放电激励式气体激光腔室及激光器制造技术

本实用新型专利技术提供一种放电激励式气体激光腔室及激光器。所述放电激励式气体激光腔室包括：多个调峰电容器，其中所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下；第一放电电极，其与所述多个调峰电容器电连接；以及第二放电电极，其被设置在与所述第一放电电极相对的位置处。由此，能够减少甚至避免放电电极产生不均匀的损耗的情况，提高激光输出的性能。

Discharge excited gas laser chamber and laser

The utility model provides a discharge excited gas laser chamber and a laser. The discharge-excited gas laser chamber comprises: a plurality of peak-shaving capacitors, wherein the capacitance difference between any two peak-shaving capacitors of the plurality of peak-shaving capacitors is less than 20% of the predetermined capacitance value; a first discharge electrode, which is electrically connected with the plurality of peak-shaving capacitors; and a second discharge electrode, which is arranged with the peak-shaving capacitor. The position of the first discharge electrode is opposite. Thus, the uneven loss of discharge electrode can be reduced or even avoided, and the performance of laser output can be improved.

【技术实现步骤摘要】
放电激励式气体激光腔室及激光器
本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种放电激励式气体激光腔室及激光器。
技术介绍
伴随着半导体集成电路的细微化、高集成化，在半导体曝光装置中要求提高分辨率。以下将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此，从曝光用光源输出的光的波长在变短。在曝光用光源中代替现有的水银灯而使用了气体激光装置。例如，使用输出波长248nm的紫外线的KrF准分子激光装置以及输出波长193nm的紫外线的ArF准分子激光装置，作为曝光用的气体激光装置。现有技术中，例如放电激励式气体激光腔室内配置有一对放电电极，在所述一对放电电极之间能够进行放电。应当注意，上面对
技术介绍
的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
专利技术人发现：与放电电极可以连接有多个调峰电容器；但是如果这些调峰电容器的电容不均匀，则放电电极之间的放电也可能会不均匀，从而导致放电电极会产生不均匀的损耗的情况。为了解决上述问题，本技术提供一种放电激励式气体激光腔室和激光器。与第一放电电极连接有多个调峰电容器，并且所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下。根据本技术实施例的第一方面，提供了一种放电激励式气体激光腔室，包括：多个调峰电容器，其中所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下；第一放电电极，其与所述多个调峰电容器电连接；以及第二放电电极，其被设置在与所述第一放电电极相对的位置处。根据本技术实施例的第二方面，其中，所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在所述预定电容值的10％以下。根据本技术实施例的第三方面，其中，所述多个调峰电容器的电容值为100pF～250pF。根据本技术实施例的第四方面，其中，所述多个调峰电容器的数量为24～42个。根据本技术实施例的第五方面，其中，所述多个调峰电容器的数量为36～40个。根据本技术实施例的第六方面，其中，所述多个调峰电容器按照等间隔的方式被配置。根据本技术实施例的第七方面，提供一种放电激励式气体激光器，其具有激光腔室和电源；所述激光腔室包括：多个调峰电容器，其与所述电源电连接；其中所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下；第一放电电极，其与所述多个调峰电容器电连接；以及第二放电电极，其被设置在与所述第一放电电极相对的位置处。本技术的有益效果在于：与第一放电电极连接有多个调峰电容器，并且所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下。由此，能够减少甚至避免放电电极产生不均匀地损耗的情况，提高激光输出的性能。参照后文的说明和附图，详细公开了本技术的特定实施方式，指明了本技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。在所附权利要求的精神和条款的范围内，本技术的实施方式包括许多改变、修改和等同。附图说明所包括的附图用来提供对本技术实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本技术的实施方式，并与文字描述一起来阐释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：图1是本技术的放电激励式气体激光器的剖面示意图；图2是本技术的调峰电容器的示意图。具体实施方式参照附图，通过下面的说明，本技术的前述以及其它特征将变得明显。在说明书和附图中，具体公开了本技术的特定实施方式，其表明了其中可以采用本技术的原则的部分实施方式，应了解的是，本技术不限于所描述的实施方式，相反，本技术包括落入所附权利要求的范围内的全部修改、变型以及等同物。在本技术实施例中，术语“第一”、“第二”等用于对不同元素从称谓上进行区分，但并不表示这些元素的空间排列或时间顺序等，这些元素不应被这些术语所限制。术语“和/或”包括相关联列出的术语的一种或多个中的任何一个和所有组合。术语“包含”、“包括”、“具有”等是指所陈述的特征、元素、元件或组件的存在，但并不排除存在或添加一个或多个其他特征、元素、元件或组件。在本技术实施例中，单数形式“一”、“该”等可以包括复数形式，应广义地理解为“一种”或“一类”而并不是限定为“一个”的含义；此外术语“所述”应理解为既包括单数形式也包括复数形式，除非上下文另外明确指出。此外术语“根据”应理解为“至少部分根据……”，术语“基于”应理解为“至少部分基于……”，除非上下文另外明确指出。在本技术的下述说明中，为了说明的方便，将与沿着轴(例如风扇的驱动轴)延伸的方向平行的方向称为“轴向”，将以轴为中心的半径方向称为“径向”，将以轴为中心的包围径向外侧的方向称为“周向”。但值得注意的是，这些只是为了说明的方便，并不限定放电激励式气体激光器使用和制造时的朝向。在本技术的下述说明中，为了说明的方便，可以将电极所在的一侧称为“上侧”或者“上方”，将风扇或热交换器所在的一侧称为“下侧”或者“下方”。但值得注意的是，这些只是为了说明的方便，并不限定该放电激励式气体激光器使用和制造时的朝向。下面参照附图对本技术的实施方式进行说明。本技术实施例提供一种放电激励式气体激光腔室以及激光器。图1是本技术的放电激励式气体激光器100的剖面示意图，示出了放电激励式气体激光器100被剖开的一部分部件。如图1所示，该放电激励式气体激光器100可以包括：激光腔室101，其将激光气体封装在内部；第一放电电极102，其被设置在激光腔室101的上方；以及第二放电电极103，其被设置成在所述激光腔室101内与所述第一放电电极102彼此相对。如图1所示，该放电激励式气体激光器100还可以包括：风扇104，其使激光气体在所述激光腔室101内循环流动；如图1中的箭头所示。如图1所示，该放电激励式气体激光器100中还可以设置电绝缘部1033和脉冲功率模块(PPM，PulsePowerModule)1034。第二放电电极103可以被设置在激光腔室101的中部，由电极架1035所保持，该放电激励式气体激光器100中还可以设置气体引导部1036和热交换器1037。在本实施例中，该放电激励式气体激光器100还可以包括电源(图中未示出)，例如设置在激光腔室101的上部；本技术不对此进行限制。值得注意的是，图1仅对本技术的放电激励式气体激光器进行了示意性说明，但本技术不限于此。关于一般放电激励式气体激光器所具有的其他部件，具体可以参照相关技术，此处省略说明。此外，图1中未特别指明的部件或元素，可以参考相关技术，本技术并不对此进行限制。在本技术中，该放电激励式气体激光器100还可以包括多个调峰电容器(图1中未示出)，其与第一放电电极102电连接。所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下。图2是本技术的调峰电容器的示意图，示出了多个调峰电容本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种放电激励式气体激光腔室，其特征在于，所述放电激励式气体激光腔室包括：多个调峰电容器，其中所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下；第一放电电极，其与所述多个调峰电容器电连接；以及第二放电电极，其被设置在与所述第一放电电极相对的位置处。

【技术特征摘要】
1.一种放电激励式气体激光腔室，其特征在于，所述放电激励式气体激光腔室包括：多个调峰电容器，其中所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在预定电容值的20％以下；第一放电电极，其与所述多个调峰电容器电连接；以及第二放电电极，其被设置在与所述第一放电电极相对的位置处。2.根据权利要求1所述的放电激励式气体激光腔室，其中，所述多个调峰电容器中任意两个调峰电容器之间的电容差在所述预定电容值的10％以下。3.根据权利要求1所述的放电激励式气体激光腔室，其中，所述多个调峰电容器的电容值为100pF～250pF。4.根据权利要求1所述的放电激励式...

【专利技术属性】
技术研发人员：都丸仁，奈良久，松永隆，西坂敏博，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP