自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统技术方案

本发明专利技术涉及一种自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统，所述自动光学检测设备的校准方法，包括：获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；偏移信息包括基板制程缺陷的坐标与修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；统计偏移信息，得到平均偏移量；根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头；第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，第一镜头用于根据基板制程缺陷的坐标修复基板制程缺陷。根据本发明专利技术的实施例，可以提高校准精度，缩短校准确认时间。

【技术实现步骤摘要】
自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统。
技术介绍
伴随着大尺寸TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)的推广与普及，Glass母板(基板)逐步增大，为了更精准地检测出各制程缺陷，自动光学检测设备AOI(AutomaticOpticInspection，自动光学检测)通常采用多镜头分区域对Glass母板进行检查。由于AOI输出的缺陷信息是由多个镜头检测出来的，不同镜头的安装调试存在位置误差，造成各个镜头输出缺陷坐标与标准坐标值可能都存在差异，为了保证修复设备能够将AOI检测出的缺陷进行精准修复，需校准AOI的镜头位置，保证AOI的镜头检测出的缺陷在修复设备的镜头下可见。在实际生产中，由于AOI的机械震动，或装机时的机械误差，导致AOI的各镜头位置发生偏移，降低了AOI输出缺陷位置的精度。当AOI的镜头位置偏离严重时，检测出缺陷的修复设备的镜头可能不可见，会直接影响缺陷修复。为了避免AOI输出缺陷坐标的精度降低，需定期对AOI的镜头进行补正。相关技术中，AOI的镜头位置的补正方法为：选用制作有Mark(标记)的标准片，通过对比AOI检测出的Mark坐标与Mark的实际坐标进行比对，然后根据比对结果对AOI各镜头进行校准。但该方法不能保证相邻两次镜头位置确认期间，当AOI某个镜头出现偏移量较大，导致AutoRepair(自动修复设备)的镜头无法看到缺陷而不进行修复，降低产品良率。也就是，该方法不能绝对保证AOI各镜头检出缺陷在AutoRepair镜头中可见，校准精度低，且需对AOI的镜头反复调试，校准确认时间长。
技术实现思路
本专利技术提供自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统，以解决相关技术中的不足。根据本专利技术实施例的第一方面，提供一种自动光学检测设备的校准方法，包括：获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；统计所述偏移信息，得到平均偏移量；根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。在一个实施例中，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头，包括：当所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标；当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置。在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的数目；当所述数目大于预设数目时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的占比；当所述占比大于预设占比时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。在一个实施例中，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述统计所述偏移信息，得到平均偏移量，包括：滤除所述偏移信息中偏移量为空的数据，得到过滤后的偏移信息；基于所述过滤后的偏移信息进行统计，获得所述平均偏移量。在一个实施例中，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头之前，还包括：确定当前时间符合指定的时间周期。在一个实施例中，所述方法，还包括：记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。根据本专利技术实施例的第二方面，提供一种自动修复系统，包括：修复设备与自动光学检测设备；所述修复设备，用于获取已修复的基板制程缺陷的偏移信息，并统计所述偏移信息，得到平均偏移量；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；所述自动光学检测设备，用于根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头；所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。在一个实施例中，所述修复设备包括输出单元，所述自动光学检测设备包括接收单元与处理单元；所述输出单元，用于在所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，将所述平均偏移量输出给所述自动光学检测设备，在所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置；所述接收单元，用于接收所述平均偏移量；所述处理单元，用于根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标。在一个实施例中，所述修复设备包括记录单元与更新单元；所述记录单元，用于记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；所述更新单元，用于根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。根据上述实施例可知，通过获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息，对偏移信息进行统计得到平均偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头。由于上述的平均偏移量可以体现自动光学检测设备中的第二镜头的偏移量的趋势，最接近第二镜头的实际偏移量，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以提高校准精度。而且，根据平均偏移量校准自动光学检测设备中的第二镜头，可以避免反复调试第二镜头位置，缩短校准确认时间。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。图1是根据本专利技术实施例示出的一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；图2是根据本专利技术实施例示出的一种基板制程缺陷的位置未被校准时基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；图3是根据本专利技术实施例示出的一种基板制程缺陷的位置被校准后基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；图4是根据本专利技术实施例示出的一种AOI未被校准时基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；图5是根据本专利技术实施例示出的一种AOI被校准后基板制程缺陷在修复设备的镜头中的位置示意图；图6是根据本专利技术实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；图7是根据本专利技术实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；图8是根据本专利技术实施例示出的另一种自动光学检测设备的校准方法的流程图；图9是根据本专利技术实施例示出的一种自动修复系统的框图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本专利技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本专利技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种自动光学检测设备的校准方法，其特征在于，包括：获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；统计所述偏移信息，得到平均偏移量；根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。

【技术特征摘要】
1.一种自动光学检测设备的校准方法，其特征在于，包括：获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；统计所述偏移信息，得到平均偏移量；根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头，包括：当所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标；当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的数目；当所述数目大于预设数目时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的占比；当所述占比大于预设占比时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述统计所述偏移信息，得到平均偏移量，包括：滤除所述偏移信息中偏移量为空的数据，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏，李坚，李志宾，赵宝杰，郑云蛟，崔家宾，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11