The invention provides a projection lens for exposure and a photolithography system using the projection objective of this exposure. From top to bottom, a number of lens chambers are included in turn. A gas diversion device is arranged at the top of the object mirror chamber at the top layer, and a gas vent is set at the bottom objective lens chamber, and the gas is from the gas diversion device from the upper to the upper to the upper. The objective lens chamber is sequentially flowing into the chamber and discharged from the outlet. The invention makes the external gas from the gas diversion device into the lens chamber of the projection lens, thus changing the flow direction of the gas, thus changing the pressure under the flow of the gas, avoiding the generation of the flow dead angle, and thus reducing the probability of the contamination of the projection lens lens.
【技术实现步骤摘要】
一种曝光用投影物镜以及光刻系统
本专利技术涉及半导体领域,特别涉及一种曝光用投影物镜以及光刻系统。
技术介绍
现有技术中的光刻机如图1所示,支撑框架1支撑照明系统2、掩膜台3、投影物镜4和硅片台6,硅片台6上放置有一涂有感光光刻胶的硅片5。请参考图2,其中投影物镜4由多组外圈镜座41和内圈镜片42(虚线)组成。投影物镜4的流场模型为:在外圈镜座41上设有一个通气口430,供气源进入物镜腔室内部,气源提供的气体期望为惰性气体或中性气体,为了避免气体在物镜腔室中因曝光发生氧化反应,期望值为氦气或者氮气。请参照图2,通气口430的长度方向为水平方向,气体以水平方向进入到外圈镜座41与内圈镜片42之间的物镜腔室(401、402、403、404)中,每个内圈镜片42与同轴的外圈镜座41形成一组,每组内圈镜片42与上下相邻内圈镜片42之间通过镜座组件密封安装,为了使每个物镜腔室相连通,在每组安装的外圈镜座41上打有通孔44,相邻的两个物镜腔室的外圈镜座41之间设置了通气管45将对应的通孔44连接,气体通过通孔44进入到下一个物镜腔室中。投影物镜在工作时,为了防止因曝光产生的热影响导致镜片组引起氧化污染,或通入的气体因滞留而污染光刻胶,需要物镜内部维持流动的过压环境,希望物镜内部的流场尽量均匀地流动,内部过压期望值为100±1帕,流场速度范围期望值为0-0.3m/s。阻止外界环境入侵,通过物镜内部结构的流场分析,研究物镜内部结构通气过程的流场和压力分布,通过物镜内部结构的过压设计来防止镜片受污染。按照流量为12L/h计算,约为0.000004kg/s的质量流量,可按照以 ...
【技术保护点】
1.一种曝光用投影物镜,从上至下依次包括若干个物镜腔室,其特征在于,在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置,在底层的物镜腔室设置有出气孔,气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流出。
【技术特征摘要】
1.一种曝光用投影物镜,从上至下依次包括若干个物镜腔室,其特征在于,在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置,在底层的物镜腔室设置有出气孔,气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流出。2.如权利要求1所述的曝光用投影物镜,其特征在于,所述气体导流装置为与所述顶层的物镜腔室连通的导气管,所述导气管的长度方向垂直于水平面。3.如权利要求1所述的曝光用投影物镜,其特征在于,每个所述物镜腔室上对称分布有若干个通气孔,相邻两个物镜腔室上对应的通气孔通过通气管连接,所述物镜腔室内的气体通过所述通气管流入相邻的所述物镜腔室。4.如权利要求3所述的曝光用投影物镜,其特征在于,所述顶层的物镜腔室与相邻的物镜腔室之间的通气管的长度方向与水平面形成45°夹角...
【专利技术属性】
技术研发人员:韦婧宇,
申请(专利权)人:上海微电子装备集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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