套刻机台测试焦点的套刻标记制造技术

本发明专利技术涉及一种套刻机台测试焦点的套刻标记，多个第一长标记、多个第二长标记、多个第一短标记与多个第二短标记均采用一半采用矩形标记与光栅状标记，使得光栅状标记与矩形标记的复合标记在焦点最佳时、套刻机台识别的复合标记中心点在中心位置。因此，在具有套刻标记的图层没有画得对偏的状况下，焦点对齐条件是套刻偏移量接近0，但是随着焦点往正或者往负，套刻偏移量会显著增大，根据套刻偏移量测结果可以推算出焦点对齐的位置。

Engraving mark for the test focus of the engraving machine

The present invention relates to an engraving mark for the test focus of an engraving machine. A number of first long marks, multiple second long marks, multiple first short marks and multiple second short markup are used in half a rectangular mark and a raster mark to make the composite marking of a grating like mark and a rectangular mark at the best point and engraving the machine. Other compound marker centers are in the center position. As a result, the alignment condition of the focus is that the offset is close to 0, but as the focus is positive or negative, the offset will increase significantly, and the position of the focus alignment can be calculated according to the set offset measurement results.

【技术实现步骤摘要】
套刻机台测试焦点的套刻标记
本专利技术涉及套刻机台的测试图像，特别是涉及一种能够快速而准确检测最佳焦点的套刻机台测试焦点的套刻标记。
技术介绍
光刻机(MaskAligner)又名：掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。在光刻中，如果光刻机台不能实现聚焦，也不能成功地将掩膜版和硅片进行对准和曝光，也就无法将掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂有光刻胶的硅片上。因此，确定光刻机台的最佳焦点对获得高质量的图形来说非常重要。而确定光刻机台的最佳焦点，如果采用光刻机台自有的测试方法，需要暂停生产，光刻机台运行自有的测试方法来确定最佳焦点。这就占用了工艺时间，影响生产效率。如果采用菜单条宽测试，测试方法复杂，速度较慢，同样会影响生产效率。
技术实现思路
基于此，有必要一种无需采用机台测试焦点、就能够快速而准确检测最佳焦点的套刻机台测试焦点的套刻标记。一种套刻机台测试焦点的套刻标记，所述套刻标记包括横向标记和纵向标记；所述横向标记包括多个第一长标记和多个第一短标记，所述多个第一长标记与多个第一短标记平行排列；所述第一长标记包括第一长矩形标记和第一光栅状标记，所述第一长矩形标记与所述第一光栅状标记平行排列；所述第一短标记与所述第一长标记的排列形状相似，所述第一短标记的长度为第一长标记的长度1/4到1/3；所述纵向标记包括多个第二长标记和多个第二短标记，所述多个第二长标记与多个第二短标记平行排列；所述第二长标记包括第二长矩形标记和第二光栅状标记，所述第二长矩形标记与所述第二光栅状标记平行排列；所述第二短标记与所述第二长标记的排列形状相似，所述第二短标记的长度为第二长标记的长度1/4到1/3；所述多个第一长标记与所述多个第二长标记呈口字型排列形成外层标记；所述多个第一短标记与所述多个第二短标记呈口字型排列形成内层标记，且所述内层标记被所述外层标记包围。在其中一个实施例中，所述第一长标记的宽度为2±0.4μm。在其中一个实施例中，所述第一短标记的宽度为2±0.4μm。在其中一个实施例中，所述第一长矩形的宽度为1±0.2μm。在其中一个实施例中，所述第一光栅状标记包括多个小矩形，所述小矩形的宽度为0.08±0.01μm，多个小矩形之间的距离为0.08±0.01μm。在其中一个实施例中，所述第一长标记的长度为18±2μm。在其中一个实施例中，所述第一长标记与相邻排列的所述第一短标记之间的距离为1±0.2μm。在其中一个实施例中，所述第一短标记的长度为6±1μm。在其中一个实施例中，所述第一长标记与相邻排列的所述第一短标记的光栅状标记相对或相背。在其中一个实施例中，所述第二长标记与相邻排列的所述第二短标记的光栅状标记相对或相背。上述套刻机台测试焦点的套刻标记中，多个第一长标记、多个第二长标记、多个第一短标记与多个第二短标记均采用一半矩形标记与一半光栅状标记的组合，在处于最佳焦点时，矩形标记与光栅状标记均无形变，套刻机台识别的套刻标记在中心点位置，此时，套刻偏移量接近0。由于采用矩形标记与光栅状标记的组合来测试最佳焦点，因而在最佳焦点偏正或偏负时，套刻偏移量会显著增大，使得套刻机台或用户能够及时有效的发现最佳焦点出现了偏移，且能够根据套刻偏移量推算出最佳焦点的位置。附图说明图1为套刻机台测试焦点的套刻标记的结构示意图；图2为套刻标记对应的套刻偏移量的转换示意图；图3为套刻偏移量与焦点的拟合示意图；图4为焦点位置与套刻偏移量对应关系的示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。如图1所示，为套刻机台测试焦点的套刻标记的结构示意图。一种套刻机台测试焦点的套刻标记，所述套刻标记包括横向标记和纵向标记；所述横向标记包括多个第一长标记10和多个第一短标记20，所述多个第一长标记10与多个第一短标记20平行排列；所述第一长标记10包括第一长矩形标记101和第一光栅状标记102，所述第一长矩形标记101与所述第一光栅状标记102平行排列；所述第一短标记20与所述第一长标记10的排列形状相似，所述第一短标记20的长度为第一长标记10的长度1/4到1/3；所述纵向标记包括多个第二长标记30和多个第二短标记40，所述多个第二长标记30与多个第二短标记40平行排列；所述第二长标记30包括第二长矩形标记301和第二光栅状标记302，所述第二长矩形标记301与所述第二光栅状标记302平行排列；所述第二短标记40与所述第二长标记30的排列形状相似，所述第二短标记40的长度为第二长标记30的长度1/4到1/3。所述多个第一长标记10与所述多个第二长标记30呈口字型排列形成外层标记；所述多个第一短标记20与所述多个第二短标记40呈口字型排列形成内层标记，且所述内层标记被所述外层标记包围。在一个实施例中，横向标记包括两个第一长标记10和两个第一短标记20，纵向标记包括两个第二长标记30和两个第二短标记40。两个第一长标记10与两个第二长标记30呈口字型排列形成外层标记，其中，两个第一长标记10平行排列，两个第二长标记30平行排列，第一长标记10与第二长标记30垂直不相交的排列。第一长标记10与第二长标记30的形状、长度相同。两个第一短标记20与两个第二短标记40呈口字型排列形成内层标记，其中，两个第一短标记20平行排列，两个第二短标记40平行排列，第一短标记20与第二短标记40垂直不相交的排列。第一短标记20与第二短标记40的形状、长度相同。内层标记被外层标记所包围。具体的，横向标记中，第一长标记10与第一短标记20在横向上平行排列，其中，两个第一短标记20排列于两个第一长标记10中间，第一长标记10与相邻的第一短标记20之间的距离为0.944μm，而两相邻的第一短标记20之间大约是3μm。第一长标记10与相邻的第一短标记20的光栅为相对和相背，即，1个第一长标记10与相邻第一短标记20的光栅状标记为相对时，另1个第一长标记10与相邻第一短标记20的光栅状标记为相背。纵向标记中，第二长标记30与第二短标记40在横向上平行排列，其中，两个第二短标记40排列于两个第二长标记30中间，第二长标记30与相邻的第二短标记40之间的距离为0.944μm，而两相邻的第二短标记40之间大约是3μm。第二长标记30与相邻的第二短标记40的光栅为相对和相背，即，1个第二长标记30与相邻第二短标记40的光栅状标记为相对时，另1个第二长标记30与相邻第二短标记40的光栅状标记为相背。在一个实施例中，第一长标记10的宽度为2±0.4μm，一般为1.965μm。在一个实施例中，第一短标记20的宽度为2±0.4μm，一般1.965μm。在一个实施例中，第一长矩形的宽度为1±0.2μm，一般为0.983μm。在一个实施例中，第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种套刻机台测试焦点的套刻标记，所述套刻标记包括横向标记和纵向标记；其特征在于，所述横向标记包括多个第一长标记和多个第一短标记，所述多个第一长标记与多个第一短标记平行排列；所述第一长标记包括第一长矩形标记和第一光栅状标记，所述第一长矩形标记与所述第一光栅状标记平行排列；所述第一短标记与所述第一长标记的排列形状相似，所述第一短标记的长度为第一长标记的长度1/4到1/3；所述纵向标记包括多个第二长标记和多个第二短标记，所述多个第二长标记与多个第二短标记平行排列；所述第二长标记包括第二长矩形标记和第二光栅状标记，所述第二长矩形标记与所述第二光栅状标记平行排列；所述第二短标记与所述第二长标记的排列形状相似，所述第二短标记的长度为第二长标记的长度1/4到1/3；所述多个第一长标记与所述多个第二长标记呈口字型排列形成外层标记；所述多个第一短标记与所述多个第二短标记呈口字型排列形成内层标记，且所述内层标记被所述外层标记包围。

【技术特征摘要】
1.一种套刻机台测试焦点的套刻标记，所述套刻标记包括横向标记和纵向标记；其特征在于，所述横向标记包括多个第一长标记和多个第一短标记，所述多个第一长标记与多个第一短标记平行排列；所述第一长标记包括第一长矩形标记和第一光栅状标记，所述第一长矩形标记与所述第一光栅状标记平行排列；所述第一短标记与所述第一长标记的排列形状相似，所述第一短标记的长度为第一长标记的长度1/4到1/3；所述纵向标记包括多个第二长标记和多个第二短标记，所述多个第二长标记与多个第二短标记平行排列；所述第二长标记包括第二长矩形标记和第二光栅状标记，所述第二长矩形标记与所述第二光栅状标记平行排列；所述第二短标记与所述第二长标记的排列形状相似，所述第二短标记的长度为第二长标记的长度1/4到1/3；所述多个第一长标记与所述多个第二长标记呈口字型排列形成外层标记；所述多个第一短标记与所述多个第二短标记呈口字型排列形成内层标记，且所述内层标记被所述外层标记包围。2.根据权利要求1所述的套刻机台测试焦点的套刻标记，其特征在于，所述第一长标记的宽度为2±0.4μm。3.根据权利要求1所述的套刻机台测试...

【专利技术属性】
技术研发人员：李玉华，王亚超，
申请(专利权)人：无锡华润上华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32