一种替代光刻工艺的印刷设备制造技术

技术编号:18019596 阅读:55 留言:0更新日期:2018-05-23 05:33
一种替代光刻工艺的印刷设备,依次包括片篮上载机、第一翻转机构、第一预定准单元、第一旋转印刷台、第一链式炉上载机、第一链式炉、第一链式炉下载机、第二翻转机构、第二预定准单元、第二旋转印刷台、第二链式炉上载机、第二链式炉、第二链式炉下载机、片篮下载机,且每两个相邻装置之间均通过传送皮带进行连接或对接。本申请的有益效果是:能够缩短原光刻工艺的流程,提高半导体生产效率;减少原流程中化工原料的使用量,有效降低生产成本。

A printing equipment instead of photolithography

A printing equipment replacing the photolithography process, in turn, includes a chip basket loading machine, a first flip mechanism, a first predetermined quasi unit, a first rotary printing table, a first chain furnace loading machine, a first chain furnace, a first chain furnace Downloader, a second turnover mechanism, a second predetermined unit, a second rotary printing table, and a second chain furnace. The uploading machine, the second chain furnace, the second chain furnace Downloader, the basket basket Downloader, and each two adjacent devices are connected or butted through the transmission belt. The beneficial effect of the application is as follows: it can shorten the process of the original lithography process, improve the efficiency of semiconductor production, reduce the use of chemical raw materials in the original process, and effectively reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种替代光刻工艺的印刷设备
本申请属于GPP生产
,具体地说,涉及一种替代光刻工艺的印刷设备。
技术介绍
半导体硅片光刻工艺是半导体器件制作过程中的重要工艺,用于将晶元表面薄膜的特定部分除去的工艺。在晶元的制造过程中,晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶元表面或表层内构成。这些部件是每次在一个掩膜层上生成的,并且结合生成薄膜及去除特定部分,通过光刻工艺过程,最终在晶元上保留特定图形的部分。光刻生产的目标是根据电路设计的要求,生成尺寸精确的特征图形,并且在晶元表面的位置正确且与其它部件(parts)的关联正确。传统的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。整个过程需用到涂胶机、烘干炉、光刻机、显影机等设备。过程中要用到大量有机、易燃、易挥发的产品。目前市面上的半导体器件制作过程中的光刻工艺存在以下缺点:1、需用到涂胶机,涂胶机采用旋转涂布的方式,会浪费大量的光刻胶胶液;2、光刻机对准曝光效率极低,普通光刻机单台产能仅为20片/小时;3、显影工序需使用显影液,显影液为易燃易挥发有机溶液,危险性高;4、显影液消耗量大,产品制作成本高,显影均匀性较差。
技术实现思路
有鉴于此,本申请所要解决的技术问题是提供一种替代光刻工艺的印刷设备,能够缩短原生产的流程,提高半导体生产效率,减少化工原料使用量,降低成本。为了解决上述技术问题,本申请公开了一种替代光刻工艺的印刷设备,并采用以下技术方案来实现。一种替代光刻工艺的印刷设备,依次包括片篮上载机、第一翻转机构、第一预定准单元、第一旋转印刷台、第一链式炉上载机、第一链式炉、第一链式炉下载机、第二翻转机构、第二预定准单元、第二旋转印刷台、第二链式炉上载机、第二链式炉、第二链式炉下载机、片篮下载机,且每两个相邻装置之间均通过传送皮带进行连接或对接。进一步的,所述第二链式炉下载机与所述片篮下载机之间设有第三翻转机构。进一步的,所述第一翻转机构和/或第二翻转机构包括主控端、识别端和翻转端;所述识别端和所述翻转端均与所述主控端电连接。进一步的,所述识别端包括摄像头,所述主控端包括控制电路板;所述摄像头与所述控制电路板电连接。进一步的,所述第一预定准单元和/或第二预定准单元内部设有相机,所述相机位于硅片放置位上方,所述硅片放置位的四周设有若干MARK点;所述相机与对准控制端电连接,所述对准控制端与拨杆动力连接,所述拨杆设置在所述硅片放置位的四周。进一步的,第一旋转印刷台和/或所述第二旋转印刷台包括转台,所述转台上方设有印刷机;所述转台上设有四个工位,当所述转台转动时,所述四个工位依次转到所述印刷机的印刷头下;所述转台由DD马达驱动。进一步的,所述第一链式炉上载机和/或所述第二链式炉上载机的输入端为一条轨道,输出端轨道条数为大于等于2的整数。进一步的,所述第一链式炉下载机和/或所述第二链式炉下载机的输入端轨道条数为大于等于2的整数,输出端为1条轨道。进一步的,所述第一链式炉上载机和/或所述第二链式炉上载机的输出端轨道条数与所述第一链式炉下载机和/或所述第二链式炉下载机的输入端轨道条数相同。优选的,所述第一链式炉上载机和/或所述第二链式炉上载机的输出端轨道条数与所述第一链式炉下载机和/或所述第二链式炉下载机的输入端轨道条数均为3。相较于现有技术使用光刻工艺,本申请可以获得包括以下技术效果:能够缩短工艺的流程,提高半导体生产效率;减少原流程中化工原料的使用量,有效降低生产成本。当然,实施本申请的任一产品必不一定需要同时达到以上所述的所有技术效果。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:图1是本申请印刷设备俯视图。图2是本申请片篮上载机俯视图。图3是本申请翻转机构正视、俯视图。图4是本申请旋转印刷台俯视图。图5是本申请链式炉上载机俯视图。图6是本申请链式炉下载机俯视图。图7是本申请片篮下载机俯视图。其中,图中:1、片篮上载机;2、第一翻转机构;3、第一预定准单元;4、第一旋转印刷台;5、第一链式炉上载机;6、第一链式炉;7、第一链式炉下载机;8、第二翻转机构;9、第二预定准单元;10、第二旋转印刷台;11、第二链式炉上载机;12、第二链式炉;13、第二链式炉下载机;14、第三翻转机构;15、片篮下载机。具体实施方式以下将配合附图及实施例来详细说明本申请的实施方式,藉此对本申请如何应用技术手段来解决技术问题并达成技术功效的实现过程能充分理解并据以实施。如图1所示,一种替代光刻工艺的印刷设备,依次包括片篮上载机1、第一翻转机构2、第一预定准单元3、第一旋转印刷台4、第一链式炉上载机5、第一链式炉6、第一链式炉下载机7、第二翻转机构8、第二预定准单元9、第二旋转印刷台10、第二链式炉上载机11、第二链式炉12、第二链式炉下载机13、第三翻转机构14、片篮下载机15。各独立单元之间均通过传送皮带进行连接或对接,使硅片在整个印刷设备上顺序运送。片篮指的是装有硅片的容器,通常四周设有孔,方便在半导体生产过程中需要药液浸泡或者清洗的各工位时液体浸入和流出。片篮上载机和片篮下载机用于将装有待印刷硅片的片篮运送到印刷设备上以及将装有印刷完成后硅片的片篮送下印刷设备。除此之外,片篮上载机还负责将叠放的硅片进行分片,使之单片的运送到第一翻转机构。片篮上载机还负责将印刷完全后的单片硅片进行垒叠,将叠放的硅片放入片篮中,在送下印刷设备。本实施例片篮是底部可拆除的容器,并被架设在片篮上载机的皮带上,片篮与皮带上表面的距离略大于一片硅片的厚度。片篮底部被拆除后,叠放的硅片置于皮带上,随着皮带的滚动,使得最底下的一片硅片被穿送出去,原第二位的硅片称为新的最下方硅片,从而将叠放的硅片分片。片篮下载机传送皮带的末端设有支架,支架架设一个支撑板,支撑板的高度低于皮带的高度,高度差为1-2个硅片厚度。支架由精准的丝杠电机支撑,控制支架的上升和下降。下载机里设有电路板,电路板与电机电连接,用于控制电机的转停。传送皮带上的硅片到达末端后,由于传动皮带的推动作用使得硅片移动到支撑板上。支撑板上硅片的高度增高时,支架在电机的作用下下降,每次下降高度为1个硅片厚度从而保证叠放硅片的上表面与传送皮带之间稳定的高度差。支架下降可以按一定的时间间隔进行,该时间间隔为传动皮带传送一个硅片的时间间隔。如果硅片摆放整齐度有差异,则可以在支架旁边与原始支撑板等高处设置红外感应装置,用于实时感应叠放硅片的高度。红外感应装置与电路板电连接,感应到的高度信息被输送至电路板的芯片中,芯片将高度信息与预设在芯片内的标准高度信息做对比,判断是否需要将支架降低,若需要则控制丝杠电机做下降运动,从而将支架和支撑板降低。叠放好的硅片可由人工放入片篮中,也可通过机械臂将叠放好的硅片放入片篮中。片篮上载机1的出片端通过传送皮带与第一翻转机构对接,将待印刷硅片输送到翻转机构。在第一翻转机构执行翻转识别后经传送皮带进入第一预对准单元。第一翻转机构对硅片表面进行识别,保证硅片的第一表面朝上。第一翻转机构2包括主控端、识别端和翻转端;识别端和翻转端均与主控端电连接。识别端本文档来自技高网...
一种替代光刻工艺的印刷设备

【技术保护点】
一种替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:依次包括片篮上载机(1)、第一翻转机构(2)、第一预定准单元(3)、第一旋转印刷台(4)、第一链式炉上载机(5)、第一链式炉(6)、第一链式炉下载机(7)、第二翻转机构(8)、第二预定准单元(9)、第二旋转印刷台(10)、第二链式炉上载机(11)、第二链式炉(12)、第二链式炉下载机(13)、片篮下载机(15),且每两个相邻装置之间均通过传送皮带进行连接或对接。

【技术特征摘要】
1.一种替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:依次包括片篮上载机(1)、第一翻转机构(2)、第一预定准单元(3)、第一旋转印刷台(4)、第一链式炉上载机(5)、第一链式炉(6)、第一链式炉下载机(7)、第二翻转机构(8)、第二预定准单元(9)、第二旋转印刷台(10)、第二链式炉上载机(11)、第二链式炉(12)、第二链式炉下载机(13)、片篮下载机(15),且每两个相邻装置之间均通过传送皮带进行连接或对接。2.根据权利要求1所述替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:所述第二链式炉下载机(13)与所述片篮下载机(15)之间设有第三翻转机构(14)。3.根据权利要求1所述替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:所述第一翻转机构(2)和/或第二翻转机构(8)包括主控端、识别端和翻转端;所述识别端和所述翻转端均与所述主控端电连接。4.根据权利要求3所述替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:所述识别端包括摄像头,所述主控端包括控制电路板;所述摄像头与所述控制电路板电连接。5.根据权利要求1所述替代光刻工艺的印刷设备,其特征在于:所述第一预定准单元(3)和/或第二预定准单元(9)内部设有相机,所述相机位于硅片放置位上方,所述硅片放置位的四周设有若干MARK点;所述相机与对...

【专利技术属性】
技术研发人员:齐风甄辉王彦君孙晨光徐长坡陈澄梁效峰杨玉聪王晓捧王宏宇徐艳超
申请(专利权)人:天津环鑫科技发展有限公司
类型:新型
国别省市:天津,12

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