基板架回传装置及基板架回传方法制造方法及图纸

技术编号:18191071 阅读:46 留言:0更新日期:2018-06-13 01:08
本发明专利技术公开了一种基板架回传装置及基板架回传方法,基板架回传装置包括基板架传送装置和基板架升降装置,所述基板架传送装置设置在镀膜设备的底部,所述基板架传送装置的两端分别设有一个所述基板架升降装置,当所述基板架升降装置升起后与所述镀膜设备上的传送带连接。基板架回传方法包括基板架上升、基板架传送、基板架下降和基板架回传四个步骤。本发明专利技术能够实现基板架的回传功能,实现自动化生产,且可以有效利用现有空间,有效解决已投产镀膜设备的改造问题。

Back transmission method of base plate frame and base plate frame

The invention discloses a return transmission device of a base frame and a back propagation method of a substrate frame. A baseplate frame return device includes a baseplate frame transmission device and a baseplate frame lifting device. The baseplate frame transmission device is set at the bottom of the coating equipment. The lifting device of the substrate rack is connected with the conveyor belt on the coating device. The transmission method of the substrate rack includes four steps: the rising of the substrate rack, the transmission of the substrate frame, the lowering of the substrate rack and the backplane transmission of the substrate rack. The invention can realize the return function of the base plate, realize automatic production, and can effectively use the existing space, and effectively solve the problem of the transformation of the production coating equipment.

【技术实现步骤摘要】
基板架回传装置及基板架回传方法
本专利技术涉及一种回传装置和回传方法,具体涉及一种基板架回传装置及基板架回传方法。
技术介绍
在光伏行业里所用生产型磁控溅射沉积设备主要分为卧式磁控溅射镀膜机和立式磁控溅射镀膜机两种,其中以卧式为首,其主要优点是整体膜层均匀性好,缺点是占地空间大;针对于陶瓷靶材,在制程过程中靶材掉渣现象不可避免,玻璃膜层边缘容易出现打火现象,严重影响成膜质量,为避免打火现象的发生,需要附加基板架对玻璃边缘进行遮挡来解决,而添加基板架的同时需要加设回传系统以实现自动化控制,但因厂区空间有限,无法外设基板架回传系统和能否实现自动化成了难题。为解决上述问题,现有的处理方法是,在卧式磁控溅射镀膜机的进口端和出口端设置缓存室,其主要的回传系统在卧式磁控溅射镀膜机的侧面,由于这种设计占地面积非常大,因此需要提前预留空间,对于已投产设备无法实现。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种基板架回传装置,以解决现有技术中的技术问题,它能够实现基板架的回传功能,实现自动化生产,且可以有效利用现有镀膜机的底部空间,减少占地面积,有效解决已投产镀膜设备的改造问题。本专利技术的另一目的是提供一种基板架回传方法,通过该方法实现基板架的自动回传,实现自动化生产。本专利技术提供了一种基板架回传装置,包括基板架传送装置和基板架升降装置,所述基板架传送装置设置在镀膜设备的底部,所述基板架传送装置的两端分别设有一个所述基板架升降装置,当所述基板架升降装置升起后与所述镀膜设备上的传送带连接。一种可选的实施方式中,所述基板架传送装置为皮带机。一种可选的实施方式中,所述基板架传送装置包括第一回传主体和支撑腿,所述支撑腿固定设置在所述第一回传主体的底部;所述基板架升降装置包括第二回传主体和升降装置,所述升降装置设置在所述第二回传主体的底部。一种可选的实施方式中,所述第一回传主体与所述第二回传主体的结构相同,均包括架体、传送轮、转轴和驱动电机,所述架体的两侧设有安装槽,两个所述安装槽内均设有所述传送轮,其中一个所述安装槽内的所述传送轮通过所述转轴与另一个所述安装槽内的所述传送轮连接,任意相邻两根所述转轴通过皮带连接,所述驱动电机固定安装在所述架体上,其输出轴与其中一根所述转轴连接。一种可选的实施方式中,所述传送轮为槽轮,基板架的底部设有两根平形布置的导杆,两根所述导杆分别与两个所述安装槽内的所述槽轮配合。一种可选的实施方式中,所述升降装置为液压缸或气缸或电动推拉杆。一种应用于前述基板架回传装置的基板架回传方法,包括以下步骤:步骤1,基板架上升,位于镀膜设备进口端的基板架升降装置将基板架举升,并传送至传送带上;步骤2,基板架传送,所述传送带将所述基板架从所述镀膜设备的进口端传送至出口端,并将所述基板架传送至位于所述镀膜设备出口端的基板架升降装置上;在所述基板架被传送的过程中,所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置下降至预设位置;步骤3,基板架下降,位于所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置带着所述基板架下降,并将所述基板架传送至基板架传送装置上;步骤4,基板架回传,所述基板架传送装置将所述基板架从所述镀膜设备的底部回传至位于所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置上,完成一个工作循环;在所述基板架回传的过程中,所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置上升至预设位置。一种可选的实施方式中,在所述步骤2中,所述镀膜设备进口端的所述基板架升降装置的预设位置为与所述基板架传送装置平齐的位置。一种可选的实施方式中,在所述步骤4中,所述镀膜设备出口端的所述基板架升降装置的预设位置为与所述传送带平齐的位置。与现有技术相比,本专利技术提供了一种基板架回传装置,包括基板架传送装置和基板架升降装置,基板架传送装置设置在镀膜设备的底部,基板架传送装置的两端分别设有一个基板架升降装置,当基板架升降装置升起后与镀膜设备上的传送带连接。将基板架传送装置设置在镀膜设备的底部可以有效利用镀膜机底部的空间,无需单独占用空间,适用于已投产的镀膜设备。无论是对已投产镀膜设备的改造还是新设置的镀膜设备,均具有占地空间小的优点,而且通过基板架升降装置的设置,可以实现基板架的自动回传,无需设置基板架存储匣,基板架可以被重复使用,无需人工操作,提高了自动化程度。本专利技术还提供了一种使用上述基板架回传装置实现基板架回传的方法,通过该回传方法实现了基板架的自动回传,使全自动镀膜得以实现。附图说明图1是基板架回传装置的整体结构轴测图;图2是基板架传送装置的轴测图;图3是基板架升降装置的轴测图。附图标记说明:1-基板架传送装置,2-基板架升降装置,3-镀膜设备,4-传送带,5-张紧轮,6-支撑腿,8-升降装置,9-架体,10-传送轮,11-转轴,12-驱动电机,13-安装槽,14-皮带,15-基板架,16-导杆。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本专利技术,而不能解释为对本专利技术的限制。本专利技术的实施例:如图1和图2所示,一种基板架回传装置,包括基板架传送装置1和基板架升降装置2,基板架传送装置1设置在镀膜设备3的底部,基板架传送装置1的两端分别设有一个基板架升降装置2,当基板架升降装置2升起后与镀膜设备3上的传送带4连接。工作时,位于镀膜设备3进口端的基板架升降装置2带着基板架15上升,当基板架升降装置2上升至与传送带4平齐时停止上升,基板架升降装置2开始传送基板架15,将基板架15传送至传送带4上,然后该基板架升降装置2下降,并与基板架传送装置1对接,然后将玻璃基片放置在基板架15上,基板架15在传送带4的带动下进入镀膜设备3对玻璃基片进行镀膜,当完成镀膜后,基板架15带着玻璃基片从镀膜设备3的出口端出来,并传送至位于出口端的基板架升降装置2上,通过人工或机械设备将镀膜后的玻璃基片卸下后,基板架升降装置2带着基板架15下降,当与基板架传送装置1对接后,将基板架15传送至基板架传送装置1上,然后该基板架升降装置2上升,等待接取下一个基板架15,基板架传送装置1将基板架15传送至位于镀膜设备3进口端的基板架升降装置2上,此时完成一个工作循环。该装置完美解决了基板架的回传工作,由于占地面积较大的基板架传送装置1设置在镀膜设备3的下方,充分利用了现有空间,解决了已投产的镀膜设备的基板架回传问题,具有结构简单和占地面积小的优点,实现了基板架的自动回传,无需设置基板架存储匣,基板架可以被重复使用,无需人工操作,提高了自动化程度。需要说明的是,基板架传送装置1可以采用多种结构形式,例如采用皮带机或传送带或其它具备转运功能的设备。下面本实施例提供一种优选方案,如图2和图3所示,基板架传送装置1与基板架升降装置2结构大体相同,其中基板架传送装置1包括第一回传主体和支撑腿6,支撑腿6固定设置在第一回传主体的底部;可选的,支撑腿6为可折叠的支撑腿,基板架升降装置2包括第二回传主体和升降装置8,升降装置8设置在第二回传主体的底部,升降装置8既可采用液压缸也可采用气缸或电动推拉杆,本实施例优选采用液压缸;第一回传主体与第二回传主体的结构相同,均包括架体9、传送轮10、转轴本文档来自技高网...
基板架回传装置及基板架回传方法

【技术保护点】
一种基板架回传装置,其特征在于:包括基板架传送装置(1)和基板架升降装置(2),所述基板架传送装置(1)设置在镀膜设备(3)的底部,所述基板架传送装置(1)的两端分别设有一个所述基板架升降装置(2),当所述基板架升降装置(2)升起后与所述镀膜设备(3)上的传送带(4)连接。

【技术特征摘要】
1.一种基板架回传装置,其特征在于:包括基板架传送装置(1)和基板架升降装置(2),所述基板架传送装置(1)设置在镀膜设备(3)的底部,所述基板架传送装置(1)的两端分别设有一个所述基板架升降装置(2),当所述基板架升降装置(2)升起后与所述镀膜设备(3)上的传送带(4)连接。2.根据权利要求1所述的基板架回传装置,其特征在于:所述基板架传送装置(1)为皮带机。3.根据权利要求1所述的基板架回传装置,其特征在于:所述基板架传送装置(1)包括第一回传主体和支撑腿(6),所述支撑腿(6)固定设置在所述第一回传主体的底部;所述基板架升降装置(2)包括第二回传主体和升降装置(8),所述升降装置(8)设置在所述第二回传主体的底部。4.根据权利要求3所述的基板架回传装置,其特征在于:所述第一回传主体与所述第二回传主体的结构相同,均包括架体(9)、传送轮(10)、转轴(11)和驱动电机(12),所述架体(9)的两侧设有安装槽(13),两个所述安装槽(13)内均设有所述传送轮(10),其中一个所述安装槽(13)内的所述传送轮(10)通过所述转轴(11)与另一个所述安装槽(13)内的所述传送轮(10)连接,任意相邻两根所述转轴(11)通过皮带(14)连接,所述驱动电机(12)固定安装在所述架体(9)上,其输出轴与其中一根所述转轴(11)连接。5.根据权利要求4所述的基板架回传装置,其特征在于:所述传送轮(10)为槽轮,基板架(15)的底部设有两根平形布置的导杆(16),两根所述导杆(16)分别与两个所述安装槽(13)内的所述槽轮配合。6....

【专利技术属性】
技术研发人员:施栓林
申请(专利权)人:北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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