X射线成像装置及其控制方法制造方法及图纸

本公开提供了一种X射线成像装置及其控制方法，用于引导用户直观地识别X射线的实际剂量并选择适当的剂量，最终提供通过向用户提供关于X射线过滤器效应被反映到其的实际X射线剂量的信息来实现低剂量的X射线照射的条件。根据本公开的一个方面，一种X射线成像装置包括，X射线源，被配置为根据X射线照射条件生成并照射X射线，所述X射线照射条件包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个；显示器，被配置为提供图形用户界面以接收关于X射线照射条件的选择；以及控制器，被配置为基于所选择的X射线照射条件来获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并控制显示器显示参数。

X ray imaging device and its control method

The present disclosure provides an X ray imaging device and a control method for guiding the user to intuitively identify the actual dose of the X ray and select the appropriate dose, and ultimately provide conditions for low dose X ray irradiation by providing information to the user about the actual X ray dose of the X ray filter effect. According to one aspect of the present disclosure, a X ray imaging device includes a X ray source configured to generate and irradiate a X ray according to a X ray irradiation condition, the X ray irradiation condition including a tube voltage, a tube current, a exposure time, or at least one of the filters; the display is configured to provide a graphical user interface for reception. The selection of X ray irradiation conditions, and the controller, are configured to obtain the parameters of the radiation dose reflected by the influence of the filter based on the selected X ray irradiation conditions and control the display parameters of the display.

【技术实现步骤摘要】
X射线成像装置及其控制方法
本公开涉及一种X射线成像装置及其控制方法。
技术介绍
X射线成像装置是用于通过将X射线照射到对象并分析已经穿过对象的X射线来允许用户看到对象的内部结构的设备。X射线透射率取决于对象的组织(tissue)而不同，因此可以使用从X射线透射率量化的衰减系数来对对象的内部结构进行成像。X射线检查中使用的X射线照射的条件是确定X射线图像质量和辐射暴露量的重要因素。因此，为诸如放射线技术人员、医生等的用户提供关于X射线照射条件的适当的信息是重要的。
技术实现思路
为了解决上述缺陷，主要目的是提供一种X射线成像装置及其控制方法，用于引导用户直观地识别X射线的实际剂量并选择适当的剂量，最终通过向用户提供关于X射线过滤效应被反映到其的实际X射线剂量的信息来提供低剂量的X射线照射的条件。根据本公开的一个方面，一种X射线成像装置包括：X射线源，被配置为根据X射线照射条件生成并照射X射线，该X射线照射条件包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个；显示器，被配置为提供图形用户界面以接收关于X射线照射条件的选择；以及控制器，被配置为基于所选择的X射线照射条件来获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并控制显示器显示参数。表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数可以包括与已经透射(transmit)过滤器的X射线相对应的管电流量、已经透射过滤器的X射线的剂量、或未透射过滤器的X射线的剂量与已经透射过滤器的X射线的剂量的比率中的至少一个。显示器可以被配置为以数字值、或表示数字值的图或图像来显示参数。X射线成像装置还可以包括存储装置，被配置为通过区分过滤器的类型或厚度来存储每管电流量(mAs)的剂量与管电压之间的关系。控制器可以被配置为当输入X射线照射条件的选择时，在存储装置中搜索与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量。控制器可以被配置为另外地搜索与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量。控制器可以被配置为基于与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量和与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量来获得未透射过滤器的X射线的剂量与已经透射过滤器的X射线的剂量的比率。控制器可以被配置为基于所获得的比率和所选择的X射线照射条件中包括的管电流量来获得与已经透射过滤器的X射线相对应的管电流量。控制器可以被配置为基于与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量和在所选择的X射线照射条件中包括的管电流量来获得已经透射过滤器的X射线的剂量。控制器可以被配置为当成像协议或对象的尺寸中的至少一个被选择时，控制显示器显示与所选择的、成像协议或对象的尺寸中的至少一个相对应的基本X射线照射条件。控制器可以被配置为基于基本X射线照射条件来获得表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数。控制器可以被配置为每当X射线照射条件的选择被改变时，都重新获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并且控制显示器显示参数。根据本公开的一个方面，一种X射线成像装置的控制方法，该方法包括：提供图形用户界面，该图形用户界面被配置为接收包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个的X射线照射条件的选择；基于所选择的X射线照射条件，获得表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数；并将所获得的参数显示在显示器上。表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数可以包括与已经透射过滤器的X射线相对应的管电流量、已经透射过滤器的X射线的剂量、或未透射过滤器的X射线的剂量和已经透射过滤器的X射线的剂量的比率中的至少一个。将所获得的参数显示在显示器上可以包括以数字值、或表示数字值的示图或图像来显示参数。该方法还可以包括通过区分存储装置中的过滤器的类型或厚度来存储每管电流量(mAs)的剂量与管电压之间的关系。表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数的获得可以包括当输入X射线照射条件的选择时在存储装置中搜索与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量。表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数的获得可以包括搜索与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量。表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数的获得可以包括基于与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量和与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量来获得未透射过滤器的X射线的剂量与已经透射过滤器的X射线的剂量的比率。表示过滤器的影响被反映到其的剂量的参数的获得可以包括基于所获得的比率以及在所选择的X射线照射条件中包括的管电流量来获得与已经透射过滤器的X射线相对应的管电流量。在进行下面的详细描述之前，阐明贯穿本专利文档使用的某些词和短语的定义可能是有利的，术语“包括”和“包含”及其派生词意味着包括但不限制；术语“或”是包含性的，意味着和/或；短语“与...相关联”和“与其相关联”及其派生词可以意味着包括、被包括在...内、与...互连、包含、被包含在...内、连接到或与...连接、耦合到或与...耦合、与...可通信、与...合作、交织、并列、接近、被绑定到或与...绑定、具有、具有...的属性等；并且术语“控制器”意味着控制至少一个操作的任何设备、系统或其部分，这样的设备可以以硬件、固件或软件、或其中至少两个的一些组合来实施。应该注意，与任何特定控制器相关联的功能可以是集中式的或者分布式的，无论本地地还是远程地。贯穿专利文档提供特定词和短语的定义，本领域的普通技术人员应该理解在许多情况(如果不是大多数情况)下，这些定义应用于这些定义的词和短语在以前以及未来的使用。附图说明为了更全面地理解本公开及其优点，现在参考下面的结合附图的描述，在附图中，相同的参考标号表示相同的部分：图1示出了根据本公开的实施例的X射线成像装置的控制框图；图2示出了示出根据本公开的实施例的X射线成像装置的配置的外部视图；图3示出了被装备在X射线源中的子显示设备的外形视图；图4示出了图示地示出X射线源中包括的X射线管的结构的侧面剖视图；图5示出了准直器的配置；图6示出了沿图5的AA'切割的叶片(blade)的侧面剖视图；图7和图8示出了根据本公开的实施例的要在X射线成像装置中使用的自动暴露控制(AutomaticExposureControl，AEC)传感器的示例；图9示出了根据本公开的实施例的在X射线成像装置的显示器上显示的屏幕的示例；图10示出了表示取决于X射线照射条件的辐射剂量的表；图11示出了表示根据管电压和过滤器类型/厚度的辐射剂量的改变的曲线图；图12至图18示出了其中根据实施例的X射线成像装置在显示器上显示关于过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的信息的示例；图19示出了根据本公开的实施例的X射线成像装置的控制方法的流程图；图20示出了根据本公开的实施例的X射线成像装置的控制方法中的获得表示辐射剂量的参数的示例的流程图；以及图21示出了根据本公开的另一实施例的X射线成像装置的控制方法中的获得表示辐射剂量的参数的示例的流程图。具体实施方式以下讨论的图1至图21以及用于描述本专利文档中的本公开的原理的各种实施例仅作为说明，并且无论如何不应该被解释为限制本公开的范围。本领域技术人员本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线成像装置，包括：X射线源(110)，被配置为根据包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个的X射线照射条件来生成和照射X射线；显示器(150)，被配置为提供图形用户界面以接收关于所述X射线照射条件的选择；以及控制器(140)，被配置为基于所选择的X射线照射条件获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并且控制所述显示器显示所述参数。

【技术特征摘要】
2017.01.25 KR 10-2017-00122111.一种X射线成像装置，包括：X射线源(110)，被配置为根据包括管电压、管电流、暴露时间或过滤器中的至少一个的X射线照射条件来生成和照射X射线；显示器(150)，被配置为提供图形用户界面以接收关于所述X射线照射条件的选择；以及控制器(140)，被配置为基于所选择的X射线照射条件获得表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数，并且控制所述显示器显示所述参数。2.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，表示过滤器的影响被反映到其的辐射剂量的参数包括与已经透射所述过滤器的X射线相对应的管电流量、已经透射所述过滤器的X射线的剂量、或未透射所述过滤器的X射线的剂量与已经透射所述过滤器的X射线的剂量的比率中的至少一个。3.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述显示器被配置为以数字值、或者表示所述数字值的示图或图像显示所述参数。4.根据权利要求1所述的X射线成像装置，还包括：存储装置(170)，被配置为通过区分所述过滤器的类型或厚度来存储每管电流量的剂量与管电压之间的关系，其中管电流量的单位是mAs。5.根据权利要求4所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为当输入所述X射线照射条件的选择时，在所述存储装置中搜索与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量。6.根据权利要求5所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为搜索与当在所选择的X射线照射条件下不使用过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量。7.根据权利要求6所述的X射线成像装置，其中，所述控制器被配置为基于与所选择的X射线照射条件相对应的每管电流量的剂量和与当在所选择的X射线照射条件下不使用所述过滤器时的场合相对应的每管电流量的剂量来获得未透射所述过滤器的X射线的剂量与已经透射所述过...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴旻澈，李宗河，金东昱，郑银美，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR