用于基板处理设备间基板传送的控制方法、装置及系统制造方法及图纸

本申请提供了一种用于控制从流水线中的第一基板处理设备向位于其下游的第二基板处理设备传送基板的方法，包括：在自经由设置在所述第二基板处理设备的处理位置处的传感器检测到待处理基板到达所述处理位置时起第一预定时段后，生成用于使能所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送基板的基板传送使能信号；以及将所生成的基板传送使能信号发送到所述第一基板处理设备，以用于控制所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送下一待处理基板。利用该方法，可以有效地降低第一和第二基板处理设备的等待时间。

Control method, device and system for substrate transfer between substrate processing equipment

The present application provides a method for controlling the transfer of a substrate from a first substrate processing device from a pipeline to a second substrate processing device located in the lower reaches, including: a sensor at a position at a processing position set at the second substrate processing device is detected by a sensor that the processing position of the base plate is reached to the processing position. After a predetermined period of time, a baseplate transmission signal is generated for transmitting the substrate to the second substrate processing device by the first substrate processing device, and the generated substrate is transmitted so that the energy signal is sent to the first substrate processing device for controlling the first substrate processing device to the second substrate. The equipment is transmitted next to the substrate. With this method, the waiting time of the first and second substrate processing devices can be effectively reduced.

【技术实现步骤摘要】
用于基板处理设备间基板传送的控制方法、装置及系统
本申请通常涉及半导体芯片领域，更具体地，涉及一种用于基板处理设备(例如，半导体芯片基板处理设备)之间的基板传送的控制方法、装置及系统。
技术介绍
在半导体芯片封装和测试领域，通常需要经历一系列处理工序来对基板进行处理，比如芯片贴装、烘烤、引线键合、环氧固化、电镀、电镀后烘烤、打印、成形、引脚及外观检查等等。上述处理工序通常会分布在流水线上的各个基板处理设备上执行，并且在上游基板处理设备完成对基板的处理后，会将处理后的基板传送到下游的基板处理设备上进行进一步的处理。在现有的基板传送控制方案中，通常是在下游基板处理设备完成当前基板处理后，向上游基板处理设备发送下游基板处理设备空闲的消息。上游基板处理设备接收到指示下游基板处理设备空闲的消息后，如果完成对下一基板的相应处理，则将该下一基板传送到下游基板处理设备来进行处理。按照上述基板传送控制方案，由于只有在下游基板处理设备处于空闲状态下，才开始进行向下游基板处理设备的传送，而将待处理基板从上游基板处理设备的处理位置传送到下游基板处理设备的处理位置需要花费一段时间，从而使得下游基板处理设备在接本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于控制从流水线中的第一基板处理设备向位于其下游的第二基板处理设备传送基板的方法，包括：在自经由设置在所述第二基板处理设备的处理位置处的传感器检测到待处理基板到达所述处理位置时起第一预定时段后，生成用于使能所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送基板的基板传送使能信号；以及将所生成的基板传送使能信号发送到所述第一基板处理设备，以用于控制所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送下一待处理基板。

【技术特征摘要】
1.一种用于控制从流水线中的第一基板处理设备向位于其下游的第二基板处理设备传送基板的方法，包括：在自经由设置在所述第二基板处理设备的处理位置处的传感器检测到待处理基板到达所述处理位置时起第一预定时段后，生成用于使能所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送基板的基板传送使能信号；以及将所生成的基板传送使能信号发送到所述第一基板处理设备，以用于控制所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送下一待处理基板。2.如权利要求1所述的方法，还包括：基于所述传感器在所述处理位置上针对所述待处理基板的检测结果来生成阻挡板启用/禁用信号；以及基于所生成的阻挡板启用/禁用信号来启用/禁用所述阻挡板。3.如权利要求2所述的方法，其中，基于所述传感器在所述处理位置上针对所述待处理基板的检测结果来生成阻挡板启用/禁用信号包括：在满足第一预定条件后，生成用于使得设置在所述第二基板处理设备中的位于所述处理位置之前预定距离处的阻挡板工作的阻挡板启用信号，其中，所述第一预定条件包括下述条件中之一：检测到所述待处理基板到达所述处理位置；在检测到所述待处理基板到达所述处理位置起经过所述第一预定时段；或者检测到所述待处理基板到达所述处理位置起经过第二预定时段，其中，所述第二预定时段是从所述第一基板处理设备的处理位置到达所述阻挡板所处位置的所需时间。4.如权利要求3所述的方法，其中，基于所述传感器在所述处理位置上针对所述待处理基板的检测结果来生成阻挡板启用/禁用信号包括：在检测到所述待处理基板完成处理后，生成使得所述阻挡板禁用的阻挡板禁用信号。5.如权利要求3所述的方法，其中，基于所述传感器在所述处理位置上针对所述待处理基板的检测结果来生成阻挡板启用/禁用信号包括：在检测到所述待处理基板到达所述处理位置后，基于所述待处理基板的基板处理完成所需时间以及在所述第二基板处理设备上传送所述预定距离所需时间来生成使得所述阻挡板禁用的阻挡板禁用信号。6.如权利要求1所述的方法，其中，所述第二基板处理设备是所述流水线中的导致处理时间发生瓶颈的设备。7.一种用于控制从流水线中的第一基板处理设备向位于其下游的第二基板处理设备传送基板的装置，包括：基板传送使能信号生成单元，用于在自经由设置在所述第二基板处理设备的处理位置处的传感器检测到待处理基板到达所述处理位置时起第一预定时段后，生成用于使能所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送基板的基板传送使能信号；以及发送单元，用于将所生成的基板传送使能信号发送到所述第一基板处理设备，以用于控制所述第一基板处理设备向所述第二基板处理设备传送下一待处理基板。8.如权利要求7所述的装置，还包括：阻挡板启用/禁用信号生成单元，用于基于所述传感器在所述处理位置上针对所述待处理基板的检测结果来生成阻挡板启用/禁用信号；以及阻挡板控制单元，用于基于所生成的阻挡板启用/禁用信号来启用/禁用所述阻挡板。9.如权利要求8所述的装置，其中，所述阻挡板启用/禁用信号生成单元被配置为：在满足第一预定条件后，生成用于使得设置在所述第二基板处理设备中的位于所述处理位置之前预定距离处的阻挡板工作的阻挡板启用信号，其中，所述第一预定条件包括下述条件中之一：检测到所述待处理基板到达所述处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵林，李静飞，
申请(专利权)人：英特尔产品成都有限公司，英特尔公司，
类型：发明
国别省市：四川,51