一种加热装置及一种真空镀膜系统制造方法及图纸
A heating device and a vacuum coating system
The invention discloses a heating device for a vacuum coating system. The heating device is installed in a vacuum coating system for heating a substrate, including a heating element designed for heating a substrate, an electric connection with a heating element, a power supply element for providing electrical energy to a heating element, and a power supply element connected to a heating element. The connector is sealed in a vacuum chamber of a vacuum coating system and includes an insulating element for reducing heat conduction. The invention also discloses a vacuum coating system comprising the heating device. The invention can effectively solve the problem that the heating temperature of the existing vacuum coating system is limited, and can realize the vacuum coating in a large temperature range.
【技术实现步骤摘要】
一种加热装置及一种真空镀膜系统
本专利技术涉及薄膜制备的
，特别涉及到一种真空镀膜系统的加热装置及具有该加热装置的真空镀膜系统。
技术介绍
真空镀膜技术依赖于对基材的加热，镀膜时基材温度是决定薄膜覆盖效率和薄膜质量的关键因素之一。目前，真空镀膜设备的加热装置主要有两种：一种是加热盘装设于真空腔的底部，密封装置设于真空腔的上部，由于密封装置的耐热温度有限，真空腔的温度不宜太高，在实际应用中，具有该种加热装置的镀膜设备的加热温度一般只能控制在300摄氏度以下；另一种是加热盘通过连接一支架装设于真空腔的中部，支架完全暴露于真空腔内，在前期加热过程中，支架的表面温度低于前驱体源的温度，前驱体凝结在支架表面而造成真空腔内的污染，只有当加热盘的温度足够高且持续时间足够长时，支架的表面温度才可能与前驱体源的温度持平，此时，镀膜工序才能顺利进行，因此，采用该种加热装置对基材进行加热的镀膜设备仅适用于加热温度较高的薄膜制备，比如加热温度高于500摄氏度。可见，现有技术中至少存在以下缺陷：基于加热装置的结构设计特点，现有的真空镀膜系统的加热温度受限，仅适用于低温或高温的薄膜制备...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜系统的加热装置，其特征在于，安装在真空镀膜系统中用于加热基材，且包括：设计用于加热基材的加热元件；与所述加热元件电连接并用于向加热元件提供电能的电源供应元件；将所述电源供应元件连接到所述加热元件的连接件，据此所述连接件密封于所述真空镀膜系统的真空腔内，并且据此所述连接件包括用于减少热量传导的隔热元件。
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜系统的加热装置，其特征在于，安装在真空镀膜系统中用于加热基材，且包括：设计用于加热基材的加热元件；与所述加热元件电连接并用于向加热元件提供电能的电源供应元件；将所述电源供应元件连接到所述加热元件的连接件，据此所述连接件密封于所述真空镀膜系统的真空腔内，并且据此所述连接件包括用于减少热量传导的隔热元件。2.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述连接件还包括：用于承载所述隔热元件的隔热元件放置台，据此所述隔热元件放置台与所述真空腔密封连接。3.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，所述加热元件被所述隔热元件至少部分覆盖。4.根据权利要求1-3之一所述的加热装置，其特征在于，还包括：与所述加热元件连接的基材放置台，用以承载基材；与所述基材放置台连接的温控元件，用以监测基材放置台的温度。5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑文岸，张光海，李哲峰，
申请(专利权)人：深圳市原速光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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