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本发明提供一种曝光用投影物镜以及使用这种曝光用投影物镜的光刻系统，从上至下依次包括若干个物镜腔室，在顶层的物镜腔室的顶部设置有气体导流装置，在底层的物镜腔室设置有出气孔，气体从所述气体导流装置从上至下依次流入所有所述物镜腔室并从所述出气孔流...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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