基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理装置包括一底座、一基板载台、多个收集单元和一阻却单元。基板载台可旋转得和底座连接，基板载台用以固定和旋转基板。多个收集单元环绕于基板载台外围，多个收集单元间为固定式设置，各收集单元用以收集处理基板的一处理液。阻却单元设置于基板载台与多个收集单元之间。当其中一收集单元与基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理基板之后流溅的处理液时，阻却单元阻却其他收集单元收集处理液。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术系关于一种基板处理装置，特别是一种可分别回收不同处理液的基板处理装置。
技术介绍
在半导体工艺中，常会运用一基板处理装置对基板进行蚀刻或清洗。基板处理装置具有一旋转平台、一液体施加件和多个液体回收环。旋转平台用以固定基板，并让基板旋转。液体施加件用以对旋转的基板施加蚀刻液或清洗液。多个液体回收环用以分别收集旋转的基板甩出的蚀刻液或清洗液，以回收蚀刻液或清洗液并再加以利用。然而，在多个液体回收环收集旋转的基板甩出的液体时，液体容易四处乱飞而飞溅至收集另一液体的回收环里；例如，蚀刻液可能飞溅至专门用以回收清洗液的回收环里，如此一来将会对该回收环里的清洗液造成污染而无法再次利用。因此，有必要提供一种基板处理装置，其可以确实得分别回收不同处理液，并且避免液体之间互相污染。
技术实现思路
本专利技术的主要目的系在提供一种可分别回收不同处理液的基板处理装置。为达成上述的目的，本专利技术的一种基板处理装置用以处理一基板，基板处理装置包括一底座、一基板载台、多个收集单元和一阻却单元。基板载台可旋转得和底座连接，基板载台用以固定和旋转基板。多个收集单元环绕于基板载台外围，多个收集单元间为固定式设置，各收集单元用以收集处理基板的一处理液。阻却单元设置于基板载台与多个收集单元之间。当其中一收集单元与基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理基板之后流溅的处理液时，阻却单元阻却其他收集单元收集处理液。根据本专利技术之一实施例，其中流溅至阻却单元上的处理液，不再流入多个收集单元。根据本专利技术之一实施例，其中阻却单元更包括一第一阻却部和一第二阻却部；当该其中一收集单元与基板载台对应，并收集处理基板的处理液时，第一阻却部阻却该其中一收集单元的一上缘，第二阻却部阻却该其中一收集单元的一下缘。根据本专利技术之一实施例，其中第一阻却部包括一阻却环形壁和一液体收集区，液体收集区设置于阻却环形壁的内侧；阻却环形壁将流溅至第一阻却部的处理液导入至液体收集区。根据本专利技术之一实施例，其中当多个收集单元升降，使得该其中一收集单元与基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理基板之后流溅的处理液时，阻却单元阻却其他收集单元收集处理液。根据本专利技术之一实施例，其中当基板载台升降，使得该其中一收集单元与基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理基板之后流溅的处理液时，阻却单元阻却其他收集单元收集处理液。根据本专利技术之一实施例，其中阻却单元升降至对应该其中一收集单元；第一阻却部升降至阻却该其中一收集单元的上缘，第二阻却部升降至阻却该其中一收集单元的下缘。根据本专利技术之一实施例，其中第二阻却部环设于基板载台外侧，并与基板载台升降连动。根据本专利技术之一实施例，基板处理装置更包括一流体加速单元，流体加速单元可旋转得设置于基板载台外侧，并环绕设置于基板载台与第二阻却部之间；流体加速单元可控制转速，并可相对基板载台转动，以将处理液飞溅至该其中一收集单元。根据本专利技术之一实施例，其中阻却单元更包括一第一阻却部升降件，第一阻却部升降件连接第一阻却部，并跨越设置于多个收集单元的外侧。根据本专利技术之一实施例，其中第一阻却部具有一环形腔径，环形腔径大于基板载台；藉此，基板载台可相对第一阻却部移动，并穿越第一阻却部。根据本专利技术之一实施例，其中当该其中一收集单元与基板载台对应，并收集处理基板的处理液时，阻却单元阻却其他收集单元，且该其中一收集单元更集中收集一处理气体。根据本专利技术之一实施例，基板处理装置更包括至少一抽气单元，抽气单元设置于多个收集单元的下方，抽气单元用以形成一环形抽气流，以收集处理气体。根据本专利技术之一实施例，其中抽气单元依据工艺而改变环形抽气流的一抽气强度。根据本专利技术之一实施例，基板处理装置更包括一气压控制单元，气压控制单元藉由检测一气压值以控制抽气单元改变环形抽气流的一抽气强度。根据本专利技术之一实施例，其中抽气单元是环形得设置于多个收集单元的下方，抽气单元旋转以带动环形抽气流。附图说明图1为本专利技术的第一实施例的基板处理装置回收第一种处理液的示意图。图2为本专利技术的第一实施例的基板处理装置的基板载台穿越第一阻却部的示意图。图3为本专利技术的第一实施例的基板处理装置回收第二种处理液的示意图。图4为本专利技术的第一实施例的基板处理装置的系统架构图。图5为本专利技术的第二实施例的基板处理装置的示意图。其中附图标记为：基板处理装置1、1a底座10基板载台20载台升降件21收集单元30、30a、30b、30c上缘38、38b下缘39、39b阻却单元40、40a第一阻却部41阻却环形壁411液体收集区412第二阻却部42、42a第一阻却部升降件43第二阻却部升降件44连动件45流体加速单元50加速马达51抽气单元60、60a气压控制单元70外壳体90控制件100液体施加件200基板300升降方向A、B、C处理气体G处理液L、L1环形腔径R具体实施方式为能让贵审查委员能更了解本专利技术的
技术实现思路
，特举较佳具体实施例说明如下。以下请一并参考图1至图4关于本专利技术的第一实施例的基板处理装置。图1系本专利技术的第一实施例的基板处理装置回收第一种处理液的示意图；图2系本专利技术的第一实施例的基板处理装置的基板载台穿越第一阻却部的示意图；图3系本专利技术的第一实施例的基板处理装置回收第二种处理液的示意图；图4系本专利技术的第一实施例的基板处理装置的系统架构图。在本专利技术的第一实施例之中，如图1、图3和图4所示，基板处理装置1用以配合一外部的液体施加件200所施加的处理液L，以处理一基板300，并且可分别回收处理基板300的不同处理液L，以防止不同处理液L互相污染。外部的液体施加件200为一液体喷管，其可施加不同的处理液L或纯水的处理液L1至基板300。其中施加不同的处理液L或纯水的处理液L1亦可为不同的液体施加件200所提供，本专利技术不以此为限。基板处理装置1包括一底座10、一基板载台20、四个收集单元30、30a、30b、30c、一阻却单元40、一流体加速单元50、一抽气单元60、一气压控制单元70、一外壳体90和一控制件100。如图1和图2所示，在本专利技术的第一实施例之中，底座10是一平台，用以承载基板处理装置1的各个组件。基板载台20可旋转得和底座10连接，基板载台20用以固定和旋转基板300，以便让液体施加件200施加的处理液L均匀得施加在基板300上。基板载台20包括一载台升降件21，以使基板载台20整体沿着升降方向A升降。在本专利技术的第一实施例之中，四个收集单元30、30a、30b、30c皆为收集环，其皆设置于底座10上，并环绕于基板载台20外围。四个收集单元30、30a、30b、30c之间互相堆栈而呈现为固定式设置。各收集单元30、30a、30b、30c用以收集旋转的基板300所甩出的处理液L。各收集单元30、30a、30b、30c具有同样的结构，为了避免赘述，以下将仅以收集单元30为例以说明其详细结构。收集单元30的一端朝向基板载台20以便收集处理液L；收集单元30的另一端背向基板载台20，背向基板载台20的一端的高度低于朝向基板载台20的一端的高度，因此朝向基板载台20的一端所收集到的处理液L会流向背向基板载台20的一端。收集单元内设计高度差以导流处理液仅为一实施例，本专利技术不以此为限。收集单元30的朝向基板载台20的一端具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，用以处理一基板，该基板处理装置包括：一底座；一基板载台，可旋转得和该底座连接，该基板载台用以固定和旋转该基板；多个收集单元，环绕于该基板载台外围，该多个收集单元间为固定式设置，各所述收集单元用以收集处理该基板的一处理液；以及一阻却单元，设置于该基板载台与该多个收集单元之间；当其中一收集单元与该基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理该基板之后流溅的该处理液时，该阻却单元阻却其他收集单元收集该处理液。

【技术特征摘要】
2017.02.15 US 62/459,0891.一种基板处理装置，其特征在于，用以处理一基板，该基板处理装置包括：一底座；一基板载台，可旋转得和该底座连接，该基板载台用以固定和旋转该基板；多个收集单元，环绕于该基板载台外围，该多个收集单元间为固定式设置，各所述收集单元用以收集处理该基板的一处理液；以及一阻却单元，设置于该基板载台与该多个收集单元之间；当其中一收集单元与该基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理该基板之后流溅的该处理液时，该阻却单元阻却其他收集单元收集该处理液。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，流溅至该阻却单元上的该处理液，不再流入该多个收集单元。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，该阻却单元更包括一第一阻却部和一第二阻却部；当该其中一收集单元与该基板载台对应，并收集处理该基板的该处理液时，该第一阻却部阻却该其中一收集单元的一上缘，该第二阻却部阻却该其中一收集单元的一下缘。4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，该第一阻却部包括一阻却环形壁和一液体收集区，该液体收集区设置于该阻却环形壁的内侧；该阻却环形壁将流溅至该第一阻却部的该处理液导入至该液体收集区。5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，当该多个收集单元升降，使得该其中一收集单元与该基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理该基板之后流溅的该处理液时，该阻却单元阻却其他收集单元收集该处理液。6.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，当该基板载台升降，使得该其中一收集单元与该基板载台对应，且该其中一收集单元收集处理该基板之后流溅的该处理液时，该阻却单元阻却其他收集单元收集该处理液。7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，该阻却单元升降至对应该其中一...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯傳彰，刘茂林，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71