电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置。该电晕预电离电极包括：电介质管，预电离外电极和背面电极；所述电晕预电离电极还包括：固定管，其覆盖所述背面电极的一部分；其中，所述背面电极的在电介质管的预电离外电极存在的部分处的外径形成为比所述固定管的内径大。由此，能够充分获得背面电极与周围的金属部件之间的绝缘距离，并且能够实现必要的预电离强度；从而即使在被施加了高电压的背面电极尤其是电介质管的端部处，也能杜绝或抑制因附近的金属部件和背面电极而产生的异常放电。

Corona preionization electrode, laser oscillator and excimer laser device

The utility model provides a corona preionization electrode, a laser oscillator and an excimer laser device. The corona preionized electrode consists of a dielectric tube, a preionized outer electrode and a back electrode, and the corona preionization electrode also includes a fixed tube covering a part of the back electrode, wherein the outer diameter of the back electrode at the part of the preionized outer electrode of the dielectric tube is formed as the fixed tube. The inner diameter is big. Thus, the insulation distance between the back electrode and the surrounding metal parts can be fully obtained, and the necessary preionization strength can be achieved, so that even at the end of the high voltage back electrode, especially the dielectric tube, the abnormality resulting from the nearby gold and back electrodes can be eliminated or suppressed. Discharge.

【技术实现步骤摘要】
电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置
本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置。
技术介绍
伴随着半导体集成电路的细微化、高集成化，在半导体曝光装置中要求提高分辨率。以下将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。因此，从曝光用光源输出的光的波长在变短。在曝光用光源中代替现有的水银灯而使用了气体激光装置。例如，使用输出波长248nm的紫外线的KrF准分子激光装置以及输出波长193nm的紫外线的ArF准分子激光装置，作为曝光用的气体激光装置。准分子激光装置的激光震荡器中，一般配置有电晕预电离(Coronapreionization)电极。其中，例如专利文献1，该电晕预电离电极可以包括电介质管、预电离外电极和背面电极。专利文献1：日本专利申请公开2007-81438号应当注意，上面对
技术介绍
的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的
技术介绍
部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
专利技术人发现：在现有的电晕预电离电极中，在被施加了高电压的背面电极尤其是电介质管的端部处，很容易因附近的金属部件和背面电极而产生异常放电的情况。为了解决上述问题，本技术提供一种电晕预电离电极、激光振荡器和准分子激光装置，即使在被施加了高电压的背面电极尤其是电介质管的端部处，也能杜绝或抑制因附近的金属部件和背面电极而产生的异常放电。根据本技术实施例的第一方面，提供了一种电晕预电离电极，包括：电介质管；预电离外电极，其与所述电介质管的外表面接触；背面电极，其插入到所述电介质管中；所述电晕预电离电极还包括：固定管，其覆盖所述背面电极的一部分；其中，所述背面电极的在所述电介质管的所述预电离外电极存在的部分处的外径形成为比所述固定管的内径大。根据本技术实施例的第二方面，其中，所述电介质管的内径形成为比所述固定管的外径大。根据本技术实施例的第三方面，其中，所述电介质管覆盖所述固定管的一部分。根据本技术实施例的第四方面，其中，所述背面电极与所述固定管接触的一侧形成有锥形部，在所述锥形部处所述背面电极的外径从所述一侧的相反侧向所述一侧逐渐变小。根据本技术实施例的第五方面，其中，所述电介质管在所述一侧构成为覆盖所述固定管；所述固定管在所述一侧构成为覆盖所述锥形部的一部分。根据本技术实施例的第六方面，其中，所述锥形部与所述背面电极的外径较大的圆柱部接触的第一部分、和所述锥形部与所述固定管接触的第二部分通过平滑曲面连接。根据本技术实施例的第七方面，提供一种激光振荡器，包括激光腔室；其中，所述激光腔室中配置有如上第一方面至第六方面任一项所述的电晕预电离电极。根据本技术实施例的第八方面，提供一种准分子激光装置，其中，所述准分子激光装置包括如上第七方面所述的激光振荡器。本技术的有益效果在于：电晕预电离电极中包括覆盖背面电极的一部分的固定管；其中，所述背面电极的在电介质管的预电离外电极存在的部分处的外径形成为比所述固定管的内径大。由此，能够充分获得背面电极与预电离外电极的接触板部以外的周围的金属部件之间的绝缘距离，并且能够实现必要的预电离强度；从而即使在被施加了高电压的背面电极尤其是电介质管的端部处，也能杜绝或抑制因附近的金属部件和背面电极而产生的异常放电。参照后文的说明和附图，详细公开了本技术的特定实施方式，指明了本技术的原理可以被采用的方式。应该理解，本技术的实施方式在范围上并不因而受到限制。在所附权利要求的精神和条款的范围内，本技术的实施方式包括许多改变、修改和等同。附图说明所包括的附图用来提供对本技术实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本技术的实施方式，并与文字描述一起来阐释本技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：图1是本技术的电晕预电离电极的示意图；图2是本技术的电晕预电离电极中电介质管和预电离外电极的示例图；图3是本技术的激光振荡器的示意图；图4是本技术的激光腔室的剖面示意图；图5是本技术的准分子激光装置的示意图。具体实施方式参照附图，通过下面的说明，本技术的前述以及其它特征将变得明显。在说明书和附图中，具体公开了本技术的特定实施方式，其表明了其中可以采用本技术的原则的部分实施方式，应了解的是，本技术不限于所描述的实施方式，相反，本技术包括落入所附权利要求的范围内的全部修改、变型以及等同物。在本技术实施例中，术语“第一”、“第二”等用于对不同元素从称谓上进行区分，但并不表示这些元素的空间排列或时间顺序等，这些元素不应被这些术语所限制。术语“和/或”包括相关联列出的术语的一种或多个中的任何一个和所有组合。术语“包含”、“包括”、“具有”等是指所陈述的特征、元素、元件或组件的存在，但并不排除存在或添加一个或多个其他特征、元素、元件或组件。在本技术实施例中，单数形式“一”、“该”等可以包括复数形式，应广义地理解为“一种”或“一类”而并不是限定为“一个”的含义；此外术语“所述”应理解为既包括单数形式也包括复数形式，除非上下文另外明确指出。此外术语“根据”应理解为“至少部分根据……”，术语“基于”应理解为“至少部分基于……”，除非上下文另外明确指出。在本技术的下述说明中，为了说明的方便，将与沿着轴(例如电介质管的轴)延伸的方向平行的方向称为“轴向”，将以轴为中心的半径方向称为“径向”，将以轴为中心的包围径向外侧的方向称为“周向”。但值得注意的是，这些只是为了说明的方便，并不限定激光装置使用和制造时的朝向。在本技术的下述说明中，为了说明的方便，可以将激光装置中放电电极所在的一侧称为“上侧”或者“上方”，将风扇或热交换器所在的一侧称为“下侧”或者“下方”。但值得注意的是，这些只是为了说明的方便，并不限定该激光装置使用和制造时的朝向。下面参照附图对本技术的实施方式进行说明。实施例1本技术实施例提供一种电晕预电离电极。图1是本技术的电晕预电离电极的示意图，示出了将电晕预电离电极100沿轴向剖开的剖面的情况。如图1所示，电晕预电离电极100包括：电介质管101；预电离外电极102，其与所述电介质管101的外表面接触；背面电极103，其插入到所述电介质管101中。如图1所示，所述电晕预电离电极100还包括：固定管104，其覆盖所述背面电极103的一部分；其中，所述背面电极103的在所述电介质管101的所述预电离外电极102存在的部分处(例如如图1所示的M部分)的外径D1形成为比所述固定管104的内径D2大；即D1>D2。图2是本技术的电晕预电离电极中电介质管和预电离外电极的示例图，从侧面示出了电介质管101和预电离外电极102的情况。如图2所示，预电离外电极102与所述电介质管101的外表面接触；其中，预电离外电极102可以包括接触板部201、固定板部202、阶梯部203和开孔部204。例如，预电离外电极10本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电晕预电离电极，包括：电介质管；预电离外电极，其与所述电介质管的外表面接触；背面电极，其插入到所述电介质管中；其特征在于，所述电晕预电离电极还包括：固定管，其覆盖所述背面电极的一部分；其中，所述背面电极的在所述电介质管的所述预电离外电极存在的部分处的外径形成为比所述固定管的内径大。

【技术特征摘要】
1.一种电晕预电离电极，包括：电介质管；预电离外电极，其与所述电介质管的外表面接触；背面电极，其插入到所述电介质管中；其特征在于，所述电晕预电离电极还包括：固定管，其覆盖所述背面电极的一部分；其中，所述背面电极的在所述电介质管的所述预电离外电极存在的部分处的外径形成为比所述固定管的内径大。2.根据权利要求1所述的电晕预电离电极，其中，所述电介质管的内径形成为比所述固定管的外径大。3.根据权利要求1所述的电晕预电离电极，其中，所述电介质管覆盖所述固定管的一部分。4.根据权利要求1所述的电晕预电离电极，其中，所述背面电极与所述固定管接触的一侧形成有锥形部，在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：西坂敏博，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP