用于执行曝光处理的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于执行曝光处理的装置，包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内；光源组件用于产生曝光光线；支撑框架包括第一、第二移动框架以及具有正交的第一、第二枢轴的转动构件；支撑框架包括第一、第二和第三臂体；第一移动框架用于从第一臂体的基端部分转动到第二移动框架的基端部分；转动构件具有第一、第二转动部分；光源组件的头部主体安装于第二转动部分；头部主体内置有用于向振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，振动体与头部主体相连接。本发明专利技术能使得器件中受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线模糊化。

Device for carrying out exposure processing

The invention discloses a device for performing exposure processing, including an exposure chamber, a light source assembly, a projection assembly, a bearing platform, a fixed support, and a support frame; a light source assembly, a projection assembly and a support platform are all arranged in an exposure chamber; a light source assembly is used for generating exposure light; and a support frame comprises a first and a second. The first moving frame is used to rotate from the base part of the first arm body to the base part of the second moving frame; the rotating member has the first and second rotating parts; the head main body of the light source assembly. Installed in the second rotating part, the head main body is provided with a vibration generator for applying ultrasonic vibration force to the vibration body, and the vibration body is connected with the head main body. The invention can blur the boundary between the exposed part and the uncovered part of the device.

【技术实现步骤摘要】
用于执行曝光处理的装置
本专利技术涉及曝光
，特别涉及一种用于执行曝光处理的装置。
技术介绍
传统的用于执行曝光处理的装置一般包括曝光光源和投影镜片，该曝光光源用于产生曝光光线，并将该曝光光线通过该投影镜片照射待进行曝光处理的器件。该曝光光源在用于执行曝光处理的装置中的位置是固定的，也就是说，该曝光光源以静态的方式通过投影镜片照射待进行曝光处理的器件，在经过曝光处理的器件中，受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线分明。然而，在需要使得受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线模糊化的情况下，上述传统的用于执行曝光处理的装置则无法实现。故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于执行曝光处理的装置，其能使得经过曝光处理的器件中受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线模糊化。为解决上述问题，本专利技术的技术方案如下：一种用于执行曝光处理的装置，所述用于执行曝光处理的装置包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；所述支撑框架的基端部连接所述固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件，所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体；所述第一移动框架用于从所述第一臂体的基端部分转动到所述第二移动框架的基端部分；安装在所述第二移动框架的前端部的所述转动构件具有相对于所述转动构件的基座以所述第一枢轴为中心转动的第一转动部分，以及相对于所述第一转动部分围绕所述第二枢轴转动的第二转动部分；所述光源组件的头部主体安装于所述第二转动部分；所述头部主体内置有用于向由所述头部主体的壳体主体保持的振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，所述振动体与所述头部主体相连接。优选地，所述振动体用于带动所述头部主体振动，以使所述光源组件所产生的光线在所述头部主体振动的同时射向所述显示器件。优选地，所述第一臂体和所述第二臂体均形成为矩形框架形状。优选地，所述第一转动部分用于围绕水平的所述第一枢轴沿竖直平面旋转。优选地，所述第二枢轴设置在所述第一转动部分上，作为与所述第一枢轴垂直的轴线。优选地，所述第二转动部分用于绕所述第二枢轴转动。优选地，所述第二移动框架用于通过枢动轴相对于所述第一移动框架的所述第二臂体在水平方向上转动。优选地，所述转动构件的所述基座安装在所述第二移动框架的前端部，以在保持恒定姿态的同时在垂直方向上平移。优选地，所述第一移动框架用于通过移动以确定所述光源组件的在水平方向上位置。优选地，所述第二移动框架用于通过移动以确定所述光源组件在垂直方向上的位置。相对现有技术，由于在光源组件输出曝光光线的过程中向光源组件施加振动作用力，因此，本专利技术能使得经过曝光处理的器件中受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线模糊化。附图说明图1为本专利技术的用于执行曝光处理的装置的示意图。图2为图1所示的用于执行曝光处理的装置中的投影组件的示意图。具体实施方式参考图1和图2，图1为本专利技术的用于执行曝光处理的装置的示意图，图2为图1所示的用于执行曝光处理的装置中的投影组件的示意图。本专利技术的用于执行曝光处理的装置用于对显示器件或半导体器件进行曝光处理。本专利技术的用于执行曝光处理的装置包括曝光腔室101、光源组件104、投影组件107、承载台108、固定支撑件102、支撑框架103、第一发射镜105和第二反射镜106。所述光源组件、所述投影组件、所述承载台、所述固定支撑件、所述支撑框架均设置于所述曝光腔室内。所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件。具体地，光源组件用于通过第一反射镜和第二反射镜将曝光光线输出至投影组件。所述承载台用于承载待进行曝光处理的显示器件或半导体器件。支撑框架的基端部连接固定支撑件，并且支撑框架的末端部连接光源组件。支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件。第一移动框架、第二移动框架和转动构件的每个可移动部分构成具有锁定构件的第一活动部至第七活动部。支撑框架包括第一活动部至第七活动部以及第一锁定构件至第七锁定构件，第一锁定构件至第七锁定构件分别用于将第一活动部至第七活动部锁定。固定支撑件由三个支撑柱构成，每个支撑柱用于通过调节器调节长度(高度)，三个支撑柱彼此间隔预定距离并平行布置，三个支撑柱通过联接杆彼此连接，两个支撑柱的联接杆相互连接。在支撑框架中，第一移动框架的基端部分连接到固定支撑件的一个支撑柱，并且第二移动框架的基端部分连接到第一移动框架的远端部，转动构件的基座与第二移动框架的前端部连接。所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体。第二移动框架设置有构造为平行连杆构件的第三臂体。第三臂体由第一水平杆和第二水平杆连接，第一水平杆、第二水平杆以及设置在第一水平杆、第二水平杆的端部之间的第一垂直杆、第二垂直杆形成为平行四边形形状。连结块与固定支撑件的一个支撑柱相固定。所述支撑框架还包括活动轴。活动轴构成用于使第一臂体在水平方向上枢转的第一活动部，第一锁定构件设置于活动轴中。联接杆连接支撑柱。第二锁定构件、第三锁定构件设置在相应的第一旋转轴、第二旋转轴上。联接部(第一移动框架的远端部分)连接到第二臂体的远端，在联接部上具有沿垂直方向的枢动轴。枢动轴上设置有第四锁定构件，第二移动框架用于通过枢动轴相对于第一移动框架的第二臂体在水平方向上转动。第一枢轴和第二枢轴分别设有第六锁定构件、第七锁定构件。第六活动部和第七活动部分别由第一枢轴、第二枢轴构成。第三臂体的基端部分通过上端联接块经由枢动轴与第二臂体的前端侧的联接部连结，以沿水平方向自由旋转。转动构件的基座固定到设置在垂直第二移动框架或下端联接块的上端和下端处的第二垂直杆。转动构件的基座安装在由平行连杆构件构成的第二移动框架的前端部，以在保持恒定姿态的同时在垂直方向上平移。第一转动轴支撑第三臂体的基端部分以在竖直方向上旋转，并且第三臂体通过第一转动轴在竖直方向上旋转。转动构件的基座用于根据第三臂体的远端部分的位移而位移。第五活动部用于相对于第三臂体在竖直方向上旋转，以保持恒定的姿态。在构成为平行连杆构件的第三臂体中，第一水平杆和第二水平杆的基端部由第一转动轴支承，以沿上下方向转动，从而在整个垂直方向上摆动。第五活动部设置有第五锁定构件。安装在第二移动框架的前端部的转动构件具有相对于基座以第一枢轴为中心转动的第一转动部分，以及相对于第一转动部分围绕第二枢轴转动的第二转动部分。第一枢轴设定为平行于第三臂体的移动垂直水平方向的轴线，第一转动部分用于围绕水平的第一枢轴沿竖直平面旋转。第二枢轴设置在第一转动部分上，作为与第一枢轴垂直的轴线，第二转动部分用于绕第二枢轴转动。第二转动部分是作为安装有光源组件的托架的构件，光源组件附接到第二转动部分。具体地，光源组件的头部主体安装于第二转动部分。第一移动框架用于通过活动轴从与连结块连接的第一臂体的基端部分转动到第二移动框架的基端部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于执行曝光处理的装置，其特征在于，所述用于执行曝光处理的装置包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；所述支撑框架的基端部连接所述固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件，所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体；所述第一移动框架用于从所述第一臂体的基端部分转动到所述第二移动框架的基端部分；安装在所述第二移动框架的前端部的所述转动构件具有相对于所述转动构件的基座以所述第一枢轴为中心转动的第一转动部分，以及相对于所述第一转动部分围绕所述第二枢轴转动的第二转动部分；所述光源组件的头部主体安装于所述第二转动部分；所述头部主体内置有用于向由所述头部主体的壳体主体保持的振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，所述振动体与所述头部主体相连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于执行曝光处理的装置，其特征在于，所述用于执行曝光处理的装置包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；所述支撑框架的基端部连接所述固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件，所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体；所述第一移动框架用于从所述第一臂体的基端部分转动到所述第二移动框架的基端部分；安装在所述第二移动框架的前端部的所述转动构件具有相对于所述转动构件的基座以所述第一枢轴为中心转动的第一转动部分，以及相对于所述第一转动部分围绕所述第二枢轴转动的第二转动部分；所述光源组件的头部主体安装于所述第二转动部分；所述头部主体内置有用于向由所述头部主体的壳体主体保持的振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，所述振动体与所述头部主体相连接。2.根据权利要求1所述的用于执行曝光处理的装置，其特征在于，所述振动体用于带动所述头部主体振动，以使所述光源组件所产生的光线在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：佛山尉达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44