一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法技术

本发明专利技术提供的一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法，光学膜的第一硬化层中折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，这一技术方案有效避免了第一硬化层中折射率的断崖式差异而产生的不利于蚀刻纹可见性降低的现象，而折射率递减分布设置使其产生极佳的抗反射效果，消除了后期ITO蚀刻而产生的蚀刻纹的可见性。

【技术实现步骤摘要】
一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法
：本专利技术涉及光学膜领域，具体涉及一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法。技术背景：现有技术TWI527063B在一种导电透明层合体。将该导电透明层合体的透明导电层图案化后制得一图案化的导电透明层合体，由该图案化的导电透明层合体的图案部射出的反射光的反射色及反射率与由非图案部射出的反射光的反射色及反射率的差异小，应用至触控面板时，可使得使用者在观看时不易看到透明导电层图案化的痕迹，其通过一透明基板；一第一光学调整层，设置于该透明基板上，该第一光学调整层的折射率范围为1.65至1.83，物理厚度范围为25nm至35nm；一第二光学调整层，设置于该第一光学调整层上，该第二光学调整层的折射率范围为1.33至1.52，物理厚度范围为20nm至40nm；一透明导电层，设置于该第二光学调整层上，该技术基材层，第一光学调整层以及光学调整层都有明确的分层现象和明确的厚度，因此由于各层之间有着明显的界限，各层之间阶梯式的折射率差异过大无法避免不利于蚀刻纹消失且干涉纹出现。专利技术具体内容：本专利技术的目的一方面，提供一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法，通过折射率的合理分布产生的干涉，有效降低了后期ITO蚀刻产生的蚀刻纹的可见性，一方面，提供一种触控屏，另一方面提供一种光学膜的制备方法。为实现上述目的，本专利技术的技术方案为：一种光学膜，所述光学膜包含透明基材层、第一硬化层，所述透明基材层包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层设置在所述透明基材层的第一光学面上，其特征在于，所述第一硬化层的折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，所述递减一词含义是指硬化层中折射率可以是缓和的阶梯式递减，可以是相互渗透的缓慢递减，或者在深度方向呈现连续性变化。这一技术方案有效避免第一硬化层中折射率的断崖式差异不利于蚀刻纹的消除，而折射率递减分布设置其目的是消除后期ITO蚀刻而产生的蚀刻纹的可见性。进一步地，所述第一硬化层不存在明显分层的现象，所述不分层现象是指两个层面重叠，但实际上不存在界面；根据折射率判断为在两者的面上不存在界面；横截面(该横截面为液氮冷冻切片)在扫描电镜下观察不到界面，或者只能勉强看到不清晰的界面。所述不分层现象可以是高低折射率材料之间相互渗透而自发产生的一个理论上存在的一个过渡层，也可以是折射率缓和而连续性分布，也可以是两种折射率无规律的掺杂分布。进一步地，所述第一硬化层包含10-100nm范围的纳米粒子，所述纳米粒子的作用是用于调整硬化层的折射率。进一步地，所述纳米粒子选自：二氧化硅、氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化锑中的一种或多种。进一步地，所述第一硬化层包含硬化层M和硬化层N。进一步地，所述透明基材层的第二光学面上设置有防粘连硬化层。进一步地，所述透明基材层的第二光学面上设置有与第一光学面上镜像对称的第二硬化层。进一步地，所述第一硬化层与透明基材层的第一光学面之间存在明显的分层。进一步地，所述第一硬化层与透明基材层的第一光学面之间不存在明显的分层。进一步地，所述硬化层M的折射率范围为1.45-1.70，所述硬化层N的折射率范围为1.50-2.0。进一步地，所述硬化层M使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯组合物。进一步地，所述硬化层N使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯组合物。进一步地，所述硬化层中含有对所述透明基材层具有浸透性或溶解性的溶剂。进一步地，所述硬化层M和所述硬化层N之间含有能彼此相互融合的溶剂和树脂。进一步地，所述第一硬化层的厚度范围为10-150000nm。进一步地，所述透明基材层选自PI、COP、PET、PVC、PMMA、PC、GFUP、FEP、PVF、SI。进一步地，所溶剂选自醇、酮、醚、酯、酰胺中的一种或者多种，所述醇为甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、异丁醇、叔丁醇、乙氧基乙醇、丁氧基乙醇、苯甲醇或苯乙醇；选自酮所述的酮为乙酮、丙酮、丁酮、甲基异丁酮或环己酮；选自醚所述的醚为二丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇乙醚醋酸酯；选自酯所述的酯为乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酰乙酸甲酯或乙酰乙酸甲酯；所述的烃为甲苯或二甲苯；所述的酰胺为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或N-甲基吡啶烷酮。进一步地，所述光学膜包含透明基材层和第一硬化层，所述透明基材包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层设置在所述透明基材层的第一光学面上，其特征在于，所述第一硬化层的折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，所述第一硬化层包含硬化层M和硬化层N，所述硬化层M和所述硬化层N之间不存在明显的分层，所述硬化层M和所述硬化层之间含有相互浸透性或溶解性的溶剂或和/或树脂，所述溶剂为丙二醇甲醚、甲基异丁酮、醋酸乙酯中的一种或多种，所述树脂为聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系组合物，所述硬化层M中含有粒径为80-110nm的二氧化硅，所述硬化层N中含有粒径为5-20nm的氧化锆。一种触控屏，包含上述的光学膜。一种包含上述光学膜的制备方法，包含如下步骤：S1，硬化涂层液M通过卷对卷的涂布方式涂布到透明基材的第一光学面上，将烘箱温度分别设置在30-100℃的范围内，UV能量设置在300-600mJ/cm2，获得硬化层M；S2，硬化涂层液N通过卷对卷的涂布方式涂布到透明基材的第一光学面上，将烘箱温度分别设置在30-100℃的范围内，UV能量设置在300-600mJ/cm2，获得硬化层N。有益效果：本专利技术提供的一种光学膜，第一硬化层中折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，这一技术方案有效避免第一硬化层中折射率的断崖式差异而产生的不利于蚀刻纹可见性降低的现象，而折射率递减分布设置使其产生效果特佳的抗反射效果，其目的是消除后期ITO蚀刻后出现的蚀刻纹的可见性。附图说明：下面结合结构示意图及实施例对本专利技术进一步说明。图1示出了本专利技术的一种典型的实施例1提供的一种光学膜的SEM扫描电镜液氮切片截面图。图2示出了本专利技术的一种典型的实施例4提供的一种光学膜。图3示出了对比例1提供的一种光学膜截面的SEM扫描电镜液氮切片截面图。具体实施方式：为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术提供一种光学膜100，包含第一硬化层1和透明基材层2，所述第一硬化层1的折射率从远离所述透明基材层2的那一端向靠近所述透明基材层2的一端递减。实施例1如图1所示，一种光学膜100，包含第一硬化层1和透明基材层2，所述透明基材层2包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层1设置在第一光学面上，所述第一硬化层1的折射率从远离所述透明基材层2的那一端向靠近所述透明基材层2的一端递减。具体的所述第一硬化层1的厚度范围选自10-150000nm，优选10-40000nm。具体的所述透明基材层2选自PI、COP、PET、PVC、PMMA、PC、GFUP、FEP、PVF、SI中的一种，优选COP。具体的光学膜的制备方法：在所述透明基材层1的第一光学面上通过卷对卷的方式涂布硬化液M，进入温度分别为30-45℃，55-75℃，8本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜(100)，所述光学膜(100)包含透明基材层(2)和第一硬化层(1)，所述透明基材层(2)包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层(1)设置在所述透明基材层(2)的第一光学面上，其特征在于，所述第一硬化层(1)的折射率从远离所述透明基材层(2)的一端向靠近所述透明基材层(2)的一端递减。

【技术特征摘要】
1.一种光学膜(100)，所述光学膜(100)包含透明基材层(2)和第一硬化层(1)，所述透明基材层(2)包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层(1)设置在所述透明基材层(2)的第一光学面上，其特征在于，所述第一硬化层(1)的折射率从远离所述透明基材层(2)的一端向靠近所述透明基材层(2)的一端递减。2.根据权利要求1所述的光学膜(100)，其特征在于，所述第一硬化层(1)不存在明显分层的现象。3.根据权利要求1所述的光学膜(100)，其特征在于，所述第一硬化层(1)包含粒径为5-120nm的纳米粒子。4.根据权利要求3所述的光学膜(100)，其特征在于，所述纳米粒子选自：二氧化硅、氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化锑中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一硬化层(1)包含硬化层M和硬化层N。6.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述透明基材层(2)的第二光学面上设置有与第一光学面上镜像对称的第二硬化层。7.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一硬化层(1)与透明基材层(2)的第一光学面之间不存在明显的分层。8.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述硬化层M的折射率范围为1.45-1.70，所述硬化层N的折射率范围为1.50-2.0。9.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述硬化层M使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯组合物。10.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述硬化层N使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯系组合物。11.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一硬化层(1)中含有对所述透明基材层具有浸透性或溶解性的溶剂。12.根据权利要求5所述的光学膜，其特征在于，所述硬化层M和所述硬化层N含有能彼此相互融合的溶剂和/或树脂。13.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一硬化层(1)的厚度范围为10-150000nm。14.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述透明基材层选自PI、COP、PET、PVC、PM...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐金龙，尹晓峰，陈庆松，
申请(专利权)人：张家港康得新光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32