【技术实现步骤摘要】
本技术涉及陶瓷薄膜制备装置，具体是一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是这样的即一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，包括机架、机架上部设置的真空反应室、射频电源、真空泵组、升降机构、带有质量流量计的气瓶组及与气瓶组连接的气体管路和接在气路中的电磁阀；其特征在于真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源；在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。本技术由于所述结构而具有以下的优点1、真空反应室的空间大，其内径为900mm～2500mm，加工高度为200mm～1500mm，满足小工件的大批量加工及大型工件的加工；2、设置有加热板、加热丝、温度缓冲板及温度传感器，与高精度的PID温度控制系统相配合，精确控制温度，增强...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。