本发明专利技术提供一种门盖装置，包括：门盖，连杆，位于所述连杆一端的铰链，与所述连杆连接并驱动连杆绕所述铰链转动的驱动部件，还包括：转动机构，所述连杆的另一端通过所述转动机构与所述门盖转动连接。相应的，本发明专利技术还提供了一种真空设备，包括：真空腔室，以及上述的门盖装置。所述的门盖装置通过铰链和转动机构能够实现门盖两级打开或闭合，即门盖打开过程分为两个阶段，第一阶段连杆绕铰链转动，门盖相对于连杆静止，随连杆打开一定角度，第二阶段门盖绕转动机构相对于连杆转动，打开的角度进一步扩大。整体来看，所述门盖装置能够在不增加驱动部件的行程的前提下，能够获得较大的门盖开启角度，便于对真空腔室以及门盖内部的维护和清理。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空设备
，特别涉及一种门盖装置和具有该门盖装 置的真空设备。
技术介绍
目前，广泛应用的等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD )等半导体芯片制造的相关设备，以及生物医药制 品的真空冷冻干燥机、生物试验抢和小型真空镀膜设备中， 一般都具有一个 真空腔室，以获得设备工作时所需的真空环境。典型的PECVD真空设备包括真空腔室、真空腔室的上盖(也即位于真 空腔室上方的门盖)、真空腔室与上盖间的密封圈、连接在上盖和真空腔室之 间的铰链。通常，由于在真空腔室中进行的工艺过程会对真空腔室造成一定 的污染，对于真空设备而言，真空腔室的密封性能直接影响工艺的结果及准 确性，因此，为保证真空腔室中的真空质量，需要定期打开上盖对真空腔室 进行维护与清理。为了提高的产量，最大化真空设备的使用率，采用易于维 护、使用方便且具有自动开闭功能的上盖机构就变得至关重要。图1为PECVD设备的上盖机构的示意图。该上盖机构位于真空腔室1的 上方，其包括密封法兰(图中未示出)、上盖2、 4交链4、连杆3、上盖驱动 部件5。其中上盖2关闭时将真空腔室1封闭，上盖驱动部件5可以为气缸等 驱动部件，上盖2与铰链4间通过连杆3连接，在上盖驱动部件5的驱动作 用下，通过连杆3带动上盖2绕铰链4的逆时针旋转，真空腔室的上盖2即 被打开，如图1中虚线所示，为上盖2被打开时的状态。通常，在上盖打开后，需对真空腔室的内部进行维护，特别是对固定在 上盖内的气体分配装置或进气喷头(Showerhead)进行拆卸或清洗，这时， 上盖的开启角度就决定了真空腔室的可维护性及拆卸的方便性。然而，由于驱动部件的限制，例如气缸的行程限制，真空腔室的上盖的开启角度仅为约30度至50度(见图1中虚线所示)，使工作人员活动位置受 限，维护上盖的操作不方便。而通过增加气缸的行程，虽然可以达到增加上 盖开启角度的目的，但是同时会带来如下的问题 一方面，由于气缸行程增 大，开盖铰链的旋转角度的也随之增大，会使得上盖开启后的位置增高，这 样也不利于上盖的维护；另一方面，气缸的行程增大也会增加整个真空设备 占用的空间。不仅限于真空腔室上盖的情况，同样，对于真空腔室的其他侧开或下开
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种门盖装置，所述门盖装置能够不增加驱动 部件的行程而获得较大的门盖开启角度，便于对真空腔室的维护和清理。本专利技术解决的另 一问题是提供一种具有所述门盖装置的真空设备，具有 较大的门盖开启角度，便于工作人员对真空腔室的维护和清理。为解决上述问题，本专利技术提供一种门盖装置，包括门盖，连杆，位于所述连杆一端的铰链，与所述连杆连接并驱动连杆绕所述铰链转动的驱动部件，还包括转动^L构，所述连杆的另一端通过所述转动^/L构与所述门盖转 动连接。所述转动机构的转动轴与铰链轴的方向平行，所述门盖相对于连杆绕所 述转动轴转动。所述转动才几构为双向式间lt运动才几构。所述双向式间歇运动机构为棘轮才几构，所述棘轮机构包括棘轮和棘爪， 所述棘爪与所述门盖连接，所述棘轮与所述连杆连接。所述双向式间歇运动机构为槽4仑机构、不完全齿4仑才几构或凸轮间歇运动机构。所述转动机构的转动轴与铰链轴的方向垂直，所述门盖相对于连杆绕所 述转动轴转动。所述门盖的背向所述连杆的 一面具有气体分配装置或溅射靶。相应的，本专利技术还提供了一种真空设备，包括真空腔室，以及上述的 门盖装置，所述门盖装置的门盖相对于真空腔室打开或闭合。所述门盖相对于真空腔室为上开、侧开或下开。 上述技术方案具有以下优点所述的门盖装置，通过铰链和转动机构能够实现门盖两级打开或闭合， 即门盖打开过程分为两个阶段，第一阶段连杆绕铰链转动，门盖相对于连杆 静止，随连杆打开一定角度，第二阶段门盖绕转动机构相对于连杆转动，打 开的角度进一步扩大。整体来看，所述门盖装置能够增大门盖相对于真空腔室的打开角度，可 以将打开角度由30度至50度提高到约80度，在不增加驱动部件的行程的前 提下，能够获得较大的门盖开启角度，便于对真空腔室以及门盖内部的维护 和清理。另外，所述转动机构为双向式间歇运动机构，因此，门盖打开的角度可 以调整，能够提高门盖开闭的安全性和便利性。所述的真空设备，具有上述技术方案提供的门盖装置，因此具有较大的 门盖开启角度，便于工作人员对真空腔室的维护和清理。附图说明通过附图所示，本专利技术的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在 全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩 放绘制附图，重点在于示出本专利技术的主旨。图1为一种PECVD设备的上盖机构的示意图2和图3为本专利技术实施例一中真空设备门盖打开过程的示意图4为本专利技术实施例一中转动机构的示意图5为本专利技术实施例二中真空设备门盖打开过程的示意图。具体实施例方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图 对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是本发 明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，因此本专利技术不受下面 公开的具体实施例的限制。其次，本专利技术结合示意图进行详细描述，在详述本专利技术实施例时，为便 于说明，表示装置结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意 图只是示例，其在此不应限制本专利技术保护的范围。此外，在实际制作中应包 含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。目前广泛应用的真空设备中，例如半导体芯片制造设备，真空冷冻干燥 机、生物试验艙和小型真空镀膜设备，其真空腔室的门盖往往受到驱动机构 或周围空间的限制，而导致打开的角度偏小，使得在维护和清理真空腔室或 门盖时，活动的空间受到限制，带来了很多操作的不便性。基于此，本专利技术提供了一种门盖装置，本质上，该装置是通过将门盖和 连杆的固定连接转变为转动连接，实现门盖相对于连杆的转动，从而能够增 大门盖的打开角度。具体的，所述门盖装置包括门盖，连杆，位于所述连杆一端的铰链，与所述连杆连"^妄并驱动连杆绕所述4交链转动的驱动部件，还包括转动机构，所述连杆的另一端通过所述转动机构与所述门盖转动连接。此外，本专利技术还提供了一种具有上述门盖装置的真空设备。下面以半导体制造或太阳能电池制造技术中广泛采用的PECVD设备为例，详细说明本发 明所提供的门盖装置和具有上述门盖装置的真空设备。实施例一图2和图3为本实施例中真空设备门盖打开过程的示意图，在本实施例 中该真空设备为PECVD设备。为突出本专利技术的特点，附图中没有给出与本发 明的专利技术点必然直接相关的部分，例如，抽真空装置、等离子体激发装置、 气体分配装置或溅射靶等。该PECVD设备包括真空腔室10，相对于所述真空腔室IO打开或闭合 的门盖装置，等离子体激发装置以及抽真空装置(图中未示出)等，门盖20 和真空腔室IO之间还具有密封圈(图中未示出)。图2和图2中的实线表示 门盖装置处于闭合状态，而虚线表示门盖装置处于打开状态。如图2所示，所述门盖装置包括真空腔室10上方的门盖20,连杆30, 位于连杆30 —端的4交链40,与连杆30连接并驱动连杆30绕所述4交《连40转 动的驱动部件50，与连杆30另一端连接的转动本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种门盖装置，包括： 门盖， 连杆， 位于所述连杆一端的铰链， 与所述连杆连接并驱动连杆绕所述铰链转动的驱动部件， 其特征在于，还包括：转动机构，所述连杆的另一端通过所述转动机构与所述门盖转动连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏民，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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