本实用新型专利技术用于气相沉积的自动化真空镀膜装置属机电自动化真空镀膜装置。它由装有转动臂，高频插座，上电极支架与上电极，放气孔，工作气导管的上盖，表面装有热电偶，加热电源插座，抽气孔，真空规，内部固定下电极支架，并依序装有远红外平板加热器，下电极，绝缘层与导热板的底壳与减速机组成。它结构简单，操作方便，占用空间少，产品质量好，性能稳定，经济效益显著，便于工业化自动化规模化生产。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于气相沉积的自动化真空镀膜装置目前国内外用于气相沉积的真空镀膜装置大多采用钟罩式上盖，为了打开真空室，必须先把钟罩向上升起，然后转向旁边，如果用于大型设备，则需复杂庞大的向上推举装置，且转向旁边后，还要占用同样大小的厂房空间。加热装置多采用单相电源，容量大时，造成电网的三相不平衡。手工操作，无法保正镀膜质量，难以实现产业化生产，故稳定性差，重复性不好。本技术的目的是提供一种能附加电脑控制，产业化生产，简化设备装置，节约用地，使产品质量优良稳定的自动化真空镀膜装置。一种用于气相沉积的自动化真空镀膜装置，其特征在于真空室安装于真空室支架上，其外壳由上盖和底壳构成，上盖与底壳周边分别有一圈上盖法兰和空心的水冷发兰，发兰之间为密封圈，上盖一侧焊有固定在减速机转动轴上的转动臂，减速机在真空室一侧固定在真空室支架上，上盖顶部有放气孔，内有上电极支架固定上电极，上电极通过导线连接上盖上的高频插座，上盖上还焊有工作气导管，底壳中心处安置抽气孔，其周围稍对称的装有真空规和电源插座，其上部固定下电极支架，下电极支架上以序分别装置远红外平板加热器，与外壳接地的下电极，绝缘层，导热板，导热板上有传感温度的热电偶，远红外平板加热器用导线连接到电源插座上。本技术的工作原理简述如下，工件置于导热板上后，盖上上盖，水冷发兰通水，循环水保证了密封圈不因真空室高温而老化，外接真空泵通过抽气孔抽气，维持真空室内的真空。圆盘形上电极通过上电极支架固定在真空室上盖上，而下电极与固定支架之间装有远红外平板加热器。气源导入管把外界气源导入真空室内。外接高频电源通过高频插座连接到上电极和下电极上，尊照等离子体化学的原理，真空室内的工作气体通过高频作用下辉光放电，在金属工件表面气相沉积陶瓷薄膜，在陶瓷渗入(扩散)金属表面的同时，金属离子也向薄膜内部渗透，通过双向扩散，形成金属陶瓷复合薄膜，为加速沉积过程，通过远红外平板加热器对工件加热，为保证加热的均匀稳定，工件放在导热板上，导热板与被加热的下电极之间由绝缘板隔开，温度传感器由热电偶组成，外接电脑自控系统，按照检测到的实际温度通过加热电源调节远红外平板加热器的加热能量，保证不同材质沉积所需温度。根据真空规检测的真空度，调节外接辅助气源，保证特定工件所需工作气的密度，外接气源的配比，决定陶瓷薄膜的成分，各参量的综合监控，保证工件所要求的镀膜效果。当加工完成后，通过接在放气孔的放气阀放气，启动减速机，真空室上盖将向上转动而升起，打开真空室，真空室打开后上盖在转动轴上方，避免了把上盖转向旁边占用厂房空间，而且节省掉了使上盖旋转前先上升所需的复杂推举装置，降低了设备成本。采用远红外平板加热系统，热效率高，并且加热均匀稳定，三相平衡接法，消除了单相不平衡的电网负担，提高电源稳定性，真空室密封圈下用水冷法兰避免老化。工件放在绝缘的导热板上，加热均匀稳定。整个镀膜全过程在电脑控制下自动化运行，加以方便的汉字操作界面，便于工业化生产。本技术的优点是结构简单，操作方便，占用空间少，产品质量高，性能稳定，经济效益显著，便于工业化自动化规模化生产。附图为自动化真空镀膜装置的示意图。其中，1-减速机，2-转动轴，3-转动臂，4-高频插座，5-上电极，6-工件，7-放气孔，8-上电极支架，9-上盖，10-工作气导管，11-上盖法兰，12-密封圈，13-水冷法兰，14-真空室支架，15-底壳，16-真空规，17-下电极支架，18-抽气孔，19-远红外平板加热器，20-加热电源插座，21-下电极，22-绝缘层，23-导热板，24-热电偶。本技术的实施是用钢板加工成圆球形上盖与底壳，并在相应位置开孔，焊接安装转动臂，高频插座，上电极支架与上电极放气孔，工作气导管与上盖部分，热电偶，加热电源插座，抽气孔，真空规于底壳表面处。在内部固定下电极支架，并在其上依序分别安装远红外平板加热器，下电极，绝缘层与导热板，导热板上安装热电偶，上盖与底壳周边分别焊上法兰，法兰之间置上密封圈，真空室与其旁的减速机同时安放在角钢焊接的真空室支架上，减速机之轴与转动轴相接。权利要求一种用于气相沉积的自动化真空镀膜装置，其特征在于真空室安装于真空室支架上，其外壳由上盖和底壳构成，法兰之间为密封圈，上盖一侧焊有固定在减速机转动轴上的转动臂，减速机在真空室一侧固定在真空室支架上，上上盖与底壳周边分别有一圈上盖法兰和空心的水冷法兰，盖顶部有放气孔，内有上电极支架固定上电极，上电极通过导线连接上盖上的高频插座，上盖上还焊有工作气导管，底壳中心处安置抽气孔，其周围稍对称的装有真空规和电源插座，其上部固定下电极支架，下电极支架上以序分别装置远红外平板加热器，与外壳接地的下电极，绝缘层，导热板，导热板上有传感温度的热电偶，远红外平板加热器用导线连接到电源插座上。专利摘要本技术用于气相沉积的自动化真空镀膜装置属机电自动化真空镀膜装置。它由装有转动臂,高频插座,上电极支架与上电极,放气孔,工作气导管的上盖,表面装有热电偶,加热电源插座,抽气孔,真空规,内部固定下电极支架,并依序装有远红外平板加热器,下电极,绝缘层与导热板的底壳与减速机组成。它结构简单,操作方便,占用空间少,产品质量好,性能稳定,经济效益显著,便于工业化自动化规模化生产。文档编号C23C16/50GK2360422SQ9822252公开日2000年1月26日 申请日期1998年10月6日 优先权日1998年10月6日专利技术者安德祥 申请人:安德祥本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于气相沉积的自动化真空镀膜装置，其特征在于真空室安装于真空室支架［１４］上，其外壳由上盖［９］和底壳［１５］构成，法兰之间为密封圈［１２］，上盖一侧焊有固定在减速机转动轴［２］上的转动臂［３］，减速机［１］在真空室一侧固定在真空室支架上，上上盖与底壳周边分别有一圈上盖法兰［１１］和空心的水冷法兰［１３］，盖顶部有放气孔［７］，内有上电极支架［８］固定上电极［５］，上电极通过导线连接上盖上的高频插座［４］，上盖上还焊有工作气导管［１０］，底壳中心处安置抽气孔［１８］，其周围稍对称的装有真空规［１６］和电源插座［２０］，其上部固定下电极支架［１７］，下电极支架上以序分别装置远红外平板加热器［１９］，与外壳接地的下电极［２１］，绝缘层［２２］，导热板［２３］，导热板上有传感温度的热电偶［２４］，远红外平板加热器用导线连接到电源插座［２０］上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：安德祥，
申请(专利权)人：安德祥，
类型：实用新型
国别省市：37[中国|山东]
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