一种真空回转煅烧窑制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，包括柱形卧式真空窑体，所述真空窑体的两端转动连接有与其连通的动筒，所述动筒套接有静筒，所述静筒与所述动筒的套接处设有端面密封结构，所述底架的支撑平台上设有支撑所述静筒的滚动组件，所述端面密封结构包括静环与动环，所述静环与所述动环分别套设在所述静筒与所述动筒的端部上；两个耐磨环，两个所述耐磨环结构相同、相对设置且夹持于所述静环与所述动环之间。本实用新型专利技术的真空回转煅烧窑通过两个耐磨环的相互挤压，使得动筒与静筒连接处的端面密封效果较好，能够使真空回转煅烧窑满足连续运转的需求。 1

【技术实现步骤摘要】
一种真空回转煅烧窑
本技术涉及真空设备
，尤其涉及一种真空回转煅烧窑。
技术介绍
国内外对于真空设备的研究已经有了一定的基础，相关真空设备早已取得普遍的应用，比如研究实验用的小型真空窑、间断生产的较大型真空窑。实验室用小型真空窑具备体积小、真空度高的特点，一般都能满足多种气氛焙烧的要求。但是其处理量小，只能满足实验需求；并且使用后需要较长的等待时间，实验周期长。间断生产的较大型真空窑产量上较实验型有所提高，但幅度不大，不能满足工业化生产的需求。另外其间断生产的特性不利于生产的连续性，产品质量也不稳定。但是其对真空度要求极高的物料生产是具有一定优势的。设备大型化是工业化的必然之路，真空设备也必然会走大型化道路。随着工业的进步，工业产品出现种类多样化、功能单一化的趋势。越来越多新材料的出现，催生了大量繁复严苛的加工技术；特别是在干燥、煅烧(焙烧)领域，传统的设备已经难以满足新兴行业的生产需要。研制一种全新的生产设备是诸多行业实现大规模工业化的必要前提。使真空设备实现大型化，其主要的技术难题是密封问题。两个物体的接触一般分为点接触、线接触、面接触，其中尤以面接触最难实现，因为不可能做到两个面的完全平整，也就不可能做到完全贴合。同理，真空设备的密封就是整个设备的核心难点。该难点不仅仅是两个面的密封，还有动、静面之间的密封。动面是跟随窑体一起转动的，静面是其他设备与窑体的连接处。由于窑体腔内是真空的，动静面之间的压力很大，两者之间的摩擦力也会很大，动静面材料的寿命问题就是一大难点。寿命短的材料会极大地影响生产，如果是价值较高的产品，每次的更换动静接触密封材料就是一笔极大的损失，不能连续生产，影响了生产。自然界中的物质大多遵循热胀冷缩的法则，窑体受热后是会膨胀的，但是由于真空的关系，两端会有很大的力压迫窑体。要保证窑体的安全又是设计的一难点。有鉴于上述的缺陷，本设计人，积极加以研究创新，以期创设一种端面密封效果较好的真空回转煅烧窑，以解决上述技术难点。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种端面处密封效果好的真空回转煅烧窑，能够使真空回转煅烧窑满足连续运转的需求。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，包括柱形卧式真空窑体，所述真空窑体的两端转动连接有与其连通的动筒，所述动筒套接有静筒，所述静筒与所述动筒的套接处设有端面密封结构，所述底架的支撑平台上设有支撑所述静筒的滚动组件，其中，所述端面密封结构包括：-静环与动环，所述静环与所述动环分别套设在所述静筒与所述动筒的端部上；-两个耐磨环，两个所述耐磨环结构相同、相对设置且夹持于所述静环与所述动环之间。进一步的，所述静筒与所述动筒的端部上均周向均匀设有多个抵持相应的所述静环与所述动环的筋板。进一步的，所述耐磨环的两端分别为第一环部和第二环部，且所述第一环部与所述第二环部构成阶梯轴套结构；所述静环及所述动环的两端分别为第一支撑环和第二支撑环，且所述第一支撑环与所述第二支撑环构成阶梯轴套结构，所述第一支撑环与所述第二支撑环之间的台阶支撑所述第一环部和所述第二环部中直径较大的一个。进一步的，所述第一环部和所述第二环部中直径较大的一个的直径小于所述第一支撑环和所述第二支撑环中直径较大的一个的直径，且所述第一环部与所述第二环部之间的台阶上设有抵压所述耐磨环的法兰，所述法兰通过螺栓锁紧在所述第一支撑环和所述第二支撑环中直径较大的一个上。进一步的，所述静环上连接有遮盖所述静环、两个所述耐磨环及所述动环的防护板。进一步的，其中一个所述静筒为进料筒、另一个所述静筒为出料筒。进一步的，所述滚动组件包括与所述静筒连接的支架、与所述支架连接的支座、与所述支座底部连接的多个滑轮，所述支撑平台上设有与各所述滑轮配合的滑轨。进一步的，所述底架上设有支撑各所述动筒的托轮，各所述动筒上均套设有与所述托轮接触的轮带。进一步的，所述动筒上套设有滚圈，所述底架上设有与所述滚圈传动连接的电机。本技术的有益效果为：通过使其中一个耐磨环随动筒一起旋转、另一个耐磨环静止，两个耐磨环相互摩擦，当真空窑体受热后，由于热胀冷缩，真空窑体向两端拉伸，静止的耐磨环受到旋转的耐磨环的推力；当真空窑体内为负压时，在大气压作用下，旋转的耐磨环受到静止的耐磨环的推力，如此，两个耐磨环之间可相互挤压，达到端面密封效果，从而确保了真空回转煅烧窑可以连续运转。附图说明图1是本技术具体实施方式提供的真空回转煅烧窑的结构示意图；图2是本技术具体实施方式提供的真空回转煅烧窑中的端面密封结构的结构示意图。图中：100-真空窑体，200-动筒，201-托轮，202-轮带，203-滚圈，204-电机，300-静筒，301-卸料口，400-端面密封结构，401-静环，402-动环，403-耐磨环，404-筋板，409-法兰，410-螺栓，411-防护板，501-支架，502-支座，503-滑轮，600-底架，601-槽钢，602-支撑平台。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。如图1至2所示，本技术的真空回转煅烧窑，设置于底架600上，包括柱形卧式真空窑体100，真空窑体100的两端转动连接有与其连通的动筒200，动筒200套接有静筒300，静筒300与动筒200的套接处设有端面密封结构400，底架600的支撑平台602上设有支撑静筒300的滚动组件。其中，端面密封结构400包括分别套设在静筒300与动筒200的端部上的静环401与动环402、两个结构相同并相对设置且夹持于静环401与动环402之间的耐磨环403。为了防止动环402和静环401之间的挤压力过大而发生损坏，本技术在静筒300与动筒200的端部均周向均匀设置多个筋板404，各筋板404分别抵持相应的静环401与动环402。两个静筒300中，其中一个静筒300作为进料筒，另外一个作为出料筒，并在作为进料筒的静筒300上设置进料口(未图示)、作为出料筒的静筒300上设置卸料口301。另外，真空窑体100为电加热式，本技术的真空回转煅烧窑可应用于分子筛焙烧、惰性/还原气氛焙烧、有毒物质无害化处理等领域。本技术通过使其中一个耐磨环403随动筒200一起旋转、另一个耐磨环403静止，两个耐磨环403相互摩擦，当真空窑体100受热后，由于热胀冷缩，真空窑体100向两端拉伸，静止的耐磨环403受到旋转的耐磨环403的推力；当真空窑体100内为负压时，在大气压作用下，旋转的耐磨环403受到静止的耐磨环403的推力，如此，两个耐磨环403之间可相互挤压，达到端面密封效果，从而确保了真空回转煅烧窑可以连续运转；另外，利用支撑静筒300的滚动组件，当静止的耐磨环403受到旋转的耐磨环403的推力时，该推力可传递给滚动组件，从而使静筒300向外侧移动，以使两个耐磨环403之间在相互挤压时能相互摩擦，当真空窑体100内为负压时，大气压对静筒施加作用力，该作用力传递给滚动组件，从而使静筒300向内侧移动，使两个耐磨环403之间可相互挤压。即，滚轮组件能够支撑静筒300沿其轴向移动。为使静环401与动环402可稳稳地夹持两个耐磨环403，本技术的耐磨环的两端分别为第一环部和第二环部，且第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，其特征在于，包括柱形卧式真空窑体，所述真

【技术特征摘要】
1.一种真空回转煅烧窑，设置于底架上，其特征在于，包括柱形卧式真空窑体，所述真空窑体的两端转动连接有与其连通的动筒，所述动筒套接有静筒，所述静筒与所述动筒的套接处设有端面密封结构，所述底架的支撑平台上设有支撑所述静筒的滚动组件，其中，所述端面密封结构包括：-静环与动环，所述静环与所述动环分别套设在所述静筒与所述动筒的端部上；-两个耐磨环，两个所述耐磨环结构相同、相对设置且夹持于所述静环与所述动环之间。2.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述静筒与所述动筒的端部上均周向均匀设有多个抵持相应的所述静环与所述动环的筋板。3.根据权利要求1所述的真空回转煅烧窑，其特征在于，所述耐磨环的两端分别为第一环部和第二环部，且所述第一环部与所述第二环部构成阶梯轴套结构；所述静环及所述动环的两端分别为第一支撑环和第二支撑环，且所述第一支撑环与所述第二支撑环构成阶梯轴套结构，所述第一支撑环与所述第二支撑环之间的台阶支撑所述第一环部和所述第二环部中直径较大的一个。4.根据权利要求3所述的真空回转煅烧...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵建兵，王俐健，马大钧，凌金华，刘文杰，
申请(专利权)人：苏州中材非金属矿工业设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32