够使用的单体受到限制，有时制造成本会增加。因此，从实现低成本化的方面考虑，优选使用由在主链中不具有阴离子性基团的聚酰胺酰亚胺构成的聚合物粒本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液，其含有聚合物粒子、有机溶剂、碱性化合物及水，所述水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液的特征在于，所述聚合物粒子为聚酰胺酰亚胺，所述碱性化合物为与水的汉森溶解度参数HSP的距离为35以上的含氮化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.22 JP 2015-249739;2016.08.29 JP 2016-166751.一种水分散型绝缘覆膜形成用电沉积液，其含有聚合物粒子、有...

【专利技术属性】
技术研发人员：磯村洵子，饭田慎太郎，樱井英章，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP