合成纳米有序阵列模板的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及制备纳米有序阵列模板的装置，其结构是：在电解槽的侧面开一个有外螺纹的接口，将阳极设计成可与接口紧密结合，这样使要腐蚀的金属片的一个平面完全与电解液浸润，从而避免了阳极经长时间腐蚀易断裂的缺陷。本实用新型专利技术构思巧妙，结构简单，使电解反应进行得安全，可靠，有效。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种合成纳米有序阵列模板的装置，是由电解槽、阳极、阴极组成的，其特征在于，在电解槽的一侧边开有一个有外螺纹的园形接口，接口的外螺纹上是与其紧密配合的阳极；在电解槽内阴极和侧边的阳极上都有电线接至电源。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：程国胜，李磊，雷勇，朱勇，费广涛，牟季美，张立德，
申请(专利权)人：中国科学院固体物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：34[中国|安徽]