【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种真空光学镀膜机里使用的蒸发镀制各种光学薄膜的蒸发材料的结构。蒸发镀膜材料作为光学薄膜中的低折射率材料用在真空镀膜机里蒸发各种光学薄膜。如附图说明图1所示，现有技术中的蒸发镀膜材料均为粒状石英，放置在真空光学镀膜机真空室的蒸发坩锅里，在真空室里的电子枪发出电子束照射在粒状石英玻璃上，使之发热，当温度达到石英玻璃的熔点后，石英玻璃迅速熔化蒸发，蒸发的石英微粒子(SiO2)与其它高折射率材料反复蒸发镀制，使之可形成各种光学薄膜。使用上述粒状蒸发镀膜材料有两个缺点1．由于放置在蒸发坩锅里的熔融石英颗粒堆在一起时有很多空隙，密度不够，不能适应长时间蒸发镀制多层光学薄膜。2．由于熔融石英的蒸发状况呈半升华状态，颗粒受热蒸发状态不一，使之不能很均匀地蒸发，在镀制精度很高的光学薄膜时，会影响薄膜的均匀性。本技术的目的是提供一种新结构蒸发镀膜材料，该材料的密度一致、蒸发时间长、薄膜均匀、成品率高。本技术的技术方案是一种新结构蒸发镀膜材料，该材料是圆环形状的石英玻璃环，密度均匀一致。本技术进一步的技术方案是一种新结构蒸发镀膜材料，该材料是圆环形状的石英玻璃环，密度均匀一致；所述石英玻璃环的截面为矩形。本技术的优点是1．由于熔融石英玻璃环是块状固体，密度均匀一致，蒸发时间要比颗粒状石英来得长，故而能适应长时间地镀制多层光学薄膜。2．由于熔融石英玻璃环是整体的，故而受电子束加热能较均匀地蒸发，故而在镀制高精度光学薄膜时，能得到均匀性较好的薄膜，使得成品度提高。以下结合附图和实施例对本技术作进一步的描述图1为现有技术的使用状态示意图；图2、图3为本技术的结构示意...
【技术保护点】
一种新结构蒸发镀膜材料，其特征在于：该材料是圆环形状的石英玻璃环［１］，密度均匀一致。
【技术特征摘要】
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