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一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，包括机架、机架上部设置的真空反应室、射频电源、真空泵组、升降机构、带有质量流量计的气瓶组及与气瓶组连接的气体管路和接在气路中的电磁阀；其特征在于：真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升...
该专利属于贾文峰所有，仅供学习研究参考，未经过贾文峰授权不得商用。

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