反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置。在物面以及像面作为远心光路的反射折射光学系统包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的屈光力的折射面，该折射面配置于所述物面与所述第1反射面之间，从所述物面出来的光依次经由所述折射面、所述第1反射面、所述折射面、所述第2反射面、所述折射面、所述第3反射面、所述第4反射面到达所述像面。

【技术实现步骤摘要】
反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置
本专利技术涉及反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。
技术介绍
曝光装置是在用于制造半导体装置、显示装置等物品的平板印刷工序中经由投影光学系统将原版的图案转印到感光性的基板(表面形成有光致抗蚀剂层的基板)的装置。例如，作为用于制造显示装置的曝光装置要求能够以高分辨率将图案转印到更大面积的基板的性能。为了应对这样的要求，能够得到高分辨率且能够曝光大画面的扫描曝光装置是有用的。扫描曝光装置一边扫描原版和基板，一边用被整形成圆弧形状的光对基板进行曝光。此时，以被整形成圆弧形状的光对原版进行照明，利用被整形成圆弧形状的光将原版的图案投影到基板。在专利文献1中记载有用被整形成圆弧形状的光对原版进行照明的照明光学系统。然而，为了按照所期望的形状以均匀的能量对物体进行照明，需要使设置于照明光学系统的视场光阑的开口部成像于物体的成像光学系统。一般而言，这样的成像光学系统被称为掩蔽成像系统。在对大画面进行照明的情况下，为了尽可能减小视场光阑周边的光学元件的大小，掩模成像系统最好由反射镜系统构成，具有放大倍率。在专利文献2中记载有良好地抑制像差的成像光学系统。如专利文献2所记载的成像光学系统被称为奥夫纳(offner)光学系统，用3张曲率镜使光弯曲来成像。奥夫纳光学系统是1次成像的相等倍率系统，但如专利文献3所记载那样，能够根据3张曲率镜的位置使得具有放大倍率。另外，如专利文献4所记载那样，还有利用多次成像来校正像差的光学系统。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特公平04-078002号公报专利文献2：日本特开2010-20017号公报专利文献3：日本特开平07-146442号公报专利文献4：日本特开昭61-203419号公报
技术实现思路
但是，如专利文献2、3所记载的成像光学系统由于光学系统的反焦聚长，所以例如在搭载于曝光装置的情况下，会使曝光装置变大型化。另外，专利文献4所记载的光学系统由于多次成像，所以全长变长，导致装置的大型化。本专利技术的目的在于提供小型并且具有对像差的降低有利的结构的反射折射光学系统以及包括该反射折射光学系统的装置。本专利技术的第1方面涉及在物面以及像面作为远心光路的反射折射光学系统，该反射折射光学系统包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的屈光力的折射面，该折射面被配置于所述物面与所述第1反射面之间，从所述物面出来的光依次经由所述折射面、所述第1反射面、所述折射面、所述第2反射面、所述折射面、所述第3反射面、所述第4反射面到达所述像面。本专利技术的第2方面涉及照明光学系统，所述照明光学系统具有所述第1方面所涉及的反射折射光学系统。本专利技术的第3方面涉及曝光装置，所述曝光装置具有所述第1方面所涉及的反射折射光学系统。本专利技术的第4方面涉及物品制造方法，所述物品制造方法包括：利用所述第3方面所涉及的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及使所述基板显影的工序，从所述基板制造物品。根据本专利技术，提供小型并且具有对像差的降低有利的结构的反射折射光学系统以及包括该反射折射光学系统的装置。附图说明图1是示出本专利技术的1个实施方式的照明光学系统的结构的图。图2是示出蝇眼光学系统的概略结构的图。图3是示出视场光阑的概略结构的图。图4A是示出设计例1的反射折射光学系统的结构的图。图4B是设计例1的反射折射光学系统的展开图。图4C是示出设计例1的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图4D是示出被整形成圆弧形状的照明光的图。图5A是示出设计例2的反射折射光学系统的结构的图。图5B是设计例2的反射折射光学系统的展开图。图5C是示出设计例2的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图6A是示出设计例3的反射折射光学系统的结构的图。图6B是设计例3的反射折射光学系统的展开图。图6C是示出设计例3的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图7A是示出设计例4的反射折射光学系统的结构的图。图7B是设计例4的反射折射光学系统的展开图。图7C是示出设计例4的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图8A是示出设计例5的反射折射光学系统的结构的图。图8B是设计例5的反射折射光学系统的展开图。图8C是示出设计例5的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图9A是示出设计例6的反射折射光学系统的结构的图。图9B是设计例6的反射折射光学系统的展开图。图9C是示出设计例6的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图10是示出本专利技术的1个实施方式的曝光装置的结构的图。图11是说明照度测量的图。图12A、12B是说明照度不均校正的图。图13A是示出设计例7的反射折射光学系统的结构的图。图13B是设计例7的反射折射光学系统的展开图。图13C是示出设计例7的反射折射光学系统的匹兹阀和的分担程度的图。图14A是表示光束的有效区域的图。图14B是表示安装光学膜设计例1或者2的区域的图。图14C是表示安装光学膜设计例3和4的区域的图。图15A是表示光学膜设计例1的光学特性的图。图15B是表示光学膜设计例2的光学特性的图。图15C是表示光学膜设计例3的光学特性的图。图15D是表示光学膜设计例4的光学特性的图。附图标记说明160：反射折射光学系统；OBJ：物面；IMG：像面；L1、L2：透镜；M1～M4：反射镜。具体实施方式以下，参照附图，对本专利技术通过其例示性的实施方式来进行说明。参照图1、图2以及图3，说明本专利技术的1个实施方式的反射折射光学系统的结构。反射折射光学系统例如能够嵌入到曝光装置的照明光学系统100。在图1中示出了照明光学系统100的结构例。照明光学系统100能够包括光源部120、波长滤波器104、第1光学系统105、偏转反射镜107、第2光学系统140、蝇眼光学系统109、开口光阑110、第3光学系统150、视场光阑111、第4光学系统160。照明光学系统100构成为对处于被照明面的原版M进行照明。光源部120能够包括光源101和椭圆反射镜102。光源101例如能够为高压水银灯、氙灯或者准分子激光器。椭圆反射镜102为用于对从光源101出来的光进行聚光的聚光光学系统，形成使用了椭圆形状的一部分的形状。光源101能够配置于椭圆反射镜102的两个焦点中的一方(第1焦点)。从光源101出来并由椭圆反射镜102反射后的光聚光到配置于椭圆反射镜102的另一方的焦点(第2焦点)附近的波长滤波器104。波长滤波器104变更光的光谱分布。通过波长滤波器104的光被第1光学系统105引导到偏转反射镜107，由偏转反射镜107反射。在图1所示的例子中，设置有两个光源部120，但光源部120既可以是1个，也可以是3个以上。第1光学系统105构成为面108相对于从椭圆反射镜102的第2焦点出来的光实质成为傅里叶变换的位置。来自傅里叶变换面108的光被第2光学系统140引导到蝇眼光学系统109。第2光学系统140构成为蝇眼光学系统109的入射面相对于面108实质成为傅里叶变换位置。在图2中，示出了蝇眼光学系统109。如图2所示，蝇眼光学系统109能够包括两个透镜群131、132。各透镜群能够在平面上排列多个平凸透镜而构成。在构成透镜群131的平凸透镜的焦点位置配置有构成透镜群1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射折射光学系统，是在物面以及像面作为远心光路的反射折射光学系统，所述反射折射光学系统的特征在于，包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的屈光力的折射面，该折射面被配置于所述物面与所述第1反射面之间，从所述物面出来的光依次经由所述折射面、所述第1反射面、所述折射面、所述第2反射面、所述折射面、所述第3反射面、所述第4反射面到达所述像面。

【技术特征摘要】
2016.12.05 JP 2016-236244;2017.04.28 JP 2017-090231.一种反射折射光学系统，是在物面以及像面作为远心光路的反射折射光学系统，所述反射折射光学系统的特征在于，包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的屈光力的折射面，该折射面被配置于所述物面与所述第1反射面之间，从所述物面出来的光依次经由所述折射面、所述第1反射面、所述折射面、所述第2反射面、所述折射面、所述第3反射面、所述第4反射面到达所述像面。2.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，所述折射面由1个透镜构成。3.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，所述折射面由至少两个透镜构成。4.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，在所述物面与所述第1反射面之间配置有包括所述折射面的两个折射面。5.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，在所述物面与所述像面之间不具有成像面。6.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，具有所述正的屈光力的折射面具有非球面形状。7.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，所述第1反射面、所述第2反射面、所述第3反射面以及所述第4反射面中的至少1个反射面具有非球面形状。8.根据权利要求1所述的反射折射光学系统，其特征在于，具有所述正的屈光力的折射面在将3次匹兹阀项设为P(L1)、将所述反射折射光学系统的整体的3次匹兹阀和设为P(sum)时，满...

【专利技术属性】
技术研发人员：大阪昇，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP