一种四价钒含量小于十万分之五的五氧化二钒的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：在氧化性气氛中将偏钒酸铵升温，在150～280℃下恒温进行预处理，之后继续升温，进行煅烧处理，得到所述四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒。本发明专利技术通过在传统煅烧工艺之前引入预处理的步骤，得到的五氧化二钒产品纯度相较于传统工艺有了进一步的提高，在工业生产中，通过调整煅烧工艺流程即可施用本发明专利技术，无需另行购置其他设备，而且，本发明专利技术所述的方法能够获得纯度≥99.95wt％且四价钒的含量＜0.005wt％的五氧化二钒产品，能够满足各领域对于高纯度低四价钒含量的五氧化二钒产品的需求。

Preparation of five vanadium oxide with vanadium content less than 5/100000 at a four valence rate of two

The invention provides a preparation method of five oxidation two vanadium with a tetravalent vanadium content less than 0.005wt%, and the preparation method comprises the following steps: in the oxidizing atmosphere, the ammonium vanadate is heated up, the temperature is pretreated at the constant temperature at 150~280 centigrade, then the heating is continued, and the calcining treatment is carried out, and the content of the tetravalent vanadium is less than 0.005wt % five oxidation of two vanadium. By introducing a preprocessing step before the traditional calcining process, the purity of the five oxidation two vanadium product has been further improved than the traditional process. In industrial production, the invention can be applied by adjusting the calcining process flow without further purchase of other preparation, and the method described in the present invention can be used. The product of five oxidation of two vanadium with purity of more than 99.95wt% and the content of tetravalent vanadium less than 0.005wt% can meet the demand of five oxidation two vanadium products with high purity and low tetravalent vanadium content in various fields.

【技术实现步骤摘要】
一种四价钒含量小于十万分之五的五氧化二钒的制备方法
本专利技术属于化学合成领域，尤其涉及一种四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒的制备方法。
技术介绍
钒是一种重要的战略储备金属，具有非常广泛的用途，钒可以作为添加剂加入钢铁等金属材料中用于增强金属材料的性能，也可以作为电池材料用于制备钒电池等高密度储能材料，在航空航天、能源工程、生物医药、金属加工等领域都属于不可或缺的原材料。金属钒主要通过五氧化二钒等钒化合物进行还原得到，近年来，随着技术的进步，一些钒下游高端技术产品的工业化生产对于钒化合物，尤其是五氧化二钒的质量有了更高的要求，尤其是随着钒电池和钒储能设备的发展，国内高纯度五氧化二钒的供应远不能满足市场需求，主要依赖进口，因此，高纯度五氧化二钒的生产在我国具有广阔的前景，高纯度五氧化二钒的生产技术开发具有重大的应用价值和社会意义。五氧化二钒中除了一些常规的杂质金属离子，还存在有四价钒含量较高的问题，现有的国内掌握高纯度低四价钒含量的五氧化二钒生产工艺的厂家极少，其技术水平相较国外远远落后且产品质量不稳定。高纯度五氧化二钒生产工艺主要有两种，第一种是对含钒溶液进行深度除杂，第二种是煅烧法制备高纯度钒，其中，锻烧法制备高纯度钒应用较为广泛，按锻烧方式及设备分为：静态电炉锻烧法、动态旋转窑锻烧法、微波静态锻烧法等。静态电炉锻烧法较为传统，其优点是设备投资少、操作简单、工艺成熟，但锻烧通常不完全，动态旋转窑锻烧法的优点是产品质量均匀，但是设备投资大、能耗高且易产生环境污染，微波静态锻烧法的优点是能耗相对较低、产品质量稳定，但无法进行工业化生产，而且，上述几种方法均存在产品中四价钒含量较高的问题，故需要对煅烧工艺进行改进。现有技术中，有人已经尝试通过改进煅烧工艺来获得高纯度的五氧化二钒，但其制备的五氧化二钒的纯度仍然较低，其中四价钒的含量仍然较高，例如，CN101811734A中公开了一种微波煅烧偏钒酸铵制备五氧化二钒的方法，通过将粒度＞10μm的偏钒酸铵和五氧化二钒粉末共混，利用微波以20～100℃/min的升温速率升温至500～550℃下煅烧5～30min得到纯度为98.5wt％的五氧化二钒，CN102502829A中公开了一种偏钒酸铵煅烧分解制备高纯五氧化二钒的生产工艺，其通过将高纯度的偏钒酸铵粉体置于不锈钢容器中，在低真空度下氧化气氛的反应炉内进行脱水脱氨和锻烧氧化反应得到高纯度的五氧化二钒，其制备的五氧化二钒中四价钒含量小于0.20wt％，五氧化二钒的含量可达99.5％。在现有技术的基础上，本领域的技术人员需要进一步改进偏钒酸铵的煅烧工艺，以制备一种纯度更高、四价钒含量更少的的高纯度五氧化二钒，而且，所述煅烧工艺应简单易用、对设备要求低、操作方便、适应范围广、成本低且具有较好的社会效益和经济效益。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足，本专利技术的目的之一在于提供一种四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒的制备方法，以获得一种纯度更高、四价钒含量更少的五氧化二钒产品。为达到此目的，所述制备方法包括如下步骤：在氧化性气氛中将偏钒酸铵在150～280℃下恒温进行预处理，之后升温，进行煅烧处理，得到所述四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒。其中，恒温进行预处理的温度可以为160℃、170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、230℃、240℃、250℃、260℃或270℃等。本专利技术通过在传统制备五氧化二钒的煅烧工艺中引入在氧化性气氛中恒温预处理的步骤，使得偏钒酸铵在150～280℃下先行稳定的预氧化，能够将偏钒酸铵分解产生的氨气等还原性物质排除，有效避免了偏钒酸铵在较高温度时分解产生的氨气等还原性气体对于五价钒的还原效应，进而降低产物中四价钒的含量，预处理的温度过高会使得五价钒被还原的速度加快，温度过低则无法起到氧化其中还原性物质的效果，优选地，所述预处理的温度为180～260℃。为了达到最优的氧化效果，所述预处理的时间较合理，时间较长容易提高产物中不挥发性杂质的含量，降低五氧化二钒产品的纯度，时间较短容易使得氧化不充分，提高五氧化二钒产品中四价钒的含量，优选地，所述预处理的时间为30～180min，例如为40min、50min、60min、70min、80min、90min、100min、110min、120min、130min、140min、150min、160min或170min等，进一步优选为60～150min。优选地，所述煅烧处理为恒温煅烧，煅烧处理的温度为450～590℃，例如为460℃、470℃、480℃、490℃、500℃、510℃、520℃、530℃、540℃、550℃、560℃、570℃或580℃等，进一步优选为480～550℃。优选地，所述升温为匀速升温，匀速升温的升温速率为1～20℃/min，例如为2℃/min、3℃/min、4℃/min、5℃/min、6℃/min、7℃/min、9℃/min、11℃/min、13℃/min、15℃/min、17℃/min或19℃/min等，进一步优选为4～16℃/min。优选地，所述煅烧处理的时间为40～200min，例如为60min、80min、100min、120min、140min、160min、180min或190min等，进一步优选为60～120min。优选地，所述偏钒酸铵为偏钒酸铵粉末。相较于粒径更小的偏钒酸铵粉末，本专利技术更适用于以粒径较大的偏钒酸铵粉末作为原料，优选地，所述偏钒酸铵粉末的粒径为20～100μm，例如为25μm、35μm、45μm、55μm、65μm、75μm、85μm、90μm或95μm等。优选地，所述预处理和煅烧处理在管式炉中进行。优选地，所述氧化性气氛通过在管式炉内通入氧气和/或空气得到。优选地，所述氧气和/或空气的流量≤1000mL/min，例如为50mL/min、100mL/min、200mL/min、300mL/min、400mL/min、500mL/min、600mL/min、700mL/min、800mL/min、900mL/min或950mL/min等，进一步优选为200～800mL/min。优选地，所述制备方法包括如下步骤：将粒径为20～100μm的偏钒酸铵粉末置于管式炉中，在管式炉内通入氧气和/或空气，氧气和/或空气的流量为200～800mL/min，之后以1～20℃/min的升温速率匀速升温，在150～280℃下恒温进行预处理30～180min，之后继续以1～20℃/min的升温速率匀速升温，在450～590℃下恒温煅烧40～200min进行煅烧处理，得到所述四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒。本专利技术的目的之二在于提供一种通过所述制备方法制备的五氧化二钒，通过本专利技术中所述的制备方法制备得到的五氧化二钒中四价钒的含量＜0.005wt％，远小于通过其他现有技术制备的五氧化二钒。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：(1)本专利技术通过在传统煅烧工艺之前引入预处理的步骤，通过选用150～280℃这一预处理的温度区间，使得制备得到的五氧化二钒产品纯度相较于传统制备工艺有了进一步的提高，在工业生产中，通过调整煅烧工艺流程即可施用本专利技术，无需另行购置其他设备，故本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：在氧化性气氛中将偏钒酸铵在150～280℃下恒温进行预处理，之后升温，进行煅烧处理，得到所述四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒。

【技术特征摘要】
1.一种四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：在氧化性气氛中将偏钒酸铵在150～280℃下恒温进行预处理，之后升温，进行煅烧处理，得到所述四价钒含量小于0.005wt％的五氧化二钒。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述预处理的温度为180～260℃；优选地，所述预处理的时间为30～180min，进一步优选为60～150min。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述升温为匀速升温，匀速升温的升温速率为1～20℃/min，优选为4～16℃/min。4.根据权利要求1～3之一所述的制备方法，其特征在于，所述煅烧处理为恒温煅烧，煅烧处理的温度为450～590℃，优选为480～550℃。5.根据权利要求1～4之一所述的制备方法，其特征在于，所述煅烧处理的时间为40～200min，优选为60～120min。6.根据权利要求1～5之一所述的制备方法，其特征在于，所述偏钒酸铵为偏钒酸铵粉末；优选地，所述偏钒酸铵粉末的粒...

【专利技术属性】
技术研发人员：宁朋歌，许高洁，曹宏斌，
申请(专利权)人：中国科学院过程工程研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11