抗蚀剂剥离液组合物制造技术

本发明专利技术涉及抗蚀剂剥离液组合物，更详细而言，涉及如下抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含：季铵盐化合物1～15重量％、非质子性极性有机溶剂20～60重量％、无机碱或其盐化合物0.01～1重量％、下述化学式1所表示的化合物1～20重量％、以及余量的水。下述化学式1中，R1～R3中的一个为碳原子数1～3的烷基胺，此时，R1～R3中的其余为氢。[化学式1]

Anticorrosive compound

The invention relates to an anticorrosive stripping composition, in more detail, relating to the following anticorrosive stripping composition, characterized by a combination of 1~15 weight% of quaternary ammonium compounds, 20~60 weight% of an aprotic polar organic solvent, an inorganic base or a salt compound of 0.01 to 1 weight%, and the chemical formula 1 expressed in the following chemical formula. 1~20% of the weight and the amount of water. In the formula R1 below, an alkyl amine with a carbon number of 1~3 is in the range of R1 to R3. At this time, the rest of R1 ~ R3 is hydrogen. [chemical type 1]

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离液组合物
本专利技术涉及抗蚀剂剥离液组合物。
技术介绍
近年来，随着电子设备的小型化，半导体元件的高集成化和多层化正在飞速发展，因此需要用于进行光致抗蚀剂(photoresist，PR)图案的微细化而稳定地形成0.5μm以下的微细电路的技术。半导体元件或液晶显示元件的微细电路是通过光刻(photolithography)工序实现的。光刻工序以如下工序进行：在基板上所形成的铝、铝合金、铜、铜合金、钼、钼合金等的导电性金属膜或氧化硅膜、氮化硅膜等绝缘膜上，均匀地涂布光致抗蚀剂，并将其选择性地进行曝光、显影处理而形成光致抗蚀剂图案，然后将图案化的光致抗蚀剂膜用作掩模而将上述导电性金属膜或绝缘膜通过湿式或干式进行蚀刻，将微细电路图案转印至光致抗蚀剂下部层后，将无用的光致抗蚀剂层利用剥离液(stripper)去除。其中所使用的光致抗蚀剂根据照射射线后在显影液中的溶解性的差异而被分为负型或正型。负型光致抗蚀剂是指，被曝光的部位固化，对于显影液的溶解性降低，从而以图案部存在的光致抗蚀剂。与此不同，被曝光的部分发生显影时称为正型光致抗蚀剂负型光致抗蚀剂具有灵敏度、耐热性、与基板的粘接性优异的特征，并且与正型光致抗蚀剂相比，具有因耐镀敷性优异而在20μm以上的厚膜中也能够获得良好的形状的优点。然而，上述负型光致抗蚀剂与正型光致抗蚀剂相比，存在剥离不便或难以被剥离的缺点。负型光致抗蚀剂中代表性的彩色抗蚀剂可通过安装于互补金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor，CMOS)或电荷耦合元件(chargecoupleddevice，CCD)等图像传感器的彩色摄影装置内来用于实际获得彩色图像，除此之外，也用作呈现摄影元件、等离子体显示器面板(PDP)、液晶显示装置(LCD)、场发射显示器(FED)和发光显示器(LED)的色彩的最主要的部件之一。例如，LCD中使用的滤色器基板通常由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)图案和起到用于阻断各像素之间的漏光并提高对比的作用的黑矩阵、以及对液晶盒施加电压的共用电极构成。近年来，随着显示器的大面积化、微细图案化的进行，为了改善开口率且增加生产效率，还采用在形成有驱动电路的阵列上部构成滤色器的工序。在这样的滤色器制造工序中会不可避免地发生光致抗蚀剂图案的不良，光致抗蚀剂一旦固化，仅通过将错误的部分去除而进行修理是几乎不可能的，并且几乎没有能够将光致抗蚀剂去除的溶剂，因此就不良滤色器而言，不会进行修理等重新加工而大部分会被直接废弃处理，因而存在生产率降低的问题。为了解决该问题，正在开发用于将固化的光致抗蚀剂去除的组合物。作为光致抗蚀剂的剥离方法，采用利用剥离液的湿式剥离法，此时所使用的剥离液理论上应能够将作为去除对象物的光致抗蚀剂完全剥离，且在冲洗(rinse)后残留物不应留在基板上。此外，应具备不使光致抗蚀剂下部层的金属膜或绝缘膜受到损伤的低腐蚀性。对此，如果构成剥离液的组成物质间发生相互反应，则剥离液的储存稳定性会成为问题，且可能会因制造剥离液时的混合顺序而出现其他物性，因此应具备组成物质间的无反应性以及高温稳定性。进一步，剥离液操作容易、毒性低且安全为佳。此外，可被一定剥离液量处理的基板数量应当多，且构成剥离液的成分的获得应当容易。上述多种条件中最主要的项目是，对于成为对象的彩色抗蚀剂应具备优异的去除性能，且应具备不使彩色抗蚀剂下部层的绝缘膜或金属膜受到损伤的低腐蚀性。为了使该性能得到满足，研究、开发了具有多种组成的彩色抗蚀剂剥离液组合物。韩国公开专利第10-2012-0024714号涉及抗蚀剂剥离组合物和电气元件的制造方法，更详细而言，公开了如下液相组合物：不含N-烷基吡咯烷酮、羟胺和羟胺衍生物，用旋转型粘度计测定时，50℃时的动态剪切粘度为1～10mPas，以组合物的总重量为基准，包含(A)选自由如下溶剂组成的组中的一种以上极性溶剂40～99.95重量％，所述溶剂在以各试验溶液的总重量为基准存在0.06～4重量％的被溶解的四甲基氢氧化铵(B)的条件下，在50℃对于包含深紫外线吸光性发色团的30nm厚度的高分子屏障抗反射层(barrierantireflectivelayer)显示一定的去除速度；(B)一种以上的氢氧化季铵0.05～小于0.5重量％；以及(C)以组合物的总重量为基准小于5重量％的水。此外，韩国公开专利第10-2012-0023068号涉及抗蚀剂剥离组合物和电气设备的制造方法，公开了如下液体组合物：包含(A)选自由如下溶剂组成的组中的一种以上极性溶剂，所述溶剂在以各测试溶液(AB)的整体重量为基准存在0.06～4重量％的被溶解的四甲基氢氧化铵(B)的条件下，对于包含远紫外线吸收发色团的30nm厚度的聚合物屏障抗反射层在50℃显示出一定的去除率；(B)一种以上的氢氧化季铵；以及(C)包含一个以上伯氨基的一种以上芳香族胺。韩国注册专利第10-1333779号涉及TFT-LCD用彩色抗蚀剂剥离液组合物，公开了如下彩色抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含(a)选自由无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有碳原子数1～4的烷基的烷基氢氧化铵和具有碳原子数1～4的烷基的苯基烷基氢氧化铵组成的组中的氢氧化物化合物1～20重量％；(b)选自由具有碳原子数1～4的烷基的亚烷基二醇醚和亚烷基二醇组成的组中的一种以上化合物1～70重量％；(c)羟胺0.5～10重量％；(d)烷氧基烷基胺0.5～50重量％；和(e)余量的水。然而，上述现有文献存在无法充分确保彩色抗蚀剂和有机绝缘膜的去除性的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：韩国公开专利第10-2012-0024714号(2012.03.14.巴斯夫SE)专利文献2：韩国公开专利第10-2012-0023068号(2012.03.12.巴斯夫SE)专利文献3：韩国注册专利第10-1333779号(2013.11.21.株式会社东进世美肯)
技术实现思路
所要解决的课题本专利技术用于解决如上所述问题，其目的在于提供一种通过包含由特定化学式表示的胺化合物从而能够提高抗蚀剂去除力的抗蚀剂剥离液组合物。解决课题方法用于实现上述目的的本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物的特征在于，包含：季铵盐化合物1～15重量％、非质子性极性有机溶剂20～60重量％、无机碱或其盐化合物0.01～1重量％、下述化学式1所表示的化合物1～20重量％、以及余量的水。[化学式1](上述化学式1中，R1～R3中的一个为碳原子数1～3的烷基胺，此时，R1～R3中的其余为氢。)。专利技术效果如上所述，本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物通过以特定含量包含季铵盐化合物、非质子性极性有机溶剂、无机碱或其盐化合物和上述化学式1所表示的化合物，从而具有能够提高抗蚀剂去除力的效果。具体实施方式本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物包含季铵盐化合物1～15重量％、非质子性极性有机溶剂20～60重量％、无机碱或其盐化合物0.01～1重量％、下述化学式1所表示的化合物1～20重量％、以及余量的水，下文中更加详细描述。季铵盐化合物上述季铵盐化合物起到使氢氧化物离子渗透至高分子抗蚀剂内而使固化的高分子分解，并促进分解的低聚物的溶解的作用。此时，季铵盐化合物可以包含选自由四甲基氢氧化铵(TMA本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含：季铵盐化合物1～15重量％、非质子性极性有机溶剂20～60重量％、无机碱或其盐化合物0.01～1重量％、下述化学式1所表示的化合物1～20重量％、以及余量的水，化学式1

【技术特征摘要】
2017.01.25 KR 10-2017-00118541.一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含：季铵盐化合物1～15重量％、非质子性极性有机溶剂20～60重量％、无机碱或其盐化合物0.01～1重量％、下述化学式1所表示的化合物1～20重量％、以及余量的水，化学式1所述化学式1中，R1～R3中的一个为碳原子数1～3的烷基胺，此时，R1～R3中的其余为氢。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述季铵盐化合物包含选自由四甲基氢氧化铵(TMAH)、四乙基氢氧化铵(TEAH)、四丙基氢氧化铵(TPAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)组成的组中的一种以上。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述非质子性极性有机溶剂包含选自由二甲亚砜、二乙亚砜、二丙亚砜、环丁砜、N-乙基甲酰胺、二乙基甲酰胺、二甲...

【专利技术属性】
技术研发人员：房淳洪，金佑逸，洪宪杓，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR