一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法技术

一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法，包括以下步骤：一、在衬底上制作套刻标记和金属遮光栅格；二、在衬底表面制作一层金属铝导电薄膜作为电镀的起始衬底；三、通过紫外光刻形成光刻胶掩膜；四、将制作了光刻胶图形的基片放入电镀液池中电镀；五、去除光刻胶掩膜并腐蚀衬底表面的金属铝导电薄膜，形成铝掩膜；六、采用离子溅射镀膜的方法，制备特定光学特征的F‑P型周期性干涉膜系；七、腐蚀铝掩膜，形成第一个通道的窄带滤波像素阵列；八、重复步骤二到七，依次完成第二、第三和第四通道的像素阵列的制备；九，将多通道微滤光片与CCD探测器键合封装。本发明专利技术在保持光学薄膜特性的同时，实现大厚度光学薄膜的图形化，制造工艺简单可靠，有利于推广普及，具有较高的实用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法
本专利技术涉及光学薄膜制备、光学微器件制备、纳米光子学及遥感探测领域，特别涉及一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法，其具有不同工作波长的F-P型周期性多层介质膜窄带微滤光片进行多通道窄带滤波，可以应用于光谱成像。
技术介绍
70年代末80年代初，在研究归纳各种地物光谱特征的基础上，大家逐渐认识到，如果能实现连续的窄波段成像，那么就有可能实现地面矿物的直接识别，由此产生了光谱和图像结合为一体的成像光谱技术。1983年，美国喷气推进实验室研制出第一台航空成像光谱仪(AIS-1)，随后包括中国在内的许多国家都研制成功了一系列成像光谱仪，其中有以线阵探测器为基础的光机扫描型，有以面阵探测器为基础的固态推扫型，也有以面阵探测器加光机的并扫型。光谱成像技术是一种将光谱分析技术与光学成像技术结合而成的探测技术，不同于传统黑白或者RGB三色成像，光谱成像可以从光谱维度上获得若干个任意通道。光谱成像技术不仅可以实现定性定量的光谱分析功能，还可以通过光学成像获取准确直观的目标物体分布图，具有图谱合一的优势。例如，光谱成像滤光片和CCD探测器结合，不仅有图像的信息，并本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：步骤一，在衬底上采用紫外光刻和电子束蒸发镀膜工艺，制作套刻标记和周期性滤波像素单元之间的金属遮光栅格；步骤二，在衬底表面通过紫外光刻和电子束蒸发镀膜制作一层金属铝导电薄膜作为电镀的起始衬底；步骤三，通过紫外光刻形成光刻胶掩膜；步骤四，将制作了光刻胶图形的基片放入电镀液池中电镀；步骤五，去除光刻胶掩膜，并腐蚀衬底表面的金属铝导电薄膜，形成铝掩膜；步骤六，采用离子溅射镀膜的方法，制备特定光学特征的F‑P型周期性干涉膜系；步骤七，腐蚀铝掩膜，形成第一个通道的窄带滤波像素阵列；步骤八，重复步骤二到七，依次完成第二、第三和第四通道的像素...

【技术特征摘要】
1.一种多通道窄带滤波像素阵列的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：步骤一，在衬底上采用紫外光刻和电子束蒸发镀膜工艺，制作套刻标记和周期性滤波像素单元之间的金属遮光栅格；步骤二，在衬底表面通过紫外光刻和电子束蒸发镀膜制作一层金属铝导电薄膜作为电镀的起始衬底；步骤三，通过紫外光刻形成光刻胶掩膜；步骤四，将制作了光刻胶图形的基片放入电镀液池中电镀；步骤五，去除光刻胶掩膜，并腐蚀衬底表面的金属铝导电薄膜，形成铝掩膜；步骤六，采用离子溅射镀膜的方法，制备特定光学特征的F-P型周期性干涉膜系；步骤七，腐蚀铝掩膜，形成第一个通道的窄带滤波像素阵列；步骤八，重复步骤二到七，依次完成第二、第三和第四通道的像素阵列的制备；步骤九，将上述制...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐文江，
申请(专利权)人：湖南宏动光电有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43