使用噪声消除器的沉积系统及其控制方法技术方案

沉积系统及其控制方法利用噪声消除器消除在测量沉积率的过程中产生的噪声的影响，以精确地控制沉积率，并获得理想厚度的薄膜。沉积系统包括沉积设备。沉积率传感器测量沉积设备的沉积率。噪声消除器消除所测量的沉积率的噪声成分。能量供给单元根据噪声消除器的输出调整提供给沉积设备的能量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及沉积系统及其控制方法，更具体地说，涉及利用噪声消除器消除在测量沉积率的过程中产生的噪声的影响以精确地控制沉积率的沉积系统，以及控制该沉积系统的方法。
技术介绍
沉积系统包括沉积设备、沉积率传感器和能量供给单元。沉积设备包括蒸发器和喷射器。沉积率传感器测量沉积设备的沉积率。能量供给单元根据沉积率传感器测量的沉积设备的沉积率调整供给沉积设备的能量。利用频率与重量成反比的水晶测量沉积率的水晶传感器用作沉积率传感器。由沉积率传感器测量的沉积率包括由于电波造成的噪声、由于输电线造成的噪声、由于冷却水流量的波动造成的噪声和由于沉积源移动造成的噪声。因此，当由沉积率传感器测量的沉积率提供给能量供给单元时，沉积率由于噪声而改变。这导致形成的薄膜的厚度不理想。
技术实现思路
因此，在本专利技术的一个方面提供一种沉积系统和控制该沉积系统的方法，沉积系统利用噪声消除器消除在测量沉积率的过程中产生的噪声影响，以精确地控制沉积率，并且因此获得理想厚度的薄膜。通过提供一种沉积系统可以获得上述和/或本专利技术的其它方面，该沉积系统包括沉积设备；适于测量该沉积设备的沉积率的沉积率传感器；适于消除所测量的沉积率的噪声成分的噪声消除器；和适于根据该噪声消除器的输出调整供给沉积设备的能量的能量供给单元。根据本专利技术的第二方面，提供一种沉积系统，包括沉积设备；向该沉积设备提供能量的能量供给单元；适于测量沉积设备沉积率的沉积率传感器；和噪声消除器，当测量时限内的沉积率与等于或大于测量时限的预定百分数的时限内的沉积率处于同一范围时，根据所测量沉积率的范围控制能量供给单元以改变供给沉积设备的能量。根据本专利技术的第三方面，提供一种控制沉积系统的方法，包括(a)测量沉积设备的沉积率；(b)确定测量时限内的沉积率与大于测量时限预定百分数的时限内的沉积率是否处于同一范围内；(c)当测量时限内的沉积率与大于测量时限预定百分数的时限内的沉积率处于同一范围内时，根据测量的沉积率的范围改变供给沉积设备的能量；和(d)重复步骤(a)至(c)。附图说明因为通过结合附图参考以下详细的描述本专利技术变得更好理解，所以本专利技术更加完整的评价以及随后的优点将很明显，附图中相似的附图标记指示相同或相似的元件，其中图1是沉积系统图；图2是根据本专利技术实施例的沉积系统图；图3是包括在图2的沉积系统中的噪声消除器的示例的FIR滤波器图；图4是包括在图2的沉积系统中的噪声消除器的另一示例的IIR滤波器图；图5是当噪声消除器的带宽逐渐降低时，包括在图2的沉积系统中的噪声消除器随着时间推移的输出变化图；图6是根据本专利技术实施例的控制沉积系统的方法的流程图；和图7是根据本专利技术另一实施例的控制沉积系统的方法的流程图。具体实施例方式图1是沉积系统图。参见图1，沉积系统包括沉积设备10、沉积率传感器20和能量供给单元30。沉积设备10包括蒸发器和喷射器。沉积率传感器20测量沉积设备10的沉积率。能量供给单元30根据沉积率传感器20所测量的沉积设备10的沉积率调整供给沉积设备的能量。利用频率与施加的重量成反比的水晶测量沉积率的水晶传感器用作沉积率传感器20。由沉积率传感器20测量的沉积率包括由于电波造成的噪声、由于输电线造成的噪声、由于冷却水流量的波动造成的噪声和由于沉积源移动造成的噪声。因此，当由沉积率传感器20测量的沉积率提供给能量供给单元30时，沉积率由于噪声而改变。这导致形成的薄膜的厚度不理想。图2是根据本专利技术实施例的沉积系统图。参见图2，根据本专利技术实施例的沉积系统包括沉积设备110、沉积率传感器120、噪声消除器130和能量供给单元140。尽管蒸发器或喷射器都可以用作沉积设备10，然而在本专利技术的这个实施例中用蒸发器。沉积设备110包括真空室111和沉积源112。真空室111保持其中为真空状态。沉积源112的沉积率根据能量供给单元140提供的能量控制。沉积源112包括沉积材料113、蒸发皿114和线圈115。沉积材料113在高温下蒸发。沉积材料113装在蒸发皿114上。线圈115与能量供给单元140相连并给蒸发皿114加热。沉积设备110在其中设置基板116或其中设置基板116和掩膜117的情况下操作，因此可以在基板116上沉积理想厚度的沉积材料113。进一步，在一个实施例中，尽管水晶传感器可以用作沉积率传感器120，然而本专利技术不局限于此。利用频率与施加的重量成反比的水晶测量沉积率的水晶传感器用作沉积率传感器120。利用当施加到水晶上的重量由于沉积增加时频率降低的原理，沉积率传感器120基于重量测量所施加的重量的增加率，也就是沉积率。此外，噪声消除器130执行消除从沉积率传感器120输出的沉积率的噪声成分的功能。低通滤波器(以下称LPF)可以用作噪声消除器130。LPF执行消除或降低从沉积率传感器120输出的噪声，也就是高频成分，并随后将结果提供给能量供给单元140的功能。这仅是一个实施例，而噪声消除器130不局限于此。根据本专利技术实施例的沉积系统的以下描述假定噪声消除器130通过LPF实现。LPF 130可以通过模拟电路或数字电路实现。LPF 130也可以通过在其中执行LPF程序的处理器实现。具有电阻器和电容器的RC电路是模拟电路的示例。有限冲激响应(FIR)滤波器或无限冲激响应(IIR)滤波器可以用作数字电路。当LPF 130通过处理器实现时，LPF 130可以被编程以执行与处理器FIR滤波器或IIR滤波器相同的操作。图3是作为包括在图2的沉积系统中的噪声消除器的示例的FIR滤波器图。参见图3，LPF 130包括多个寄存器131、多个乘法器132和一个加法器133。多个寄存器131将来自沉积率传感器120的沉积率输入依次移位。多个乘法器132对多个寄存器131的输出和滤波系数K1至Kn做乘法并输出。滤波系数K1至Kn中的每一个都有预定值。当所有的滤波系数K1至Kn是1时，LPF 130不包括乘法器132。多个寄存器131的输出直接传输给加法器133。加法器133执行计算多个乘法器132输出的总和的功能。输入到加法器133的沉积率值的数量决定平均窗和带宽。当沉积率的输入时间间隔是0.1秒时，沉积率的数量是10，时间间隔和平均窗的数量相乘变成1秒。随着输入到加法器133的沉积率值的数量增加，LPF 130的带宽降低。与此相反，随着沉积率值的数量的降低，LPF 130的带宽增加。加法器133可以由全加法器组合、半加法器组合或全加法器和半加法器组合构成。图4是作为包括在图2的沉积系统中的噪声消除器的另一示例的IIR过滤器图。参见图4，LPF 130包括加法器136、寄存器137、第一乘法器138和第二乘法器139。加法器136执行对从沉积率传感器120输出的沉积率输入和作为反馈成分的第一乘法器138的输出做加法的功能。寄存器137响应时钟信号CLK而操作，并将加法器136的输出延迟和传输给第一乘法器138。第一乘法器138将寄存器137的输出与第一系数K1相乘并输出。第一系数K1具有从0到1的值。随着第一系数K1接近0，LPF 130的带宽降低。与此相反，当第一系数K1接近1时，LPF 130的带宽增加。第二乘法器139将加法器136的输出与第二系数K2相乘并输出。第二系数K2可以是(1-第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积系统，包括：沉积设备；适于测量该沉积设备的沉积率的沉积率传感器；适于消除所测量的沉积率的噪声成分的噪声消除器；和适于根据该噪声消除器的输出调整提供给所述沉积设备的能量的能量供给单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄珉婷，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]